公开(公告)号：CN111158222A

公开(公告)日：2020-05-15

申请号：CN201910846787.6

申请日：2019-09-09

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 吴钟根 ,  金暻鲁 ,  姜万圭 ,  金炳局

IPC: G03F7/30 ,  H01L21/67

Abstract: 提供了一种化学物质供应结构和具有其的显影设备。所述化学物质供应结构包括：条形主体，所述条形主体具有多个化学物质贮存器，所述多个化学物质贮存器被配置为分别储存多种化学物质；条形喷嘴，所述条形喷嘴从所述主体的底表面突出，并且被配置为将由所述多种化学物质的混合所形成的喷射化学物质喷射到待处理的衬底上；以及疏水单元，所述疏水单元布置在所述主体的所述底表面上并布置在所述喷嘴的侧表面上，从而通过控制混合有所述喷射化学物质的混合溶液相对于所述底表面和所述侧表面的接触角来防止所述混合溶液粘附到所述底表面和所述侧表面。

公开(公告)号：CN110047794A

公开(公告)日：2019-07-23

申请号：CN201811306194.2

申请日：2018-11-05

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 吴钟根 ,  任京彬 ,  金炳局

IPC: H01L21/683 ,  H01L21/67

Abstract: 本公开提供了一种基板支撑装置以及包括该基板支撑装置的基板清洁设备，该基板支撑装置包括：支撑件，其上可装载基板；转子，旋转支撑件；以及振荡器，在垂直于基板的表面的方向上使基板振荡，其中基板根据基板的自然频率或基板上的颗粒的自然频率振荡。

公开(公告)号：CN111158222B

公开(公告)日：2024-09-06

申请号：CN201910846787.6

申请日：2019-09-09

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 吴钟根 ,  金暻鲁 ,  姜万圭 ,  金炳局

IPC: G03F7/30 ,  H01L21/67

Abstract: 提供了一种化学物质供应结构和具有其的显影设备。所述化学物质供应结构包括：条形主体，所述条形主体具有多个化学物质贮存器，所述多个化学物质贮存器被配置为分别储存多种化学物质；条形喷嘴，所述条形喷嘴从所述主体的底表面突出，并且被配置为将由所述多种化学物质的混合所形成的喷射化学物质喷射到待处理的衬底上；以及疏水单元，所述疏水单元布置在所述主体的所述底表面上并布置在所述喷嘴的侧表面上，从而通过控制混合有所述喷射化学物质的混合溶液相对于所述底表面和所述侧表面的接触角来防止所述混合溶液粘附到所述底表面和所述侧表面。

公开(公告)号：CN119517788A

公开(公告)日：2025-02-25

申请号：CN202411107471.2

申请日：2024-08-13

Applicant: 细美事有限公司 ,  三星电子株式会社

Inventor： 成进荣 ,  崔基熏 ,  吴承彦 ,  朴永镐 ,  柳相铉 ,  李章晋 ,  尹铉 ,  李相建 ,  赵裕珍 ,  黄浩钟 ,  朴钟主 ,  吴钟根 ,  金容宇

IPC: H01L21/67

Abstract: 提供了一种控制设备以及一种包括该控制设备的衬底处理装置。该衬底处理装置包括：支撑单元，包括转动头，并且被配置为支撑并旋转衬底；喷洒单元，被配置为将处理液喷洒到衬底上；校正单元，在摆臂中，该校正单元被配置为当处理液被喷洒到衬底上时移动到衬底上的目标点并且照射光束；以及控制单元，被配置为计算目标点，其中，控制单元被配置为转换与第一坐标系相关联的图像坐标，并且然后通过将与第一坐标系相关联的图像坐标转换为与第二坐标系相关联的图像坐标来计算目标点，并且第二坐标系基于转动头和摆臂的旋转角度。

公开(公告)号：CN114355721A

公开(公告)日：2022-04-15

申请号：CN202111179241.3

申请日：2021-10-09

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 吴钟根 ,  朴相昱 ,  曹敬千 ,  朴钟主

IPC: G03F1/22 ,  G03F1/24 ,  G03F1/54

Abstract: 提供了一种方法。所述方法包括：制备掩模坯，掩模坯包括基板、设置在基板上用于反射极紫外光的反射层以及设置在反射层上的光吸收层；通过从光吸收层形成具有目标临界尺寸的多个图案元素来提供光掩模，其中所述多个图案元素包括待校正的校正目标图案元素，并且校正目标图案元素具有不同于目标临界尺寸的临界尺寸；识别光掩模的设置有校正目标图案元素的校正目标区域；将蚀刻剂施加于光掩模；以及在蚀刻剂被提供在光掩模上的同时，将激光束照射到校正目标区域。

公开(公告)号：CN119673804A

公开(公告)日：2025-03-21

申请号：CN202411242567.X

申请日：2024-09-05

Applicant: 细美事有限公司 ,  三星电子株式会社

Inventor： 成进荣 ,  崔基熏 ,  吴承彦 ,  朴永镐 ,  柳相铉 ,  李章晋 ,  尹铉 ,  李相建 ,  赵裕珍 ,  黄浩钟 ,  朴钟主 ,  吴钟根 ,  金容宇

IPC: H01L21/67

Abstract: 提供了一种衬底处理装置，其包括：支撑单元，包括转动卡盘以及在转动卡盘上的定心夹具，转动卡盘被配置为支撑并旋转衬底；喷洒单元，被配置为将处理液喷洒到衬底上；摆臂，包括校正单元，该校正单元包括传感器和发射器，摆臂被配置为移动使得校正单元移动到衬底上的目标点，并且发射器被配置为朝向衬底照射光束；以及控制器，被配置为：控制转动卡盘和摆臂；并且基于通过传感器获得的与定心夹具有关的信息确定摆臂的移动轨迹是否与转动卡盘的旋转中心对准。

公开(公告)号：CN117192885A

公开(公告)日：2023-12-08

申请号：CN202310657956.8

申请日：2023-06-05

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 吴钟根 ,  金容宇 ,  鲁秀智 ,  朴钟主

IPC: G03F1/22 ,  G03F1/72

Abstract: 提供了制造光掩模的方法和制造半导体器件的方法。所述制造光掩模的方法包括：形成包括多个图案元素的光掩模，其中，所述多个图案元素包括具有临界尺寸偏差的校正目标图案元素；获取局部CD校正信息；将激光束导向数字微镜器件(DMD)的镜阵列，其中，所述镜阵列具有以多个行和多个列布置的镜；通过基于所述局部CD校正信息控制每个所述镜的开启/关闭切换，将所述激光束转换成与所述镜阵列相对应的光束图案阵列；通过经由光学系统聚焦所述光束图案阵列来形成线性光束；向所述光掩模施加蚀刻剂并将所述线性光束导向所述光掩模，并且移动所述线性光束以照射所述光掩模。