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公开(公告)号:CN101996971A
公开(公告)日:2011-03-30
申请号:CN201010247364.1
申请日:2010-08-05
Applicant: 卡西欧计算机株式会社
Inventor: 儿谷昭一
IPC: H01L23/485 , H01L23/528 , H01L21/60 , H01L21/768
CPC classification number: H01L23/5227 , H01L23/3114 , H01L23/3192 , H01L23/525 , H01L24/02 , H01L24/03 , H01L24/11 , H01L24/13 , H01L24/94 , H01L28/10 , H01L2224/02311 , H01L2224/0233 , H01L2224/02331 , H01L2224/02377 , H01L2224/0347 , H01L2224/0384 , H01L2224/0391 , H01L2224/0401 , H01L2224/131 , H01L2224/1416 , H01L2224/94 , H01L2924/0001 , H01L2924/01006 , H01L2924/01013 , H01L2924/01022 , H01L2924/01029 , H01L2924/01033 , H01L2924/01047 , H01L2924/01078 , H01L2924/01082 , H01L2924/014 , H01L2924/14 , H01L2924/19041 , H01L2924/19043 , H01L2224/11 , H01L2224/03 , H01L2224/13099
Abstract: 提供一种半导体器件以及半导体器件的制造方法。在包含规定的相邻的2个布线(7)的连接焊盘部(7b)间形成的5个延伸线部(7c)及其两侧的相邻的2个连接焊盘部(7b)的周边部的第1绝缘膜(5)的上表面,通过丝网印刷法、喷墨法等,形成由聚酰亚胺类树脂等构成的第2绝缘膜(10)。该情况下,由于该5个延伸线部(7c)的相互平行的部分是容易发生由电迁移引起的短路的区域,因此若仅将该区域覆盖第2绝缘膜(10),则能够在该区域中使得由电迁移引起的短路不容易发生。其结果,能够使得第2绝缘膜(10)的形成区域尽可能地小,由此能够使得半导体晶片(21)不容易产生翘曲。
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公开(公告)号:CN100468714C
公开(公告)日:2009-03-11
申请号:CN200710078997.2
申请日:2007-02-16
Applicant: 卡西欧计算机株式会社
IPC: H01L23/485 , H01L21/60
CPC classification number: H01L2224/11 , H01L2224/14 , H01L2924/01033 , H01L2924/01078 , H01L2924/14 , H01L2924/00 , H01L2924/00012
Abstract: 本发明提供半导体元件形成用衬底及半导体元件的制造方法。对具备半导体元件形成区域(1A)及平面尺寸与该半导体元件区域(1A)相同的校准标记形成区域(21A)的晶片状态的硅衬底(2)通过电解电镀形成柱状电极时,在半导体元件形成区域(1A)形成多个柱状电极(10),在校准标记形成区域(21A)形成校准用柱状电极(22、23)及多个虚设柱状电极(24)。此时,通过形成虚设柱状电极(24),电镀电流可以不局部地集中增大。
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公开(公告)号:CN101026140A
公开(公告)日:2007-08-29
申请号:CN200710078997.2
申请日:2007-02-16
Applicant: 卡西欧计算机株式会社
IPC: H01L23/485 , H01L21/60
CPC classification number: H01L2224/11 , H01L2224/14 , H01L2924/01033 , H01L2924/01078 , H01L2924/14 , H01L2924/00 , H01L2924/00012
Abstract: 本发明提供半导体元件形成用衬底及半导体元件的制造方法。对具备半导体元件形成区域(1A)及平面尺寸与该半导体元件区域(1A)相同的校准标记形成区域(21A)的晶片状态的硅衬底(2)通过电解电镀形成柱状电极时,在半导体元件形成区域(1A)形成多个柱状电极(10),在校准标记形成区域(21A)形成校准用柱状电极(22、23)及多个虚设柱状电极(24)。此时,通过形成虚设柱状电极(24),电镀电流可以不局部地集中增大。
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