公开(公告)号：CN114762426B

公开(公告)日：2025-04-22

申请号：CN202080082245.7

申请日：2020-11-25

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 朴胜一 ,  金荣俊 ,  李晓镇

IPC: H04W72/54 ,  H04W72/04 ,  H04W72/12 ,  H04W52/30 ,  H04W16/14

Abstract: 一种由第一基站执行的方法包括：向信道测量目标终端发送指示向第二基站发送用于信道测量的信号的信息，信道测量目标终端是从使用第一频率资源与第一基站通信的终端中确定的；向第二基站发送指示将要从信道测量目标终端发送用于信道测量的信号的信息；从第二基站接收关于第二基站与信道测量目标终端之间的信道的测量信息；基于关于第二基站与信道测量目标终端之间的信道的测量信息，从第一频率资源中确定将要与第二基站共享的共享频率资源；以及向第二基站发送关于共享频率资源的信息。

公开(公告)号：CN117561786A

公开(公告)日：2024-02-13

申请号：CN202280045491.4

申请日：2022-06-17

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 朴善镐 ,  金荣俊 ,  裵基泽

IPC: H04W74/08

Abstract: 本公开涉及用于支持比诸如长期演进(LTE)之类的第四代(4G)通信系统更高的数据传输速率的第五代(5G)或第六代(6G)通信系统。提供了一种用户设备(UE)。该UE包括收发器和控制器，该控制器被配置为：接收包括与随机接入前导的传输相关的信息的系统信息，以及发送包括随机接入前导的物理随机接入信道(PRACH)。该PRACH包括至少一个主信号部分和至少一个辅信号部分，主信号部分包括用于测量符号内的第一延迟的第一序列，辅信号部分包括用于测量以符号为单位的第二延迟的第二序列，并且UE与基站之间的往返延迟(RTD)可以基于符号内的第一延迟和以符号为单位的第二延迟来确定。

公开(公告)号：CN109148328B

公开(公告)日：2024-02-06

申请号：CN201810631977.1

申请日：2018-06-19

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 赵庸真 ,  金伶厚 ,  郑志薰 ,  金荣俊 ,  吴政玟 ,  李根泽 ,  李晓山

IPC: H01L21/67

Abstract: 公开了工艺腔以及包括该工艺腔的衬底处理装置。工艺腔包括第一壳体和在第一壳体上的第二壳体。第一壳体包括第一外壁、面对第一外壁的第一分隔壁以及连接第一外壁和第一分隔壁的第一侧壁。第二壳体包括第二外壁、在第二外壁和第一分隔壁之间的第二分隔壁以及连接第二外壁和第二分隔壁的第二侧壁。第一外壁和第二外壁中的每个具有比第一分隔壁的厚度和第二分隔壁的厚度大的厚度。

公开(公告)号：CN113711492B

公开(公告)日：2025-04-04

申请号：CN202080029374.X

申请日：2020-04-14

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 朴钟贤 ,  梁东一 ,  姜智姬 ,  金荣俊

IPC: H03H7/48 ,  H03H7/00 ,  H05K1/02 ,  H05K1/11

Abstract: 提供了根据各种实施例的定向耦合器和具有该定向耦合器的电子装置。所述定向耦合器包括：第一层，所述第一层具有至少一个导电部分；第二层，所述第二层在第一方向上与所述第一层相邻地设置，并具有与所述第一层的所述导电部分对应的至少一个导电板；第三层，所述第三层在所述第一方向上与所述第二层相邻地设置，并包括RF信号传输线；第四层，所述第四层在所述第一方向上与所述第三层相邻地设置，并具有缠绕至少一圈的导电线；以及至少一个导电通路，所述至少一个导电通路电连接所述第二层的所述至少一个导电板和所述第四层的缠绕至少一圈的所述导电线。

公开(公告)号：CN109148327B

公开(公告)日：2023-07-25

申请号：CN201810623331.9

申请日：2018-06-15

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 赵庸真 ,  金伶厚 ,  郑志薰 ,  金荣俊 ,  李根泽

IPC: H01L21/67

Abstract: 公开了一种基板干燥装置、制造半导体器件的设备以及干燥基板的方法。基板干燥装置包括：腔室，其被配置为以第一温度干燥基板；第一贮存器，其被配置为储存处于小于第一温度的第二温度的第一超临界流体；第二贮存器，其被配置为储存处于大于第一温度的第三温度的第二超临界流体；以及供应单元，其连接在腔室与第一贮存器和/或第二贮存器之间。供应单元被配置为向腔室供应第一超临界流体和第二超临界流体。

公开(公告)号：CN116134933A

公开(公告)日：2023-05-16

申请号：CN202180060732.8

申请日：2021-07-07

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 金荣俊 ,  朴胜一 ,  李晓镇

IPC: H04W72/04

Abstract: 公开了一种方法和基站，该方法允许第一基站和第二基站交换资源共享消息，基于资源共享消息调度资源，以及基于冲突控制消息控制共享资源的冲突。

公开(公告)号：CN113966635A

公开(公告)日：2022-01-21

申请号：CN202080042741.X

申请日：2020-08-13

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 朴胜一 ,  金荣俊 ,  李晓镇

IPC: H04W56/00 ,  H04W72/04 ,  H04L1/18

Abstract: 本发明涉及一种用于会聚第五代(5G)通信系统或第六代(6G)通信系统以支持超过第四代(4G)系统的较高数据速率的通信方法和系统。提供了一种在移动通信系统中通过使用第二移动通信提供商的频率资源与用户设备进行通信的方法，该方法由第一移动通信提供商的第一基站执行。该方法包括请求许可第一基站使用第二移动通信提供商的第二频率资源，通过第一移动通信提供商的第一频率资源向用户设备发送设置信息，用于使用第二移动通信提供商的第二频率资源建立通信，以及通过第二频率资源与用户设备通信。

公开(公告)号：CN110473804A

公开(公告)日：2019-11-19

申请号：CN201910381619.4

申请日：2019-05-08

Applicant: 三星电子株式会社 ,  首尔大学校产学协力团

Inventor： 金昊永 ,  金彩姈 ,  金兑洪 ,  金荣俊 ,  尹普彦 ,  韩率 ,  金俊吾

IPC: H01L21/67

Abstract: 清洁设备包括气体供应线路和清洁液体供应线路。喷嘴连接到气体供应线路和清洁液体供应线路。喷嘴将清洁液体施加到基板上。位于喷嘴的主体的顶部处的气体注入口连接到气体供应线路。第一清洁液体注入口设置在喷嘴主体的侧壁上并连接到清洁液体供应线路。流体排出口设置在喷嘴主体的底部，并排出气体和清洁液体。喷嘴主体的内部通道将气体注入口和第一清洁液体注入口中的每一个连接到流体排出口。流体排出口的直径大于第一清洁液体注入口的直径。

公开(公告)号：CN109148327A

公开(公告)日：2019-01-04

申请号：CN201810623331.9

申请日：2018-06-15

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 赵庸真 ,  金伶厚 ,  郑志薰 ,  金荣俊 ,  李根泽

IPC: H01L21/67

CPC classification number: H01L21/67034 ,  B08B3/08 ,  B08B2203/007 ,  F26B3/00 ,  F26B5/005 ,  H01L21/02057 ,  H01L21/02101 ,  H01L21/6704 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/67109 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/67219 ,  H01L21/67248

Abstract: 公开了一种基板干燥装置、制造半导体器件的设备以及干燥基板的方法。基板干燥装置包括：腔室，其被配置为以第一温度干燥基板；第一贮存器，其被配置为储存处于小于第一温度的第二温度的第一超临界流体；第二贮存器，其被配置为储存处于大于第一温度的第三温度的第二超临界流体；以及供应单元，其连接在腔室与第一贮存器和/或第二贮存器之间。供应单元被配置为向腔室供应第一超临界流体和第二超临界流体。

公开(公告)号：CN107301946A

公开(公告)日：2017-10-27

申请号：CN201710243397.0

申请日：2017-04-14

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 金彩姈 ,  金兑洪 ,  吴政玟 ,  金荣俊 ,  金仁基 ,  尹普彦 ,  李晓山 ,  韩率

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67

CPC classification number: H01L21/30625 ,  B24B37/20 ,  B24B53/017 ,  H01L21/02057 ,  H01L21/02065 ,  H01L21/02074 ,  H01L21/67046 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/67219 ,  H01L21/67023

Abstract: 提供一种用于从基板去除粒子的清洁装置。该清洁装置包括：第一清洁单元，包括将第一化学液体和第一喷雾供应到基板的第一双喷嘴，第一喷雾包括溶解第一化学液体的第一液体；以及第二清洁单元，包括将不同于第一化学液体的第二化学液体和第二喷雾供应到基板的第二双喷嘴，第二喷雾包括溶解第二化学液体并且与第一液体相同的第二液体。