三维半导体存储器件
    11.
    发明公开

    公开(公告)号:CN110867448A

    公开(公告)日:2020-03-06

    申请号:CN201910762891.7

    申请日:2019-08-16

    Abstract: 一种三维半导体存储器件包括:衬底,包括沿第一方向布置的单元阵列区域和第一连接区域;以及衬底上的第一块结构,第一块结构包括:下叠层,包括竖直堆叠在衬底上的多个下电极;以及暴露下叠层的中间叠层,中间叠层包括竖直堆叠在下叠层上的多个中间电极,其中,在单元阵列区域上,第一块结构在与第一方向交叉的第二方向上具有第一宽度,并且其中,在第一连接区域上,第一块结构在第二方向上具有大于第一宽度的第二宽度。

    检查设备和检查方法、以及半导体器件制造方法

    公开(公告)号:CN110857917A

    公开(公告)日:2020-03-03

    申请号:CN201910418481.0

    申请日:2019-05-20

    Abstract: 描述了与基于结构照明(SI)的检查设备有关的系统和方法。基于SI的检查设备可以能够以高分辨率实时精确地检查检查对象,同时减少光的损失。还描述了检查方法,以及包括基于SI的检查方法的半导体器件制造方法。检查设备可包括:光源,配置为产生并输出光束;相移光栅(PSG),配置为将来自光源的光束转换成SI;分束器,配置为使SI入射到检查对象上并输出来自检查对象的反射光束;台架,能够移动检查对象并且在其上布置检查对象;以及延时积分(TDI)相机,配置为通过检测反射光束来捕获检查对象的图像。

    光学度量装置
    13.
    发明公开
    光学度量装置 审中-公开

    公开(公告)号:CN119104566A

    公开(公告)日:2024-12-10

    申请号:CN202410722721.7

    申请日:2024-06-05

    Abstract: 一种光学度量装置,包括:照明单元,其被配置为同时将第一照明光和第二照明光照射到衬底表面上,第一照明光以与测量角的差大于临界角的第一入射角照射,第二照明光以与测量角的差等于或小于临界角的第二入射角照射,第二照明光的波长不同于第一照明光的波长;光学系统,其被配置为收集根据第一照明光和所述第二照明光的来自衬底的表面的反射光;以及多通道相机,其被配置为基于由光学系统收集的反射光来生成其中衬底的表面的暗场图像和明场图像被整合的原始图像。

    三维半导体存储器件
    14.
    发明授权

    公开(公告)号:CN111326520B

    公开(公告)日:2024-03-12

    申请号:CN201911293508.4

    申请日:2019-12-12

    Abstract: 一种三维半导体存储器件包括:多个第一绝缘层,垂直地堆叠在外围逻辑结构上;第二绝缘层,与第一绝缘层交替地堆叠;导电层,与第一绝缘层交替地堆叠并且设置在第二绝缘层的侧壁上;贯通互连,穿透第一绝缘层和第二绝缘层从而连接到外围逻辑结构;以及第一导电线,电连接到导电层的多个第一导电层。

    三维半导体存储器件
    15.
    发明授权

    公开(公告)号:CN110867448B

    公开(公告)日:2023-09-05

    申请号:CN201910762891.7

    申请日:2019-08-16

    Abstract: 一种三维半导体存储器件包括:衬底,包括沿第一方向布置的单元阵列区域和第一连接区域;以及衬底上的第一块结构,第一块结构包括:下叠层,包括竖直堆叠在衬底上的多个下电极;以及暴露下叠层的中间叠层,中间叠层包括竖直堆叠在下叠层上的多个中间电极,其中,在单元阵列区域上,第一块结构在与第一方向交叉的第二方向上具有第一宽度,并且其中,在第一连接区域上,第一块结构在第二方向上具有大于第一宽度的第二宽度。

    三维半导体存储器件
    17.
    发明公开

    公开(公告)号:CN110858595A

    公开(公告)日:2020-03-03

    申请号:CN201910772275.X

    申请日:2019-08-21

    Abstract: 本发明公开了一种三维半导体存储器件,其可以包括:第一堆叠块,包括在基板上在第一方向上布置的第一堆叠;第二堆叠块,包括在基板上在第一方向上布置的第二堆叠;以及分离结构,设置在基板上在第一堆叠块和第二堆叠块之间。分离结构可以包括第一模层和第二模层,其在垂直于基板的顶表面的垂直方向上堆叠。

    执行检验和计量处理的设备和方法

    公开(公告)号:CN110579478A

    公开(公告)日:2019-12-17

    申请号:CN201910417361.9

    申请日:2019-05-20

    Abstract: 公开了一种执行检验和计量处理的设备和方法。所述设备可包括:工作台,其被被配置为在其上装载基板;传感器,其位于工作台上;物镜,其位于传感器和工作台之间;光源,其产生将通过物镜被发送到基板的照明光;第一带滤波部件,其位于光源和物镜之间,以将照明光的波长控制在第一带宽内;以及第二带滤波部件,其位于光源和物镜之间,以将照明光的波长控制在第二带宽内,第二带宽小于第一带宽。

    光学器件的检测装置及检测方法

    公开(公告)号:CN1904674A

    公开(公告)日:2007-01-31

    申请号:CN200610007307.X

    申请日:2006-02-07

    Abstract: 本发明涉及光学器件的检测装置及检测方法。依据本发明所提供的光学器件的检测装置,包含:用于向所述光学器件射出光的激光器;对于所述激光器射出光的相位进行变更的相位变更部;用于将通过所述光学器件的光按特定方向偏振的偏振部;用于集中所偏振光的集光部;用于将所集中的光变换为电信号的光二极管;用于处理所述电信号的信号处理部。据此提供可以测定板状光学器件的双折射和厚度变形程度的光学器件的检测装置及检测方法。

Patent Agency Ranking