公开(公告)号：CN110473804A

公开(公告)日：2019-11-19

申请号：CN201910381619.4

申请日：2019-05-08

Applicant: 三星电子株式会社 ,  首尔大学校产学协力团

Inventor： 金昊永 ,  金彩姈 ,  金兑洪 ,  金荣俊 ,  尹普彦 ,  韩率 ,  金俊吾

IPC: H01L21/67

Abstract: 清洁设备包括气体供应线路和清洁液体供应线路。喷嘴连接到气体供应线路和清洁液体供应线路。喷嘴将清洁液体施加到基板上。位于喷嘴的主体的顶部处的气体注入口连接到气体供应线路。第一清洁液体注入口设置在喷嘴主体的侧壁上并连接到清洁液体供应线路。流体排出口设置在喷嘴主体的底部，并排出气体和清洁液体。喷嘴主体的内部通道将气体注入口和第一清洁液体注入口中的每一个连接到流体排出口。流体排出口的直径大于第一清洁液体注入口的直径。

公开(公告)号：CN108352296A

公开(公告)日：2018-07-31

申请号：CN201680063511.5

申请日：2016-10-20

Applicant: 细美事有限公司 ,  首尔大学校产学协力团

Inventor： 李秀燕 ,  金昊永 ,  金承镐 ,  李在洪 ,  金俊吾 ,  金袗圭 ,  姜秉万 ,  郑仁一

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67 ,  H01L21/683

CPC classification number: H01L21/67028 ,  B08B5/02 ,  H01L21/02 ,  H01L21/02041 ,  H01L21/67 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/683 ,  H01L21/68735 ,  H01L21/68785

Abstract: 本发明涉及一种基板处理设备。根据本发明，该基板处理设备包括：为处理基板提供空间的腔室；设置在腔室中并用于支撑基板的支撑单元；向由支撑单元支撑的基板供应清洗介质的喷嘴。其中该喷嘴包括收缩部、扩张部和孔口。收缩部具有入口，通过该入口流入清洗介质，且该收缩部具有随着远离入口而减小的截面面积。扩张部具有喷射孔，通过喷射孔喷射清洗介质，且该扩张部具有随着靠近喷射孔而增加的截面面积。孔口位于收缩部和扩张部之间。其中流入到收缩部中的清洗介质是单一气体。