公开(公告)号：CN119517788A

公开(公告)日：2025-02-25

申请号：CN202411107471.2

申请日：2024-08-13

Applicant: 细美事有限公司 ,  三星电子株式会社

Inventor： 成进荣 ,  崔基熏 ,  吴承彦 ,  朴永镐 ,  柳相铉 ,  李章晋 ,  尹铉 ,  李相建 ,  赵裕珍 ,  黄浩钟 ,  朴钟主 ,  吴钟根 ,  金容宇

IPC: H01L21/67

Abstract: 提供了一种控制设备以及一种包括该控制设备的衬底处理装置。该衬底处理装置包括：支撑单元，包括转动头，并且被配置为支撑并旋转衬底；喷洒单元，被配置为将处理液喷洒到衬底上；校正单元，在摆臂中，该校正单元被配置为当处理液被喷洒到衬底上时移动到衬底上的目标点并且照射光束；以及控制单元，被配置为计算目标点，其中，控制单元被配置为转换与第一坐标系相关联的图像坐标，并且然后通过将与第一坐标系相关联的图像坐标转换为与第二坐标系相关联的图像坐标来计算目标点，并且第二坐标系基于转动头和摆臂的旋转角度。

公开(公告)号：CN119673804A

公开(公告)日：2025-03-21

申请号：CN202411242567.X

申请日：2024-09-05

Applicant: 细美事有限公司 ,  三星电子株式会社

Inventor： 成进荣 ,  崔基熏 ,  吴承彦 ,  朴永镐 ,  柳相铉 ,  李章晋 ,  尹铉 ,  李相建 ,  赵裕珍 ,  黄浩钟 ,  朴钟主 ,  吴钟根 ,  金容宇

IPC: H01L21/67

Abstract: 提供了一种衬底处理装置，其包括：支撑单元，包括转动卡盘以及在转动卡盘上的定心夹具，转动卡盘被配置为支撑并旋转衬底；喷洒单元，被配置为将处理液喷洒到衬底上；摆臂，包括校正单元，该校正单元包括传感器和发射器，摆臂被配置为移动使得校正单元移动到衬底上的目标点，并且发射器被配置为朝向衬底照射光束；以及控制器，被配置为：控制转动卡盘和摆臂；并且基于通过传感器获得的与定心夹具有关的信息确定摆臂的移动轨迹是否与转动卡盘的旋转中心对准。

公开(公告)号：CN117192885A

公开(公告)日：2023-12-08

申请号：CN202310657956.8

申请日：2023-06-05

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 吴钟根 ,  金容宇 ,  鲁秀智 ,  朴钟主

IPC: G03F1/22 ,  G03F1/72

Abstract: 提供了制造光掩模的方法和制造半导体器件的方法。所述制造光掩模的方法包括：形成包括多个图案元素的光掩模，其中，所述多个图案元素包括具有临界尺寸偏差的校正目标图案元素；获取局部CD校正信息；将激光束导向数字微镜器件(DMD)的镜阵列，其中，所述镜阵列具有以多个行和多个列布置的镜；通过基于所述局部CD校正信息控制每个所述镜的开启/关闭切换，将所述激光束转换成与所述镜阵列相对应的光束图案阵列；通过经由光学系统聚焦所述光束图案阵列来形成线性光束；向所述光掩模施加蚀刻剂并将所述线性光束导向所述光掩模，并且移动所述线性光束以照射所述光掩模。