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公开(公告)号：CN118762983A
公开(公告)日：2024-10-11
申请号：CN202411030514.1
申请日：2019-01-11
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 大塚庆崇
IPC: H01L21/02 , B23K20/00 , H01L21/68 , H01L21/683
Abstract: 本发明提供一种接合系统，具备：在铅垂方向上分离地配置的第一保持部和第二保持部；对位部，其通过使所述第一保持部与所述第二保持部相对地移动来进行被所述第一保持部保持的第一基板与被所述第二保持部保持的第二基板的水平方向对位；按压部，其将被所述第一保持部保持的所述第一基板和被所述第二保持部保持的所述第二基板进行压合；测定部，其测定通过所述按压部被进行了接合的所述第一基板的对准标记与所述第二基板的对准标记的位置偏离；以及对位控制部，其基于在过去的接合中产生的所述位置偏离来控制本次的接合中的所述水平方向对位。
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公开(公告)号：CN111630627B
公开(公告)日：2024-08-16
申请号：CN201980008859.8
申请日：2019-01-11
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 大塚庆崇
IPC: H01L21/02 , B23K20/00 , H01L21/68 , H01L21/683
Abstract: 本发明提供一种接合系统，具备：在铅垂方向上分离地配置的第一保持部和第二保持部；对位部，其通过使所述第一保持部与所述第二保持部相对地移动来进行被所述第一保持部保持的第一基板与被所述第二保持部保持的第二基板的水平方向对位；按压部，其将被所述第一保持部保持的所述第一基板和被所述第二保持部保持的所述第二基板进行压合；测定部，其测定通过所述按压部被进行了接合的所述第一基板的对准标记与所述第二基板的对准标记的位置偏离；以及对位控制部，其基于在过去的接合中产生的所述位置偏离来控制本次的接合中的所述水平方向对位。
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公开(公告)号：CN110718495B
公开(公告)日：2024-05-14
申请号：CN201910628978.5
申请日：2019-07-12
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种接合装置和接合方法，能够在将基板彼此接合的接合装置中抑制基板间的位置偏离。基于本公开的接合装置具备第一保持部、第二保持部、摄像单元以及移动机构。第一保持部保持第一基板。第二保持部与第一保持部相向地配置，用于保持与第一基板接合的第二基板。摄像单元包括：第一摄像部，其拍摄在第一基板的与第二基板相向的面形成的第一对准标记；以及第二摄像部，其拍摄在第二基板的与第一基板相向的面形成的第二对准标记。移动机构使摄像单元在第一保持部与第二保持部之间的平面区域内沿第一方向以及与第一方向交叉的第二方向移动。
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公开(公告)号：CN108133903B
公开(公告)日：2023-02-17
申请号：CN201711247165.9
申请日：2017-12-01
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明涉及接合装置、接合系统、接合方法以及计算机存储介质。检查基板的接合处理的状态来恰当地进行该接合处理。用于将上晶圆(WU)与下晶圆(WL)进行接合的接合装置具有：上卡盘(140)，其进行抽真空来将上晶圆(WU)吸附保持在其下表面；下卡盘(141)，其设置在上卡盘(140)的下方，进行抽真空来将下晶圆(WL)吸附保持在其上表面；压动构件(190)，其设置于上卡盘(140)，用于按压上晶圆(WU)的中心部；以及多个传感器(175)，多个传感器(175)设置于上卡盘(140)，检测上晶圆WU的从上卡盘(140)的脱离。
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公开(公告)号：CN114258482A
公开(公告)日：2022-03-29
申请号：CN202080059026.7
申请日：2020-08-17
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本公开的检查装置(80)的自我诊断方法包括进行配置的工序、进行照射的工序、接受光的工序以及判定光量的异常的工序。进行配置的工序通过使保持重合基板(T)的外周部并设置有具有使光衰减的衰减构件(720)的诊断部(700)的保持部(400)移动，来将衰减构件配置于向重合基板照射光的照明部(610、620)与拍摄重合基板的摄像部(51、520)之间。进行照射的工序在进行配置的工序之后，从照明部以设定光量照射光。接受光的工序在进行照射的工序之后，使用摄像部接受从照明部照射出并透过了衰减构件的光。判定光量的异常的工序在接受光的工序之后，基于由摄像部接受到的光的受光量来判定从照明部照射出的光的光量的异常。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN108133903A
公开(公告)日：2018-06-08
申请号：CN201711247165.9
申请日：2017-12-01
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: H01L24/75 , B32B15/01 , B32B37/0046 , B32B37/10 , B32B41/00 , B32B2041/04 , B32B2457/14 , H01L21/187 , H01L21/2007 , H01L21/67092 , H01L21/67253 , H01L21/67259 , H01L21/67742 , H01L21/68 , H01L21/6838 , H01L24/80 , H01L24/83 , H01L2224/7515 , H01L2224/753 , H01L2224/75302 , H01L2224/75305 , H01L2224/7531 , H01L2224/7555 , H01L2224/7565 , H01L2224/75744 , H01L2224/75745 , H01L2224/75901 , H01L2224/75981 , H01L2224/75986 , H01L2224/80009 , H01L2224/80201 , H01L2224/80894 , H01L2224/80908 , H01L2224/83009 , H01L2224/83201 , H01L2224/83894 , H01L2224/83908 , H01L21/67121 , H01L21/67242
Abstract: 本发明涉及接合装置、接合系统、接合方法以及计算机存储介质。检查基板的接合处理的状态来恰当地进行该接合处理。用于将上晶圆(WU)与下晶圆(WL)进行接合的接合装置具有：上卡盘(140)，其进行抽真空来将上晶圆(WU)吸附保持在其下表面；下卡盘(141)，其设置在上卡盘(140)的下方，进行抽真空来将下晶圆(WL)吸附保持在其上表面；压动构件(190)，其设置于上卡盘(140)，用于按压上晶圆(WU)的中心部；以及多个传感器(175)，多个传感器(175)设置于上卡盘(140)，检测上晶圆WU的从上卡盘(140)的脱离。
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公开(公告)号：CN102157424B
公开(公告)日：2014-09-24
申请号：CN201110025022.X
申请日：2011-01-21
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/683 , H01L21/677 , B65G49/06
Abstract: 本发明提供基板输送装置及基板输送方法，在以张的形式1张1张地水平输送被处理基板的基板处理装置中缩短了从基板搬入到输送开始的生产节拍时间并提高了生产率。该基板输送装置具有：悬浮用载物台，其使被处理基板悬浮；一对导轨，其平行配置在悬浮用载物台的左右侧方；多个基板载持件，其能分别沿着一对导轨移动，能从下方吸附保持基板的边缘部；对准部件，其相对于被搬入到悬浮用载物台的基板搬入位置的基板从待机位置到规定位置自由进退，与基板接触而将该基板配置在规定位置；基板支承部件，其在悬浮用载物台的基板搬入位置处从该基板的下方支承被对准部件配置在规定位置的基板；控制部，其控制基板载持件、对准部件及基板支承部件的动作。
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公开(公告)号：CN101495244B
公开(公告)日：2011-12-14
申请号：CN200780028398.8
申请日：2007-07-05
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: H01L21/6715
Abstract: 在上浮输送方式中有效地降低或抑制在形成于被处理基板上的处理液的涂敷膜上产生条纹状的涂敷不均。在涂敷区域中，沿X方向延伸的多条喷出线(C1、C3、C5、...)和沿X方向延伸的多条吸引线(C2、C4、C6、...)在Y方向上以一定的间距(W)交替地排列，在各喷出线(C2n-1)上隔开一定间隔(3D)地配置喷出口(88)，并且，在各吸引线(C2n)上隔开一定间隔(3D)地配置吸引口(90)，在相邻的喷出线(C2n-1)和吸引线(C2n)之间，喷出口(88)和吸引口(90)在X方向上偏移一定距离(D)。进而，长槽(88a、90a)从喷出口(88)、吸引口(90)的上端部向顺着输送方向(X方向)的方向和与其相反的方向笔直地延伸成两路。
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公开(公告)号：CN1940537A
公开(公告)日：2007-04-04
申请号：CN200610159929.4
申请日：2006-09-26
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种能以良好的灵敏度检测平面状基板的异常状态的光学式异物检测装置和搭载有该装置的处理液涂布装置。使以水平状态被载置在载物台上的被处理基板与具有沿上述基板的宽度方向延伸的狭缝状喷出开口的处理液供给喷嘴相对移动，将从处理液供给喷嘴呈带状喷出的处理液涂布在基板的表面。在相对于上述基板相对移动的处理液供给喷嘴的移动方向的前方，搭载有由投光部和受光部构成的光透过型传感器单元。上述传感器单元构成为：具有检测受光部的光束的受光输出是否为规定值以上的第一检测单元、和检测上述受光输出的单位时间的变化量是否为规定值以上的第二检测单元，根据上述第一检测单元和第二检测单元的检测输出的逻辑和，探测异物的存在。
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公开(公告)号：CN1828828A
公开(公告)日：2006-09-06
申请号：CN200610058060.4
申请日：2006-02-28
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/677 , B05C5/02
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，第一和第二基板搬运部(84A、84B)一起保持基板(G)进行搬运的区间，不是从搬入位置到搬出位置的全部搬运区间，而是从涂敷开始位置到涂敷结束位置的中间区间。第一基板搬运部(84A)当将基板(Gi)搬运到涂敷结束位置时，结束对该基板(G)的搬运目的，直接返回到搬入位置，开始后续新基板(Gi+1)的搬运。此外，第二基板搬运部(84B)单独将基板(Gi)从涂敷结束位置搬运到搬出位置，接着从搬入位置返回到面前的涂敷开始位置，等待第一基板搬运部(84A)单独将下一块基板(Gi+1)搬运到该位置。本发明能大幅缩短以无旋转方式将处理液供给或涂敷在被处理基板上的处理工作的间歇时间。
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