衬底及其制造方法
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117226680A

    公开(公告)日:2023-12-15

    申请号:CN202310687732.1

    申请日:2023-06-12

    Abstract: 本发明涉及一种衬底及其制造方法。本文中提供了用于制造适于EUVL的掩模坯料的衬底的方法,以及能够抑制深度小于5nm的凹陷缺陷的方法。本发明提供了制造衬底的方法,其中通过具有配备有抛光垫的上抛光板的抛光设备来进行最终抛光,所述方法包括以下步骤:将衬底原料放置在抛光设备中,使得该衬底原料的主表面朝向该上抛光板;旋转上抛光板并在衬底原料的主表面上与抛光浆料一起抛光该衬底原料;以及将保持旋转的上抛光板升高以使其与抛光的衬底原料的主表面分离。

    胶态二氧化硅抛光组合物和使用其制造合成石英玻璃基板的方法

    公开(公告)号:CN104099025B

    公开(公告)日:2019-08-20

    申请号:CN201410129403.6

    申请日:2014-04-02

    Abstract: 本发明涉及胶态二氧化硅抛光组合物和使用其制造合成石英玻璃基板的方法。本发明提供一种抛光组合物,其包含球形二氧化硅颗粒和缔合二氧化硅颗粒的胶体分散体作为研磨料。当在抛光合成石英玻璃基板的步骤中使用时,该抛光组合物确保比常规胶态二氧化硅更高的抛光速率,并且有效防止基板表面上的任何微小缺陷,从而提供具有高平滑度的基板。该抛光组合物可作为二氧化铈的替代抛光组合物用于抛光经研磨的表面。

    胶态二氧化硅抛光组合物和使用其制造合成石英玻璃基板的方法

    公开(公告)号:CN104099025A

    公开(公告)日:2014-10-15

    申请号:CN201410129403.6

    申请日:2014-04-02

    Abstract: 本发明涉及胶态二氧化硅抛光组合物和使用其制造合成石英玻璃基板的方法。本发明提供一种抛光组合物,其包含球形二氧化硅颗粒和缔合二氧化硅颗粒的胶体分散体作为研磨料。当在抛光合成石英玻璃基板的步骤中使用时,该抛光组合物确保比常规胶态二氧化硅更高的抛光速率,并且有效防止基板表面上的任何微小缺陷,从而提供具有高平滑度的基板。该抛光组合物可作为二氧化铈的替代抛光组合物用于抛光经研磨的表面。

    掩模坯料基板及其制造方法
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN115685667A

    公开(公告)日:2023-02-03

    申请号:CN202210856517.5

    申请日:2022-07-20

    Abstract: 本发明涉及掩模坯料基板及其制造方法。掩模坯料基板,当在以下情况下时,具有100nm或更小的计算表面的平坦度:设置穿过第一和第二主表面的中心部分并在水平方向上延伸的计算区域,切割出第一区域表面,通过设置基准平面和旋转轴并将基板旋转180°切割出第二区域表面,计算最小二乘平面,将第一和第二区域表面转化成最小二乘平面上位置的高度图,通过对称地移动所述高度图将第二区域表面的高度图设置为倒置高度图,和将通过第一区域表面的高度图的高度和第二区域表面的倒置高度图相加而获得的计算高度图设置为所述计算表面。

    光学元件封装用盖、光学元件封装件及它们的制造方法

    公开(公告)号:CN112673485A

    公开(公告)日:2021-04-16

    申请号:CN201980060164.4

    申请日:2019-09-02

    Abstract: 光学元件封装用盖,是具备窗材和金属系粘接层的光学元件封装用盖,所述窗材设置在内部容纳有光学元件的容纳构件的光学元件的发光方向前方,所述金属系粘接层形成在窗材与容纳构件相接的部分,所述金属系粘接层用包含采用被覆剂被覆的金属纳米粒子、焊料粉末和分散介质的粘接组合物形成。能够解决短波长的光引起的劣化和开裂、发光元件的发热引起的粘接剂的变形或坍塌、与这些相伴的长期可靠性的问题。即,能够提供耐热性、耐紫外线性等优异的光学元件封装用盖及光学元件封装件。

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