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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN118150962A
公开(公告)日：2024-06-07
申请号：CN202311035996.5
申请日：2023-08-17
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G01R31/26 , G01N21/3586
Abstract: 提供了测量设备和测试设备。测量设备包括：第一分束器；衍射光栅；光学照射系统；光学会聚系统，其被配置为会聚从样品辐射的电磁波EH；时域检测器，其被配置为每当其光路长度在延迟机构中已经改变的触发光束入射时检测电磁波EH；以及控制器，其被配置为利用振幅调制元件的驱动频率锁相检测电磁波EH，其中，控制器通过对检测到的电磁波EH的时域波形进行傅立叶变换以获得频域波形并且对所获得的频域波形中的频段进行滤波，来获得测量部分的电场的大小和方向。
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公开(公告)号：CN111158158A
公开(公告)日：2020-05-15
申请号：CN201910676993.7
申请日：2019-07-25
Applicant: 三星电子株式会社
Inventor： 日高康弘
Abstract: 提供了通过使宽视场、高空间分辨率和高波长分辨率能够彼此兼容来降低成本的分光计光学系统以及半导体检查装置。所述分光计光学系统包括：狭缝；第一球面镜，所述第一球面镜被定位成对从所述狭缝接收的光进行反射；第二球面镜，所述第二球面镜被定位成对从所述第一球面镜反射的光进行反射；色散元件，所述色散元件被定位成接收从所述第二球面镜反射的光；和图像传感器，所述图像传感器被构造为检测由所述色散元件根据光的波长而分散的光。
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公开(公告)号：CN118150568A
公开(公告)日：2024-06-07
申请号：CN202311594042.8
申请日：2023-11-27
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G01N21/88
Abstract: 提供了一种用于检查对象的表面的设备。在使用对象内的二次谐波产生的半导体检查中以高灵敏度检测弱的二次谐波。在将具有非常短的脉冲宽度的脉冲激光照射到作为对象的半导体装置的表面上并测量在半导体装置内产生的二次谐波的半导体检查设备中，二次谐波产生元件设置在光源和对象间以产生第一二次谐波。此外，该装置使用电光晶体仅调制第一二次谐波的相位，然后将基波照射到对象上。当基波照射到半导体装置上时，从其产生第二二次谐波。第一二次谐波在检测器上与第二二次谐波干涉，并且通过干涉获得的光的强度以与第一二次谐波的相位调制的周期相同的周期被调制。第二二次谐波的振幅可从其调制振幅获得且第二二次谐波的相位可从其调制相位测量。
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公开(公告)号：CN118548797A
公开(公告)日：2024-08-27
申请号：CN202410111809.5
申请日：2024-01-26
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G01B11/00
Abstract: 提供了一种半导体测量设备，该半导体测量设备包括：照明单元，其包括光源和光调制器，光调制器被配置为将由光源输出的光分解为多个波段并且生成至少两个选择的波段的输出光；第一光学单元，其包括设置在输出光的路径中的照明偏振元件；第二光学单元，其包括分束器、被配置为允许已经穿过第一光学单元的光入射到样本上的物镜、以及设置在反射光的路径上的自干涉发生器；传感器，其被配置为输出表示已经穿过自干涉发生器的光的干涉图案的原始图像；以及控制器，其被配置为处理原始图像并且确定样本中包括的结构的选择的临界尺寸。
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公开(公告)号：CN111158158B
公开(公告)日：2023-04-25
申请号：CN201910676993.7
申请日：2019-07-25
Applicant: 三星电子株式会社
Inventor： 日高康弘
Abstract: 提供了通过使宽视场、高空间分辨率和高波长分辨率能够彼此兼容来降低成本的分光计光学系统以及半导体检查装置。所述分光计光学系统包括：狭缝；第一球面镜，所述第一球面镜被定位成对从所述狭缝接收的光进行反射；第二球面镜，所述第二球面镜被定位成对从所述第一球面镜反射的光进行反射；色散元件，所述色散元件被定位成接收从所述第二球面镜反射的光；和图像传感器，所述图像传感器被构造为检测由所述色散元件根据光的波长而分散的光。
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