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公开(公告)号：CN111356666B
公开(公告)日：2022-11-25
申请号：CN201880073989.5
申请日：2018-10-22
Applicant: 三星电子株式会社
Abstract: 根据实施例，一种盖玻璃包括：玻璃板，形成电子装置的至少一部分；以及第一涂层，沉积在所述玻璃板的表面上，所述第一涂层至少部分地包括网状结构。所述第一涂层包括硅(Si)、氧(O)和至少一种杂质，并且使得Si‑O键为所述第一涂层的80重量％或更大。涂覆有聚硅氮烷的涂层铺设在增强玻璃板的一个表面上，提供优雅的雾感玻璃盖。
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公开(公告)号：CN110890263A
公开(公告)日：2020-03-17
申请号：CN201910515871.X
申请日：2019-06-14
Applicant: 三星电子株式会社
Abstract: 一种干法清洗设备包括：腔室；基板支撑件，支撑腔室内的基板；喷头，布置在腔室的上部，以朝向基板供应干法清洗气体，喷头包括朝向基板支撑件的方向透射激光的光学窗口；等离子体发生器，被配置为从干法清洗气体产生等离子体；以及激光照射器，穿过光学窗口和等离子体在基板上照射激光，从而加热基板。
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公开(公告)号：CN118548797A
公开(公告)日：2024-08-27
申请号：CN202410111809.5
申请日：2024-01-26
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G01B11/00
Abstract: 提供了一种半导体测量设备，该半导体测量设备包括：照明单元，其包括光源和光调制器，光调制器被配置为将由光源输出的光分解为多个波段并且生成至少两个选择的波段的输出光；第一光学单元，其包括设置在输出光的路径中的照明偏振元件；第二光学单元，其包括分束器、被配置为允许已经穿过第一光学单元的光入射到样本上的物镜、以及设置在反射光的路径上的自干涉发生器；传感器，其被配置为输出表示已经穿过自干涉发生器的光的干涉图案的原始图像；以及控制器，其被配置为处理原始图像并且确定样本中包括的结构的选择的临界尺寸。
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公开(公告)号：CN107301946B
公开(公告)日：2023-09-26
申请号：CN201710243397.0
申请日：2017-04-14
Applicant: 三星电子株式会社
Abstract: 提供一种用于从基板去除粒子的清洁装置。该清洁装置包括：第一清洁单元，包括将第一化学液体和第一喷雾供应到基板的第一双喷嘴，第一喷雾包括溶解第一化学液体的第一液体；以及第二清洁单元，包括将不同于第一化学液体的第二化学液体和第二喷雾供应到基板的第二双喷嘴，第二喷雾包括溶解第二化学液体并且与第一液体相同的第二液体。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111356666A
公开(公告)日：2020-06-30
申请号：CN201880073989.5
申请日：2018-10-22
Applicant: 三星电子株式会社
Abstract: 根据实施例，一种盖玻璃包括：玻璃板，形成电子装置的至少一部分；以及第一涂层，沉积在所述玻璃板的表面上，所述第一涂层至少部分地包括网状结构。所述第一涂层包括硅(Si)、氧(O)和至少一种杂质，并且使得Si-O键为所述第一涂层的80重量％或更大。涂覆有聚硅氮烷的涂层铺设在增强玻璃板的一个表面上，提供优雅的雾感玻璃盖。
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公开(公告)号：CN106687224A
公开(公告)日：2017-05-17
申请号：CN201580047446.2
申请日：2015-07-28
Applicant: 三星电子株式会社
Abstract: 本发明公开了电子装置，所述电子装置通过允许将涂层单元涂覆在视窗的上部上而允许视窗具有防划伤和抗冲击保护，该涂层单元包括具有高硬度的涂覆层和具有低硬度的涂覆层。所述电子装置包括示模块、视窗和涂层单元，其中，视窗设置在显示模块的上部上以保护显示模块，涂层单元涂覆在视窗的上部上以具有防止视窗被损坏的硬度，其中所述涂层单元包括涂覆在视窗的上部上的第一涂覆层和涂覆在第一涂覆层的上部上以具有高硬度来防止视窗被划伤的第二涂覆层，其中第一涂覆层被涂覆成具有比第二涂覆层相对较低的硬度以吸收施加到视窗的冲击。
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公开(公告)号：CN118150568A
公开(公告)日：2024-06-07
申请号：CN202311594042.8
申请日：2023-11-27
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G01N21/88
Abstract: 提供了一种用于检查对象的表面的设备。在使用对象内的二次谐波产生的半导体检查中以高灵敏度检测弱的二次谐波。在将具有非常短的脉冲宽度的脉冲激光照射到作为对象的半导体装置的表面上并测量在半导体装置内产生的二次谐波的半导体检查设备中，二次谐波产生元件设置在光源和对象间以产生第一二次谐波。此外，该装置使用电光晶体仅调制第一二次谐波的相位，然后将基波照射到对象上。当基波照射到半导体装置上时，从其产生第二二次谐波。第一二次谐波在检测器上与第二二次谐波干涉，并且通过干涉获得的光的强度以与第一二次谐波的相位调制的周期相同的周期被调制。第二二次谐波的振幅可从其调制振幅获得且第二二次谐波的相位可从其调制相位测量。
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公开(公告)号：CN115443497A
公开(公告)日：2022-12-06
申请号：CN202180030687.1
申请日：2021-04-21
Applicant: 三星电子株式会社
Abstract: 根据本文件的一个实施例，一种电子装置包括：透明的盖；以及联接到盖的柔性显示器。盖可以包括：第一层，包括玻璃；第二层，位于第一层和柔性显示器之间；以及第三层，位于第一层和第二层之间。第三层包括图案并具有比第二层的硬度大的硬度，该图案与柔性显示器的折叠部分重叠并包括形成在与第二层的接合表面中的多个凹槽。各种其他实施例也是可能的。
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