公开(公告)号：CN111834249B

公开(公告)日：2024-12-24

申请号：CN202010169351.0

申请日：2020-03-12

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 张宪宰 ,  辛承敃 ,  金石训 ,  金仁基 ,  金兑洪 ,  李根泽 ,  李轸雨 ,  车知勋 ,  崔溶俊

IPC: H01L21/67

Abstract: 一种晶片清洗设备包括：外壳，所述外壳将被定位成与晶片相邻；中空区域，所述中空区域在所述外壳中；激光模块，所述激光模块输出激光束，所述激光束的分布包括具有第一强度的第一区域和具有大于所述第一强度的第二强度的第二区域，所述激光束被输出到所述中空区域中；以及透明窗，所述透明窗覆盖所述中空区域的上部，并且透射所述激光束以使所述激光束入射在所述晶片的整个下表面上。

公开(公告)号：CN110890263A

公开(公告)日：2020-03-17

申请号：CN201910515871.X

申请日：2019-06-14

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 辛承敃 ,  金石训 ,  金伶厚 ,  金仁基 ,  金兑洪 ,  朴晟见 ,  李轸雨 ,  车知勋 ,  崔溶俊

IPC: H01J37/32 ,  H01L21/02 ,  H01L21/67

Abstract: 一种干法清洗设备包括：腔室；基板支撑件，支撑腔室内的基板；喷头，布置在腔室的上部，以朝向基板供应干法清洗气体，喷头包括朝向基板支撑件的方向透射激光的光学窗口；等离子体发生器，被配置为从干法清洗气体产生等离子体；以及激光照射器，穿过光学窗口和等离子体在基板上照射激光，从而加热基板。

公开(公告)号：CN111834249A

公开(公告)日：2020-10-27

申请号：CN202010169351.0

申请日：2020-03-12

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 张宪宰 ,  辛承敃 ,  金石训 ,  金仁基 ,  金兑洪 ,  李根泽 ,  李轸雨 ,  车知勋 ,  崔溶俊

IPC: H01L21/67

Abstract: 一种晶片清洗设备包括：外壳，所述外壳将被定位成与晶片相邻；中空区域，所述中空区域在所述外壳中；激光模块，所述激光模块输出激光束，所述激光束的分布包括具有第一强度的第一区域和具有大于所述第一强度的第二强度的第二区域，所述激光束被输出到所述中空区域中；以及透明窗，所述透明窗覆盖所述中空区域的上部，并且透射所述激光束以使所述激光束入射在所述晶片的整个下表面上。

公开(公告)号：CN110473804A

公开(公告)日：2019-11-19

申请号：CN201910381619.4

申请日：2019-05-08

Applicant: 三星电子株式会社 ,  首尔大学校产学协力团

Inventor： 金昊永 ,  金彩姈 ,  金兑洪 ,  金荣俊 ,  尹普彦 ,  韩率 ,  金俊吾

IPC: H01L21/67

Abstract: 清洁设备包括气体供应线路和清洁液体供应线路。喷嘴连接到气体供应线路和清洁液体供应线路。喷嘴将清洁液体施加到基板上。位于喷嘴的主体的顶部处的气体注入口连接到气体供应线路。第一清洁液体注入口设置在喷嘴主体的侧壁上并连接到清洁液体供应线路。流体排出口设置在喷嘴主体的底部，并排出气体和清洁液体。喷嘴主体的内部通道将气体注入口和第一清洁液体注入口中的每一个连接到流体排出口。流体排出口的直径大于第一清洁液体注入口的直径。

公开(公告)号：CN119560470A

公开(公告)日：2025-03-04

申请号：CN202410939493.9

申请日：2024-07-15

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 韩政完 ,  金炳圭 ,  金正训 ,  金兑洪 ,  全杓珍 ,  郑锡焕

IPC: H01L23/488 ,  H10B80/00

Abstract: 一种半导体芯片包括基板、依次在基板上的器件层和互连层、以及在互连层上的接合焊盘。接合焊盘的底表面可以位于恒定的水平处，接合焊盘的侧表面可以具有粗糙化的形状。

公开(公告)号：CN107301946B

公开(公告)日：2023-09-26

申请号：CN201710243397.0

申请日：2017-04-14

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 金彩姈 ,  金兑洪 ,  吴政玟 ,  金荣俊 ,  金仁基 ,  尹普彦 ,  李晓山 ,  韩率

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67

Abstract: 提供一种用于从基板去除粒子的清洁装置。该清洁装置包括：第一清洁单元，包括将第一化学液体和第一喷雾供应到基板的第一双喷嘴，第一喷雾包括溶解第一化学液体的第一液体；以及第二清洁单元，包括将不同于第一化学液体的第二化学液体和第二喷雾供应到基板的第二双喷嘴，第二喷雾包括溶解第二化学液体并且与第一液体相同的第二液体。

公开(公告)号：CN104790166A

公开(公告)日：2015-07-22

申请号：CN201510033104.7

申请日：2015-01-22

Applicant: 三星电子株式会社 ,  首尔大学校产学协力团

Inventor： 宋明燮 ,  朴大煜 ,  权纯澈 ,  朴胜京 ,  金昊永 ,  金兑洪 ,  崔俊熙

IPC: D06F19/00 ,  D06F35/00

Abstract: 本发明提供了洗衣机和洗涤方法。该洗衣机包括：外筒；内筒，可旋转地设置在外筒内部；以及超声波发生器，配置为向装载于内筒中的洗涤水发射超声波，并产生气泡。超声波发生器施加超声波能量到洗涤水以引起气泡的混沌振荡。

公开(公告)号：CN104790166B

公开(公告)日：2020-10-16

申请号：CN201510033104.7

申请日：2015-01-22

Applicant: 三星电子株式会社 ,  首尔大学校产学协力团

Inventor： 宋明燮 ,  朴大煜 ,  权纯澈 ,  朴胜京 ,  金昊永 ,  金兑洪 ,  崔俊熙

IPC: D06F19/00 ,  D06F35/00

Abstract: 本发明提供了洗衣机和洗涤方法。该洗衣机包括：外筒；内筒，可旋转地设置在外筒内部；以及超声波发生器，配置为向装载于内筒中的洗涤水发射超声波，并产生气泡。超声波发生器施加超声波能量到洗涤水以引起气泡的混沌振荡。

公开(公告)号：CN108109941A

公开(公告)日：2018-06-01

申请号：CN201711191153.9

申请日：2017-11-24

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 朴美贤 ,  吴政玟 ,  金仁基 ,  金舒玄 ,  金兑洪 ,  李晓山

IPC: H01L21/67 ,  C11D1/66

Abstract: 一种清洗组合物包括表面活性剂、去离子(DI)水和有机溶剂。表面活性剂具有从约0.03M到约0.003M的浓度。一种清洗装置包括接收基板的卡盘、用于将清洗组合物提供到基板上的喷嘴。该清洗装置还包括将清洗组合物供应到喷嘴的化学溶液供应单元。该化学溶液供应单元混合清洗组合物以产生清洗颗粒。清洗组合物包括表面活性剂、去离子(DI)水和有机溶剂。表面活性剂具有从约0.03M到约0.003M的浓度。一种制造半导体器件的方法包括处理基板、形成层间绝缘层、抛光层间绝缘层、以及将清洗组合物提供到层间绝缘层上以去除第一颗粒。

公开(公告)号：CN107301946A

公开(公告)日：2017-10-27

申请号：CN201710243397.0

申请日：2017-04-14

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 金彩姈 ,  金兑洪 ,  吴政玟 ,  金荣俊 ,  金仁基 ,  尹普彦 ,  李晓山 ,  韩率

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67

CPC classification number: H01L21/30625 ,  B24B37/20 ,  B24B53/017 ,  H01L21/02057 ,  H01L21/02065 ,  H01L21/02074 ,  H01L21/67046 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/67219 ,  H01L21/67023

Abstract: 提供一种用于从基板去除粒子的清洁装置。该清洁装置包括：第一清洁单元，包括将第一化学液体和第一喷雾供应到基板的第一双喷嘴，第一喷雾包括溶解第一化学液体的第一液体；以及第二清洁单元，包括将不同于第一化学液体的第二化学液体和第二喷雾供应到基板的第二双喷嘴，第二喷雾包括溶解第二化学液体并且与第一液体相同的第二液体。