公开(公告)号：CN108701635A

公开(公告)日：2018-10-23

申请号：CN201780013592.2

申请日：2017-03-09

申请人： 东丽工程株式会社

发明人： 滨川健史 ,  奥田大辅 ,  森俊裕 ,  冈本贯志 ,  伊藤俊文

IPC分类号： H01L21/677 ,  B65G49/06 ,  G02F1/13 ,  H01L21/027 ,  B05C13/02

CPC分类号： B65G49/06 ,  B05C13/02 ,  G02F1/13 ,  H01L21/027 ,  H01L21/677

摘要： 提供基板浮起输送装置，能够避免装置结构的复杂化，能够不提高成本而将浮起的基板容易地保持为恒定高度。具体而言，基板浮起输送装置具有：浮起载台，其使基板浮起；基板保持单元，其对借助浮起载台而浮起的基板进行保持；以及输送驱动部，其在利用基板保持单元对基板进行了保持的状态下使基板保持单元移动，从而使基板在输送方向上移动，基板保持单元具有：多个吸附部，它们对基板进行吸附；以及保持框架部，其对这些所有的吸附部按照在输送方向上并列的状态进行安装，保持框架部借助升降部而设置于输送驱动部，并形成为：通过使升降部进行动作，从而保持框架部进行升降动作而使所有的吸附部相对于基板进行接近离开动作。

公开(公告)号：CN101439329A

公开(公告)日：2009-05-27

申请号：CN200810178115.4

申请日：2008-11-19

申请人： 东丽工程株式会社

发明人： 森俊裕 ,  伊藤祯彦

IPC分类号： B05C5/02 ,  B05C13/02 ,  B05B13/04

摘要： 一种将吸附基板的吸引力设定成不会产生涂敷不均的程度时也能够抑制涂敷装置作业周期长期化的涂敷装置及其基板保持方法。这种涂敷装置具备：在工作台的表面形成的吸引孔中产生吸引力、将基板吸附保持在工作台的表面的基板保持装置和相对于基板相对移动且喷出涂敷液的涂敷单元，基板保持装置具有通过调节对基板附加的压力从而能够调节对基板的吸引力的压力调节部，该压力调节部能够调节成初始压和保持压，初始压是吸附刚刚载置在工作台的表面的基板，保持压是在利用该初始压吸附基板后、维持基板保持在工作台的表面的状态，该保持压设定成小于所述初始压。

公开(公告)号：CN106684014B

公开(公告)日：2022-01-04

申请号：CN201610579895.8

申请日：2016-07-21

申请人： 东丽工程株式会社

发明人： 滨川健史 ,  奥田大辅 ,  森俊裕 ,  冈本贯志

IPC分类号： H01L21/67 ,  H01L21/677

摘要： 提供基板浮起输送装置，即使对于宽度方向上尺寸大的宽幅基板也能够一边高精度地维持平面度一边进行输送。该基板浮起输送装置具有：浮起载台部，其在输送方向上延伸，使基板浮起于基板浮起面上；以及基板保持部，其对浮起于基板浮起面上的基板进行保持，基板保持部在对浮起于基板浮起面上的状态的基板进行保持的状态下沿着输送方向进行移动，由此基板在浮起于基板浮起面上的状态下被输送，在浮起载台部与基板保持部之间具有辅助浮起支承部，在对宽度方向尺寸比基准大小的基板大的宽幅基板进行输送的情况下，辅助浮起支承部使从基板浮起面在宽度方向上伸出的宽幅基板的伸出区域浮起，宽度方向与输送方向垂直。

公开(公告)号：CN113365741A

公开(公告)日：2021-09-07

申请号：CN201980090462.8

申请日：2019-02-25

申请人： 东丽工程株式会社

发明人： 福岛雄悟 ,  森俊裕

IPC分类号： B05C5/00 ,  B05C13/00 ,  B65G49/06 ,  B65G49/07 ,  H01L21/683

摘要： 提供涂布装置，能够抑制基板带电。涂布装置具有：工作台单元，其对基板进行保持；以及涂布单元，其对所述工作台单元上的基板涂布涂布液，一边使所述涂布单元和保持于所述工作台单元的基板相对地移动，一边从所述涂布单元喷出涂布液，从而在基板上形成涂布膜，其中，该涂布装置构成为，所述工作台单元具有使基板浮起的浮起工作台部和对基板进行吸引保持的吸引保持部，在利用所述吸引保持部对在所述浮起工作台部上浮起的基板进行保持的状态下，所述浮起工作台部和所述吸引保持部一体地相对于所述涂布单元向搬入搬出基板的基板更换位置和在基板上涂布涂布液的涂布位置移动。

公开(公告)号：CN101274313B

公开(公告)日：2012-12-19

申请号：CN200810087497.X

申请日：2008-03-28

申请人： 东丽工程株式会社

发明人： 森俊裕 ,  中泽源伸

IPC分类号： B05C5/02 ,  B05C11/02 ,  B05C13/02 ,  B05D1/26 ,  C03C17/00

摘要： 本发明提供一种即使在引导支承架行走的导轨被分割的情况下，也能够避免大量地生产不良基板、并能够提高涂布基板的合格率的涂布装置及涂布方法。该涂布装置具备：配设有保持基板的载物台的基台、在上述基台上被设置成沿特定方向延伸的状态且被分割成多个的轨道、以及沿上述轨道相对上述基板进行相对行走并向上述基板上涂布涂布液的涂布单元；该涂布装置具有如下构成：设置了检测上述涂布单元的动作的变动的检测机构，根据该变动检测机构检测出的结果来判断基板上的涂布状态是否良好，在判断涂布状态不适当的情况下，使上述涂布单元停止。

公开(公告)号：CN1421019A

公开(公告)日：2003-05-28

申请号：CN01807479.0

申请日：2001-03-30

申请人： 东丽工程株式会社

发明人： 秋田雅典 ,  森俊裕 ,  伊藤釭司

IPC分类号： G06K19/077

CPC分类号： G06K19/07745 ,  H01L29/0657 ,  H01L2924/10158 ,  H01L2924/14 ,  H01L2924/15151 ,  H01L2924/15153 ,  H01L2924/15157 ,  H01L2924/15165 ,  H01L2924/1579

摘要： 本发明的COF组件的制造方法由安装有安装用芯片用孔的树脂膜基板和形成电极的IC芯片构成，将所述IC芯片插入所述芯片安装用孔固定，以使所述电极露出基板面之上，之后在所述基板面上形成连接所述电极的电路图形的COF组件，其中使所述芯片安装用孔和所述IC芯片设成锥形，再用密封剂或粘接剂将所述IC芯片固定在所述芯片安装用孔上。

公开(公告)号：CN106684014A

公开(公告)日：2017-05-17

申请号：CN201610579895.8

申请日：2016-07-21

申请人： 东丽工程株式会社

发明人： 滨川健史 ,  奥田大辅 ,  森俊裕 ,  冈本贯志

IPC分类号： H01L21/67 ,  H01L21/677

CPC分类号： H01L21/67 ,  H01L21/677 ,  H01L21/67703

摘要： 提供基板浮起输送装置，即使对于宽度方向上尺寸大的宽幅基板也能够一边高精度地维持平面度一边进行输送。该基板浮起输送装置具有：浮起载台部，其在输送方向上延伸，使基板浮起于基板浮起面上；以及基板保持部，其对浮起于基板浮起面上的基板进行保持，基板保持部在对浮起于基板浮起面上的状态的基板进行保持的状态下沿着输送方向进行移动，由此基板在浮起于基板浮起面上的状态下被输送，在浮起载台部与基板保持部之间具有辅助浮起支承部，在对宽度方向尺寸比基准大小的基板大的宽幅基板进行输送的情况下，辅助浮起支承部使从基板浮起面在宽度方向上伸出的宽幅基板的伸出区域浮起，宽度方向与输送方向垂直。

公开(公告)号：CN104941889A

公开(公告)日：2015-09-30

申请号：CN201510127242.1

申请日：2015-03-23

申请人： 东丽工程株式会社

发明人： 伊藤祯彦 ,  森俊裕 ,  邵鹏

IPC分类号： B05D3/00

摘要： 本发明提供干燥装置，其能够与多个配置图案对应地自动进行支撑销的配置更换，并且在基板的产品形成区域不产生干燥不均。本发明的干燥装置具备：腔室(11)，其容纳基板；和支撑部(13)，其利用多个支撑销(15)来支撑基板，支撑部具有：多个轴(14)，其与旋转轴线平行地配设；和旋转销(17)，其沿着旋转轴线配设于各轴的外周部，旋转销在沿着轴的外周部的周向而在中心角θ为(n-1)×α的位置，具有沿法线方向延伸的支撑销(15)，其中，n是1～N的整数，N是配置图案的种类数，α是任意的角度，具有第M个配置图案的基板由通过使各旋转轴(14)旋转至旋转角度而选择出的多个支撑销(15)来支撑，其中，M是1～N的整数。

公开(公告)号：CN103662694A

公开(公告)日：2014-03-26

申请号：CN201310372965.9

申请日：2013-08-23

申请人： 东丽工程株式会社

发明人： 滨川健史 ,  森俊裕 ,  奥田哲也

IPC分类号： B65G35/00

摘要： 本发明提供一种基板浮起装置和基板浮起量测量方法，能够将基板的浮起量始终准确地计算和控制。基板浮起装置（1）使基板浮起，该装置包括浮起单元（2）和解析装置（21），该浮起单元包括与浮起的基板（W）背面相对而置的对向面（14），且将基板浮起至对向面上方，该解析装置计算从该对向面浮起的基板的浮起量；其中，在该对向面下方进一步设置有向输送浮起单元上浮起的基板发射光的光反射型高度测量器（12），所述浮起单元包括贯通孔（15）和板体状基准板（13），该贯通孔使从高度测量器发射的光和在基板上反射后入射到高度测量器的光通过，该基准板设置在通过该贯通孔从高度测量器向基板发射的光的路径上且反射和透射一部分光。

公开(公告)号：CN101518769B

公开(公告)日：2012-08-22

申请号：CN200910006827.2

申请日：2009-02-27

申请人： 东丽工程株式会社

发明人： 釜谷学 ,  森俊裕

IPC分类号： B05C5/00 ,  B05C11/00 ,  B05C13/00

摘要： 本发明提供一种通过迅速产生吸附基板的吸引力而缩短吸附时间，从而能够提高涂敷装置整体的生产周期的涂敷装置。其具备：基板保持机构，其在形成于载物台的表面的吸引孔产生吸引力而将基板吸附保持于载物台的表面；涂敷组件，其相对于基板相对移动的同时喷出涂敷液，其中，在基板保持机构的吸引孔连通连接与产生吸引力的吸引力产生装置连接的主配管及副配管，在主配管设有开闭主配管路径的主阀，在副配管设有开闭副配管路径的副阀，并设置有具备储存部的储存箱，所述储存部在比该副阀靠吸引力产生装置侧具有规定容量，储存部具有比一定区间的副配管的容量大的容量。