公开(公告)号：CN102806179B

公开(公告)日：2016-04-13

申请号：CN201210113664.X

申请日：2012-04-18

Applicant: 东丽工程株式会社

Inventor： 宫岛勇也 ,  奥田大辅 ,  冈本俊一 ,  内泻外茂夫

IPC: B05C13/02 ,  B05D3/00

Abstract: 本发明提供一种悬浮传送加热装置，能够避免在涂布膜上产生干燥斑地对基板进行加热的同时进行传送，该悬浮传送加热装置包括：振动板部(2)，用于使基板超声波振动悬浮；加热器部(3)，用于加热所述振动板部；超声波产生部(4)，用于向所述振动板部提供超声波振动；传送部(5)，支撑基板的端部，沿与悬浮方向垂直的方向传送基板，其中，加热器部(3)在振动板部(2)的使基板悬浮的面的背面侧上与振动板部(2)形成预定间隔而设置，与基板的传送方向垂直相交的方向的振动板部(2)的尺寸大于同方向的基板(W)的尺寸，通过由加热器(3)部对振动板部(2)进行加热，悬浮传送的基板(W)的整个面被振动板部(2)加热。

公开(公告)号：CN105413957A

公开(公告)日：2016-03-23

申请号：CN201510593961.2

申请日：2015-09-17

Applicant: 东丽工程株式会社

Inventor： 堀内展雄 ,  伊藤祯彦

IPC: B05C5/02 ,  B05D1/26

Abstract: 涂布器、涂布装置和涂布方法。提供一种涂布器，能够迅速地将积存在涂布器内的气泡排出到外部。本发明的涂布器具有：第1供给口(31)，其供给涂布液；第1歧管(11)，其与第1供给口(31)连接；喷出缝(22)，其喷出涂布液；第2歧管(12)，其与喷出缝(22)连接；以及连结节流流路(21)，其连结第1歧管(11)和第2歧管(12)，第1歧管(11)连接有将积存在第1歧管(11)内的气泡排出到外部的第1排出口(41)，第2歧管(12)连接有供给涂布液的第2供给口(32)和将积存在第2歧管(12)内的气泡排出到外部的第2排出口(42)。

公开(公告)号：CN103125012B

公开(公告)日：2016-01-20

申请号：CN201180046080.9

申请日：2011-07-29

Applicant: 东丽工程株式会社

Inventor： 堀内展雄

IPC: H01L21/027 ,  B05C15/00

CPC classification number: C23C16/45557 ,  G03F7/16 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/67253

Abstract: 本发明提供一种基板处理系统，即使惰性气体的供给流量产生偏差，也能够稳定地保持腔室内的压力，在初期运行时，通过增加惰性气体的供给流量来能够缩短被惰性气体化所需的时间，为此，该基板处理系统包括：基板处理部，对基板进行规定的处理；腔室，将所述基板处理部以密封状态收纳；气体供给部，向腔室内供给惰性气体；气体排放部，排放腔室内的气体，其中，按照所述腔室内的压力达到比腔室外的压力大的腔室设定压力的方式调节所述气体供给部的惰性气体的供给流量和所述气体排放部的排放流量。

公开(公告)号：CN103429356B

公开(公告)日：2015-04-08

申请号：CN201280009595.6

申请日：2012-02-13

Applicant: 东丽工程株式会社

Inventor： 东野繁 ,  友枝哲

IPC: B05D1/26 ,  B05C11/00 ,  G02B5/20

CPC classification number: B05C5/0216 ,  B05C5/0212 ,  B05C11/1021 ,  B05C13/02

Abstract: 本发明提供涂布方法和涂布装置，对形成有多个凹部的具有可挠性的基体材料能够用更少的工时且简单的构成定位，并通过喷墨方式向各凹部涂布油墨。具体而言，长尺寸方向上受张力并以规定高度（HR）被保持的同时被定位在短尺寸方向（Y）的基体材料（F）以图像显示区域（S）单元被供给到吸附板（8）上后被固定，并检测被吸附固定的图像显示区域的形状变形，根据所检测的图像显示区域的形状变形，制作绘图数据（Dm），该数据决定对配置在图像显示区域的多凹部（P）的各凹部排出油墨的喷嘴，多个喷嘴（13）从基体材料的侧部附近的原始位置（HP）向短尺寸方向移动的同时从多个喷嘴中的根据绘图数据被选择的喷嘴向图像显示区域的多个凹部的各个凹部排出油墨。

公开(公告)号：CN104226542A

公开(公告)日：2014-12-24

申请号：CN201410204719.7

申请日：2014-05-15

Applicant: 东丽工程株式会社

Inventor： 林田健儿 ,  谷野圣 ,  川竹洋 ,  堀内展雄 ,  伊藤祯彦

IPC: B05C5/00 ,  B05C11/10

Abstract: 本发明提供一种涂布器以及涂布装置，能够迅速排出涂布器(3)的上侧歧管(11)和下侧歧管(12)内的空气。所述涂布器包括：流入口(18)，用于流入涂布液；排出细缝(21)，用于排出涂布液，所述排出细缝在一个方向上长长地形成且在与所述一个方向垂直的方向上狭窄地形成。所述涂布器进一步包括：上侧歧管，与流入口连接；下侧歧管，与排出细缝连接；节流流路(22)，连接上侧歧管与下侧歧管的同时在一个方向上长长地形成且在与一个方向垂直的方向上狭窄地形成；排气孔(32)，在包含该节流流路与下侧歧管的境界(40)的区域(A)上开口。

公开(公告)号：CN104136657A

公开(公告)日：2014-11-05

申请号：CN201380011749.X

申请日：2013-01-16

Applicant: 东丽工程株式会社

Inventor： 藤元高佳 ,  山下雅充

IPC: C23C16/42 ,  B32B9/00

CPC classification number: H01L31/0203 ,  C23C16/401 ,  C23C16/505 ,  H01L21/56 ,  H01L23/291 ,  H01L51/5253 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

Abstract: 本发明的目的在于提供在有机物与无机物混杂的基材中对其两种物质的密合性高、且阻隔性高的气体阻隔膜的膜结构和制造方法。具体地说，提供一种化学沉积膜，其包含硅原子、氧原子、碳原子和氢原子，该氧原子的浓度为10元素％～35元素％，该化学沉积膜是通过等离子体CVD法形成的；以及提供一种层积体，其具备：该化学沉积膜；包含硅原子和0元素％以上且小于10元素％的氧原子并通过等离子体CVD法形成的第2化学沉积膜；以及包含硅原子和超过35元素％且70元素％以下的氧原子并通过等离子体CVD法形成的第3化学沉积膜，在化学沉积膜的一个面上层积有第2化学沉积膜和第3化学沉积膜。

公开(公告)号：CN102459430B

公开(公告)日：2014-10-29

申请号：CN201080023249.4

申请日：2010-05-24

Applicant: 松下电器产业株式会社 ,  东丽工程株式会社

Inventor： 松崎义则 ,  藤田和彦 ,  田代雅也 ,  小林真也

IPC: C08J5/24 ,  H05K3/00

CPC classification number: H05K1/0366 ,  H05K2201/029 ,  H05K2203/0759 ,  H05K2203/1545 ,  H05K2203/1572

Abstract: 本发明的目的在于，提供能够在各面控制预浸料的两面的树脂膜的膜厚、在预浸料的内部不残留气泡且生产率好的印刷布线板用预浸料的制造方法以及印刷布线板用预浸料制造装置。印刷布线板用预浸料的制造方法具有沿长边方向搬运形成为长条的基材板(3)并且对基材板(3)的两面连续地涂敷树脂液(4)的工序，其中，在利用第1涂敷装置(1a)的涂敷前端部(2)施加按压而使基材板(3)弯曲后的状态下对基材板(3)的一面进行涂敷之后，在利用第2涂敷装置(1b)的涂敷前端部(2)施加按压而使基材板(3)弯曲后的状态下，对基材板(3)的相反面进行涂敷。作为第1涂敷装置(1a)以及第2涂敷装置(1b)，可以使用涂敷机或者辊涂机。

公开(公告)号：CN102674702B

公开(公告)日：2014-05-28

申请号：CN201210034636.9

申请日：2012-02-16

Applicant: 东丽工程株式会社

Inventor： 北村义之 ,  谷义则 ,  西元美纪 ,  伊藤祯彦 ,  内山悟 ,  山田浩志

IPC: C03C17/00

Abstract: 本发明涉及清扫部件和涂布器的清扫方法、清扫装置以及显示器用部件的制造方法，该清扫部件在清扫时通过提高从涂布器去除的涂布液沿着清扫部件流出的速度，使该涂布液不再附着在涂布器上，且由于涂布液或清洗用溶剂等不残留而不会导致涂布膜厚度异常或涂布膜面的缺陷，该清扫部件具有相对而置的第一面和第二面、且一边与在涂布器的一个方向上延伸的排出口的排出口面和该排出口面的两个邻接面接触一边在该一个方向上滑动，由此对该排出口面和该两个邻接面进行清扫，并且包括：清扫部，设置在第一面侧上，并与排出口面和两个邻接面同时接触；多个流出路径面，以清扫部为起点，一直延伸到第二面侧；其中，在流出路径面上，在第二面侧设置有切槽。

公开(公告)号：CN103449732A

公开(公告)日：2013-12-18

申请号：CN201310182127.5

申请日：2013-05-16

Applicant: 东丽工程株式会社

Inventor： 堀内展雄

IPC: C03C17/00

Abstract: 本发明提供一种涂布装置，即使碰撞对象物混过保护部件也能够防止管头部的狭缝喷嘴受损，该装置包括：平台，用于载置基板；涂布单元，相对于在所述平台上载置的基板相对移动的同时从狭缝喷嘴排出涂布液而在基板上形成涂布膜；保护单元，与所述狭缝喷嘴相比设置在靠涂布方向进行一侧上，保护喷嘴不被碰撞对象物损害；其中，所述保护单元包括多个保护部件，所述保护部件具有至少狭缝喷嘴的长尺寸方向尺寸以上的尺寸且呈沿着狭缝喷嘴的形状，在这些保护部件中，在最靠近涂布方向进行一侧配置的前头保护部件和与该前头保护部件相比配置在涂布方向后方一侧的后方保护部件之间，设置有捕捉碰撞对象物的捕捉收纳部。

公开(公告)号：CN101274313B

公开(公告)日：2012-12-19

申请号：CN200810087497.X

申请日：2008-03-28

Applicant: 东丽工程株式会社

Inventor： 森俊裕 ,  中泽源伸

IPC: B05C5/02 ,  B05C11/02 ,  B05C13/02 ,  B05D1/26 ,  C03C17/00

Abstract: 本发明提供一种即使在引导支承架行走的导轨被分割的情况下，也能够避免大量地生产不良基板、并能够提高涂布基板的合格率的涂布装置及涂布方法。该涂布装置具备：配设有保持基板的载物台的基台、在上述基台上被设置成沿特定方向延伸的状态且被分割成多个的轨道、以及沿上述轨道相对上述基板进行相对行走并向上述基板上涂布涂布液的涂布单元；该涂布装置具有如下构成：设置了检测上述涂布单元的动作的变动的检测机构，根据该变动检测机构检测出的结果来判断基板上的涂布状态是否良好，在判断涂布状态不适当的情况下，使上述涂布单元停止。