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公开(公告)号：CN102189064B
公开(公告)日：2014-12-10
申请号：CN201110042101.1
申请日：2011-02-22
Applicant: 东丽工程株式会社
Abstract: 本发明提供涂布液供给装置、涂布液供给方法以及缓冲箱，其中能够避免涂布液被白白废弃，且能够抑制气泡混入到所供给的涂布液内。所述涂布液供给装置，包括存储涂布液的涂布液箱和暂时存储涂布液的缓冲箱，其中，通过加压涂布液箱使涂布液箱的涂布液供给到缓冲箱，且从缓冲箱输送涂布液，该装置还包括对涂布液箱内的涂布液残余量进行检测的残余量检测装置，通过该残余量检测装置，当检测出涂布液箱内的涂布液残余量很少时，进行停止从缓冲箱输送涂布液的液体输送停止动作，然后在停止从缓冲箱输送涂布液的动作状态下，进行将涂布液箱内的残留涂布液输送到缓冲箱的残余液体输送动作，然后进行更换涂布液箱的箱体更换动作。
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公开(公告)号：CN105413957B
公开(公告)日：2019-06-21
申请号：CN201510593961.2
申请日：2015-09-17
Applicant: 东丽工程株式会社
Abstract: 涂布器、涂布装置和涂布方法。提供一种涂布器，能够迅速地将积存在涂布器内的气泡排出到外部。本发明的涂布器具有：第1供给口(31)，其供给涂布液；第1歧管(11)，其与第1供给口(31)连接；喷出缝(22)，其喷出涂布液；第2歧管(12)，其与喷出缝(22)连接；以及连结节流流路(21)，其连结第1歧管(11)和第2歧管(12)，第1歧管(11)连接有将积存在第1歧管(11)内的气泡排出到外部的第1排出口(41)，第2歧管(12)连接有供给涂布液的第2供给口(32)和将积存在第2歧管(12)内的气泡排出到外部的第2排出口(42)。
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公开(公告)号：CN104941889A
公开(公告)日：2015-09-30
申请号：CN201510127242.1
申请日：2015-03-23
Applicant: 东丽工程株式会社
IPC: B05D3/00
Abstract: 本发明提供干燥装置，其能够与多个配置图案对应地自动进行支撑销的配置更换，并且在基板的产品形成区域不产生干燥不均。本发明的干燥装置具备：腔室(11)，其容纳基板；和支撑部(13)，其利用多个支撑销(15)来支撑基板，支撑部具有：多个轴(14)，其与旋转轴线平行地配设；和旋转销(17)，其沿着旋转轴线配设于各轴的外周部，旋转销在沿着轴的外周部的周向而在中心角θ为(n-1)×α的位置，具有沿法线方向延伸的支撑销(15)，其中，n是1～N的整数，N是配置图案的种类数，α是任意的角度，具有第M个配置图案的基板由通过使各旋转轴(14)旋转至旋转角度而选择出的多个支撑销(15)来支撑，其中，M是1～N的整数。
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公开(公告)号：CN102688830A
公开(公告)日：2012-09-26
申请号：CN201210046849.3
申请日：2012-02-28
Applicant: 东丽工程株式会社
IPC: B05C5/02 , G02F1/1341
Abstract: 本发明提供一种涂布装置和涂布方法，虽然在通过光学涂布机进行涂布之前用多个清扫部件擦拭排出口对于获得稳定的涂布膜来说是有效的方法，但每次更换喷嘴时更换清扫部件并使它与各排出口吻合，这要花费时间，本发明的涂布装置包括：清扫单元，通过被支撑部件支撑的清扫部件进行清扫；θ平台，在所述擦拭方向上能够放置多个所述清扫单元，并具有垂直于其上面的旋转轴；擦拭单元，包括支撑所述θ平台的台座；在所述清扫单元的所述支撑部件和所述θ平台上形成有用于夹持高度调节部件的高度调节面。
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公开(公告)号：CN102674702A
公开(公告)日：2012-09-19
申请号：CN201210034636.9
申请日：2012-02-16
Applicant: 东丽工程株式会社
IPC: C03C17/00
Abstract: 本发明涉及清扫部件和涂布器的清扫方法、清扫装置以及显示器用部件的制造方法，该清扫部件在清扫时通过提高从涂布器去除的涂布液沿着清扫部件流出的速度，使该涂布液不再附着在涂布器上，且由于涂布液或清洗用溶剂等不残留而不会导致涂布膜厚度异常或涂布膜面的缺陷，该清扫部件具有相对而置的第一面和第二面、且一边与在涂布器的一个方向上延伸的排出口的排出口面和该排出口面的两个邻接面接触一边在该一个方向上滑动，由此对该排出口面和该两个邻接面进行清扫，并且包括：清扫部，设置在第一面侧上，并与排出口面和两个邻接面同时接触；多个流出路径面，以清扫部为起点，一直延伸到第二面侧；其中，在流出路径面上，在第二面侧设置有切槽。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102688830B
公开(公告)日：2016-03-09
申请号：CN201210046849.3
申请日：2012-02-28
Applicant: 东丽工程株式会社
IPC: B05C5/02 , G02F1/1341
Abstract: 本发明提供一种涂布装置和涂布方法，虽然在通过光学涂布机进行涂布之前用多个清扫部件擦拭排出口对于获得稳定的涂布膜来说是有效的方法，但每次更换喷嘴时更换清扫部件并使它与各排出口吻合，这要花费时间，本发明的涂布装置包括：清扫单元，通过被支撑部件支撑的清扫部件进行清扫；θ平台，在所述擦拭方向上能够放置多个所述清扫单元，并具有垂直于其上面的旋转轴；擦拭单元，包括支撑所述θ平台的台座；在所述清扫单元的所述支撑部件和所述θ平台上形成有用于夹持高度调节部件的高度调节面。
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公开(公告)号：CN101439329B
公开(公告)日：2013-01-30
申请号：CN200810178115.4
申请日：2008-11-19
Applicant: 东丽工程株式会社
Abstract: 一种将吸附基板的吸引力设定成不会产生涂敷不均的程度时也能够抑制涂敷装置作业周期长期化的涂敷装置及其基板保持方法。这种涂敷装置具备：在工作台的表面形成的吸引孔中产生吸引力、将基板吸附保持在工作台的表面的基板保持装置和相对于基板相对移动且喷出涂敷液的涂敷单元，基板保持装置具有通过调节对基板附加的压力从而能够调节对基板的吸引力的压力调节部，该压力调节部能够调节成初始压和保持压，初始压是吸附刚刚载置在工作台的表面的基板，保持压是在利用该初始压吸附基板后、维持基板保持在工作台的表面的状态，该保持压设定成小于所述初始压。
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公开(公告)号：CN101718955B
公开(公告)日：2013-01-02
申请号：CN200910178719.3
申请日：2009-09-28
Applicant: 东丽工程株式会社
IPC: G03F7/16 , H01L21/677
Abstract: 本发明提供一种基板处理系统(1)，其容易对联合涂敷装置(3)与搬出装置(5)的动作时机进行控制，并能够缩短时间。具有：涂敷装置(3)，其具有为了交接涂敷了涂敷液的基板(W)而在载置该基板(W)的状态下上下动作的销(14)；搬出装置(5)，其具有为了搬出所述基板(W)而相对于涂敷装置(3)进行接近远离移动的手部(31)。涂敷装置(3)与搬出装置(5)之间由通信线(L5)进行信号的发送接收。基于通过通信线(L5)在涂敷装置(3)与搬出装置(5)之间发送的信号，通过在用于交接基板(W)的销(14)的动作结束前使手部(31)开始移动，而使销(14)的动作与手部(31)的移动并行。
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公开(公告)号：CN104226542B
公开(公告)日：2017-10-24
申请号：CN201410204719.7
申请日：2014-05-15
Applicant: 东丽工程株式会社
Abstract: 本发明提供一种涂布器以及涂布装置，能够迅速排出涂布器(3)的上侧歧管(11)和下侧歧管(12)内的空气。所述涂布器包括：流入口(18)，用于流入涂布液；排出细缝(21)，用于排出涂布液，所述排出细缝在一个方向上长长地形成且在与所述一个方向垂直的方向上狭窄地形成。所述涂布器进一步包括：上侧歧管，与流入口连接；下侧歧管，与排出细缝连接；节流流路(22)，连接上侧歧管与下侧歧管的同时在一个方向上长长地形成且在与一个方向垂直的方向上狭窄地形成；排气孔(32)，在包含该节流流路与下侧歧管的境界(40)的区域(A)上开口。
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公开(公告)号：CN105928324A
公开(公告)日：2016-09-07
申请号：CN201610090240.4
申请日：2016-02-17
Applicant: 东丽工程株式会社
CPC classification number: F26B5/04 , F26B5/042 , H01L21/02318
Abstract: 提供一种减压干燥装置和基板处理系统。在具有多级腔室式减压干燥装置的片状基板用干燥装置中，利用单一的真空泵应对所有腔室的减压动作。减压干燥装置具有：多个减压用腔室；单一的真空泵，该真空泵的进气口经由配管与各腔室连接；阀，其控制各腔室的排气和减压状态，且与所述各腔室对应地分别设置于所述配管；以及控制装置，其根据预先设定的减压序列控制各阀。
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