公开(公告)号：US20130209757A1

公开(公告)日：2013-08-15

申请号：US13761324

申请日：2013-02-07

申请人： Carlton Grant Willson ,  William J. Durand ,  Christopher John Ellison ,  Christopher M. Bates ,  Takehiro Seshimo ,  Julia Cushen ,  Logan J. Santos ,  Leon Dean ,  Erica L. Rausch

发明人： Carlton Grant Willson ,  William J. Durand ,  Christopher John Ellison ,  Christopher M. Bates ,  Takehiro Seshimo ,  Julia Cushen ,  Logan J. Santos ,  Leon Dean ,  Erica L. Rausch

IPC分类号： C23C16/44 ,  B29C43/32

CPC分类号： C23C16/44 ,  B29C43/32 ,  B81C1/00031 ,  B81C2201/0149 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002 ,  Y10S977/788 ,  Y10S977/809 ,  Y10S977/811 ,  Y10S977/839 ,  Y10S977/888 ,  Y10S977/89 ,  Y10S977/891 ,  Y10T428/24802 ,  Y10T428/31504

摘要： The present invention uses vacuum deposited thin films of material to create an interface that non-preferentially interacts with different domains of an underlying block copolymer film. The non-preferential interface prevents formation of a wetting layer and influences the orientation of domains in the block copolymer. The purpose of the deposited polymer is to produce nanostructured features in a block copolymer film that can serve as lithographic patterns.

摘要翻译： 本发明使用真空沉积的材料薄膜来产生与下面的嵌段共聚物膜的不同区域非优先相互作用的界面。 非优选界面防止形成润湿层并影响嵌段共聚物中结构域的取向。 沉积的聚合物的目的是在嵌段共聚物膜中产生可用作光刻图案的纳米结构特征。

公开(公告)号：US08206891B2

公开(公告)日：2012-06-26

申请号：US12573686

申请日：2009-10-05

申请人： Takehiro Seshimo ,  Yoshiyuki Utsumi ,  Akiya Kawaue ,  Takahiro Dazai ,  Tomoyuki Hirano ,  Fumitake Kaneko ,  Kotaro Endo

发明人： Takehiro Seshimo ,  Yoshiyuki Utsumi ,  Akiya Kawaue ,  Takahiro Dazai ,  Tomoyuki Hirano ,  Fumitake Kaneko ,  Kotaro Endo

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/30

CPC分类号： G03F7/0397 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/123

摘要： A positive resist composition including: a base component (A) which includes a polymeric compound (A1) containing a structural unit (a0) represented by the general formula (a0-1) and a structural unit (a1) derived from an acrylate ester having an acid dissociable, dissolution inhibiting group; and an acid generator component (B) which includes an acid generator (B1) containing an anion moiety represented by the general formula (I): (in the formula (a0-1), R1 represents a hydrogen atom, a lower alkyl group of 1 to 5 carbon atoms or a halogenated lower alkyl group of 1 to 5 carbon atoms; R2 represents a bivalent linking group; and R3 represents a cyclic group containing —SO2— within the ring skeleton. In the formula (I), X represents a cyclic group of 3 to 30 carbon atoms, Q1 represents a bivalent linking group containing an oxygen atom; Y1 represents an alkylene group of 1 to 4 carbon atoms or a fluorinated alkylene group of 1 to 4 carbon atoms).

摘要翻译： 一种正型抗蚀剂组合物，其包含：包含含有由通式（a0-1）表示的结构单元（a0）的聚合化合物（A1）和由具有由通式（a0-1）表示的结构单元（a0））的结构单元（a1）的基础组分（A） 酸解离，溶解抑制组; 和含有由通式（I）表示的阴离子部分的酸发生剂（B1）的酸产生剂成分（B）：（式（a0-1）中，R 1表示氢原子，低级烷基 1〜5个碳原子的卤代低级烷基或1〜5个碳原子的卤代低级烷基; R2表示二价连接基团; R3表示环状骨架中含有-SO2-的环状基团，式（I）中，X表示 3〜30个碳原子的环状基团，Q1表示含有氧原子的二价连接基团，Y1表示碳原子数1〜4的亚烷基或碳原子数1〜4的氟化亚烷基。

公开(公告)号：US08206890B2

公开(公告)日：2012-06-26

申请号：US12499610

申请日：2009-07-08

申请人： Akiya Kawaue ,  Yoshiyuki Utsumi ,  Takehiro Seshimo ,  Tsuyoshi Nakamura ,  Naoto Motoike ,  Hiroaki Shimizu ,  Kensuke Matsuzawa ,  Hideo Hada

发明人： Akiya Kawaue ,  Yoshiyuki Utsumi ,  Takehiro Seshimo ,  Tsuyoshi Nakamura ,  Naoto Motoike ,  Hiroaki Shimizu ,  Kensuke Matsuzawa ,  Hideo Hada

IPC分类号： G03F7/039 ,  C07C381/12 ,  C07C309/04 ,  C07C309/17

CPC分类号： G03F7/0045 ,  C07C309/09 ,  C07C309/10 ,  C07C309/17 ,  C07C311/48 ,  C07C311/51 ,  C07C317/04 ,  C07C317/10 ,  C07C381/12 ,  C07C2601/14 ,  C07C2602/42 ,  C07C2603/74 ,  C07D307/92 ,  C07D307/94 ,  C07D493/18 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/12 ,  Y10S430/121 ,  Y10S430/122

摘要： A resist composition including: a base component (A) which exhibits changed solubility in an alkali developing solution under action of acid; and an acid-generator component (B) which generates acid upon exposure, wherein said acid-generator component (B) comprises an acid generator (B1) including a compound represented by general formula (b1-11) shown below: wherein R7″ to R9″ each independently represent an aryl group or an alkyl group, wherein two of R7″ to R9″ may be bonded to each other to form a ring with the sulfur atom, and at least one of R7″ to R9″ represents a substituted aryl group having a group represented by general formula (I) shown below as a substituent; X− represents an anion; and Rf represents a fluorinated alkyl group.

摘要翻译： 一种抗蚀剂组合物，其包含：在酸的作用下在碱性显影液中表现出改变的溶解度的碱成分（A） 和产生酸的酸发生剂组分（B），其中所述酸产生剂组分（B）包含酸产生剂（B1），其包含如下所示的由通式（b1-11）表示的化合物：其中R7“至 R9“各自独立地表示芳基或烷基，其中R7”至R9“中的两个可以彼此键合以形成具有硫原子的环，并且R 7”至R 9“中的至少一个表示取代的芳基 具有下述通式（I）表示的基团作为取代基的基团; X-表示阴离子; Rf表示氟化烷基。

公开(公告)号：US07682772B2

公开(公告)日：2010-03-23

申请号：US12265607

申请日：2008-11-05

申请人： Takehiro Seshimo ,  Yoshiyuki Utsumi ,  Akiya Kawaue ,  Hideo Hada ,  Hiroaki Shimizu ,  Tsuyoshi Nakamura

发明人： Takehiro Seshimo ,  Yoshiyuki Utsumi ,  Akiya Kawaue ,  Hideo Hada ,  Hiroaki Shimizu ,  Tsuyoshi Nakamura

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/30 ,  C07D327/02

CPC分类号： G03F7/0045 ,  C07D327/02 ,  C07D327/04 ,  C07D497/08 ,  C08K5/36 ,  C08K5/42 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/123

摘要： A compound represented by general formula (I); and a compound represented by general formula (b1-1).[Chemical Formula 1] X-Q1-Y1—SO3−M+  (I) X-Q1-Y1—SO3−A+  (b1-1) wherein Q1 represents a divalent linkage group or a single bond; Y1 represents an alkylene group which may have a substituent or a fluorinated alkylene group which may have a substituent; X represents a cyclic group of 3 to 30 carbon atoms which may have a substituent, and has an —SO2— bond in the structure thereof; M+ represents an alkali metal ion; and A+ represents an organic cation.

摘要翻译： 由通式（I）表示的化合物; 和由通式（b1-1）表示的化合物。 [化学式1]其中Q1表示二价连接基团或单键的X-Q1-Y1-SO3-M +（I）X-Q1-Y1-SO3-A +（b1-1） Y1表示可以具有取代基的亚烷基或可以具有取代基的氟化亚烷基; X表示可以具有取代基的3〜30个碳原子的环状基团，其结构中具有-SO 2 - 键; M +表示碱金属离子; 而A +代表有机阳离子。

公开(公告)号：US07488568B2

公开(公告)日：2009-02-10

申请号：US12060695

申请日：2008-04-01

申请人： Takeshi Iwai ,  Hideo Hada ,  Masaru Takeshita ,  Akiya Kawaue ,  Keita Ishiduka ,  Hiroaki Shimizu ,  Kyoko Ohshita ,  Tsuyoshi Nakamura ,  Komei Hirahara ,  Yuichi Suzuki ,  Takehiro Seshimo ,  Kensuke Matsuzawa

发明人： Takeshi Iwai ,  Hideo Hada ,  Masaru Takeshita ,  Akiya Kawaue ,  Keita Ishiduka ,  Hiroaki Shimizu ,  Kyoko Ohshita ,  Tsuyoshi Nakamura ,  Komei Hirahara ,  Yuichi Suzuki ,  Takehiro Seshimo ,  Kensuke Matsuzawa

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/30 ,  C07D333/46

CPC分类号： C07D333/76 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/123

摘要： A resist composition including a base component (A) and an acid-generator component (B), the acid-generator component (B) including an acid generator (B1) including a compound represented by general formula (b1-8) shown below (wherein R401 represents an acid dissociable, dissolution inhibiting group; R41 to R43 each independently represents a halogen atom, a halogenated alkyl group, an alkyl group, an acetyl group, an alkoxy group, a carboxy group or a hydroxyalkyl group; Q represents a divalent linking group or a single bond; and X− represents an anion) or an acid generator (B1′) including a compound represented by general formula (b1-9) shown below (wherein R402 and R403 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group or a halogenated alkyl group; R404 represents an alkyl group or a halogenated alkyl group, wherein R403 and R404 may be bonded to each other to form a ring structure; and X− represents an anion).

摘要翻译： 包含基础组分（A）和酸产生剂组分（B）的抗蚀剂组合物，所述酸产生剂组分（B）包括含有下述通式（b1-8）表示的化合物的酸产生剂（B1）（ 其中R401表示酸解离的溶解抑制基团; R 41至R 43各自独立地表示卤素原子，卤代烷基，烷基，乙酰基，烷氧基，羧基或羟烷基; Q表示二价 连接基团或单键; X表示阴离子）或包含下述通式（b1-9）表示的化合物的酸产生剂（B1'）（其中R402和R403各自独立地表示氢原子，烷基 基团或卤代烷基; R404表示烷基或卤代烷基，其中R403和R404可以彼此键合以形成环结构;并且X-表示阴离子）。

公开(公告)号：US08609320B2

公开(公告)日：2013-12-17

申请号：US13305545

申请日：2011-11-28

申请人： Yoshiyuki Utsumi ,  Takehiro Seshimo ,  Tomoyuki Hirano ,  Daichi Takaki ,  Junichi Tsuchiya

发明人： Yoshiyuki Utsumi ,  Takehiro Seshimo ,  Tomoyuki Hirano ,  Daichi Takaki ,  Junichi Tsuchiya

IPC分类号： G03F7/04 ,  G03F7/00 ,  C07D313/20 ,  C08F24/00

CPC分类号： C07D307/00 ,  C08F2220/285 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397

摘要： A resist composition, a method of forming a resist pattern using the resist composition, a novel polymeric compound and a compound useful as a monomer for the polymeric compound, the resist composition including a base component (A) that exhibits changed solubility in a developing solution under action of acid and an acid generator component (B) that generates acid upon exposure, the base component (A) containing a resin component (A0) including a structural unit (a0) represented by general formula (a0) shown below in which A represents a divalent linking group; and R1 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group of 1 to 6 carbon atoms which may have a substituent.

摘要翻译： 抗蚀剂组合物，使用抗蚀剂组合物形成抗蚀剂图案的方法，新颖的聚合化合物和可用作高分子化合物的单体的化合物，抗蚀剂组合物包含在显影液中显示出改变的溶解度的基础组分（A） 在酸和产生酸的酸产生剂组分（B）的作用下，包含含有下述通式（a0）表示的结构单元（a0）的树脂组分（A0）的基础组分（A），其中A 表示二价连接基团; 并且R 1表示氢原子或可以具有取代基的1至6个碳原子的烃基。

公开(公告)号：US08415082B2

公开(公告)日：2013-04-09

申请号：US12765590

申请日：2010-04-22

申请人： Yoshiyuki Utsumi ,  Takehiro Seshimo

发明人： Yoshiyuki Utsumi ,  Takehiro Seshimo

IPC分类号： G03C1/00 ,  G03F7/00

CPC分类号： G03F7/0045 ,  C07C309/65 ,  C07C381/12 ,  C07C2602/42 ,  C07C2603/74 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397

摘要： A resist composition including a base material component (A) which exhibits changed solubility in an alkali developing solution under action of acid, and an acid generator component (B) which generates acid upon exposure, the acid generator component (B) including an acid generator (B1) consisting of a compound represented by general formula (b1-1) shown below: wherein RX represents a hydrocarbon group which may have a hetero atom; R1 represents a divalent linking group; Y1 represents an alkylene group of 1 to 4 carbon atoms or a fluorinated alkylene group of 1 to 4 carbon atoms; n represents an integer of 1 to 3; and Z represents an organic cation (exclusive of an amine ion and a quaternary ammonium ion) having a valence of n.

摘要翻译： 一种抗蚀剂组合物，其包含在酸性作用下在碱性显影液中溶解度变化的基材成分（A）和暴露时产生酸的酸产生剂成分（B），所述酸产生剂成分（B）含有酸发生剂 （B1）由下述通式（b1-1）表示的化合物组成：其中RX表示可具有杂原子的烃基; R1表示二价连接基团; Y1表示1〜4个碳原子的亚烷基或1〜4个碳原子的氟化亚烷基; n表示1〜3的整数， Z表示n价的有机阳离子（不含胺离子和季铵离子）。

公开(公告)号：US20120009521A1

公开(公告)日：2012-01-12

申请号：US13233832

申请日：2011-09-15

申请人： Akiya Kawaue ,  Yoshiyuki Utsumi ,  Takehiro Seshimo ,  Tsuyoshi Nakamura ,  Naoto Motoike ,  Hiroaki Shimizu ,  Kensuke Matsuzawa ,  Hideo Hada

发明人： Akiya Kawaue ,  Yoshiyuki Utsumi ,  Takehiro Seshimo ,  Tsuyoshi Nakamura ,  Naoto Motoike ,  Hiroaki Shimizu ,  Kensuke Matsuzawa ,  Hideo Hada

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/027 ,  C07C309/17 ,  C07D493/18 ,  C07C309/24 ,  C07D327/04 ,  C07D213/79 ,  C07D285/15 ,  G03F7/004 ,  C07C317/46

CPC分类号： G03F7/0045 ,  C07C309/09 ,  C07C309/10 ,  C07C309/17 ,  C07C311/48 ,  C07C311/51 ,  C07C317/04 ,  C07C317/10 ,  C07C381/12 ,  C07C2601/14 ,  C07C2602/42 ,  C07C2603/74 ,  C07D307/92 ,  C07D307/94 ,  C07D493/18 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/12 ,  Y10S430/121 ,  Y10S430/122

摘要： A resist composition including: a base component (A) which exhibits changed solubility in an alkali developing solution under action of acid; and an acid-generator component (B) which generates acid upon exposure, wherein said acid-generator component (B) comprises an acid generator (B1) including a compound represented by general formula (b1-11) shown below: wherein R7″ to R9″ each independently represent an aryl group or an alkyl group, wherein two of R7″ to R9″ may be bonded to each other to form a ring with the sulfur atom, and at least one of R7″ to R9″ represents a substituted aryl group having a group represented by general formula (I) shown below as a substituent; X− represents an anion; and Rf represents a fluorinated alkyl group.

摘要翻译： 一种抗蚀剂组合物，其包含：在酸的作用下在碱性显影液中表现出改变的溶解度的碱成分（A） 和产生酸的酸发生剂组分（B），其中所述酸产生剂组分（B）包含酸产生剂（B1），其包含如下所示的由通式（b1-11）表示的化合物：其中R7“至 R9“各自独立地表示芳基或烷基，其中R7”至R9“中的两个可以彼此键合以形成具有硫原子的环，并且R 7”至R 9“中的至少一个表示取代的芳基 具有下述通式（I）表示的基团作为取代基的基团; X-表示阴离子; Rf表示氟化烷基。

公开(公告)号：US20110287362A1

公开(公告)日：2011-11-24

申请号：US13106691

申请日：2011-05-12

申请人： Takehiro Seshimo ,  Yoshiyuki Utsumi ,  Kazushige Dohtani

发明人： Takehiro Seshimo ,  Yoshiyuki Utsumi ,  Kazushige Dohtani

IPC分类号： G03F7/004 ,  C07D335/16 ,  C07D493/18 ,  G03F7/20 ,  C07D327/04

CPC分类号： G03F7/0045 ,  C07D333/52 ,  C07D333/76 ,  C07D493/18 ,  C07D497/08 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041

摘要： A resist composition including a base component (A) which exhibits changed solubility in an alkali developing solution under action of acid and an acid-generator component (B) which generates acid upon exposure, the acid-generator component (B) including an acid generator (B1) represented by general formula (b1-1) shown below (in the formula, RX represents a divalent aliphatic group of 3 to 20 carbon atoms; RY represents a monovalent aliphatic group of 3 to 20 carbon atoms having —C(═O)—O— or —S(═O)2—; each of R1 and R2 independently represents a divalent linking group; and Z+ represents a monovalent organic cation).

摘要翻译： 一种抗蚀剂组合物，其包含在酸的作用下在碱性显影液中溶解度变化的碱成分（A）和曝光时产生酸的酸发生剂成分（B），所述酸发生剂成分（B）含有酸发生剂 （b1）表示的通式（b1-1）（式中，RX表示碳原子数3〜20的2价脂肪族基团; RY表示碳原子数3〜20的1价脂肪族基团，具有-C（= 0） ）-O-或-S（= O）2 - ; R 1和R 2各自独立地表示二价连接基团; Z +表示一价有机阳离子）。

公开(公告)号：US20100297560A1

公开(公告)日：2010-11-25

申请号：US12781540

申请日：2010-05-17

申请人： Takehiro SESHIMO ,  Yoshiyuki UTSUMI ,  Yoshitaka KOMURO ,  Takeyoshi MIMURA ,  Daichi TAKAKI

发明人： Takehiro SESHIMO ,  Yoshiyuki UTSUMI ,  Yoshitaka KOMURO ,  Takeyoshi MIMURA ,  Daichi TAKAKI

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/20 ,  C08F216/12

CPC分类号： G03F7/0045 ,  C08F8/34 ,  C08F12/22 ,  C08F12/24 ,  C08F12/30 ,  C08F220/18 ,  C08F220/28 ,  C09D125/18 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  C08F212/14 ,  C08F212/32

摘要： A positive resist composition including a base component (A′) which exhibits increased solubility in an alkali developing solution under action of acid and generates acid upon exposure, the base component (A′) including a polymeric compound (A1′) having a structural unit (a5-1) represented by general formula (a5-1), a structural unit (a0-1) represented by general formula (a0-1) and a structural unit (a0-2) that generates acid upon exposure, the structural unit (a0-2) containing a group represented by general formula (a0-2′) (wherein represents an anion moiety represented by one of general formulas (1) to (5)).

摘要翻译： 一种正性抗蚀剂组合物，其包含在酸性作用下在碱性显影液中显示出增加的溶解性并在曝光时产生酸的基础组分（A'），所述基础组分（A'）包含具有结构单元的聚合物（A1'） 由通式（a5-1）表示的（a5-1），由通式（a0-1）表示的结构单元（a0-1）和曝光时产生酸的结构单元（a0-2），结构单元 （a0-2'）表示的基团（a0-2）（其中，表示由通式（1）〜（5）中的一个表示的阴离子部分）。