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    Beam Pen Lithography
    3.
    发明申请
    Beam Pen Lithography 有权
    光笔平版印刷

    公开(公告)号：US20110305996A1

    公开(公告)日：2011-12-15

    申请号：US13202142

    申请日：2010-02-18

    申请人： Chad A. Mirkin ,  Gengfeng Zheng ,  Fengwei Huo

    发明人： Chad A. Mirkin ,  Gengfeng Zheng ,  Fengwei Huo

    IPC分类号： G03F7/20 ,  B05D3/12 ,  G03F7/26 ,  G01N21/01 ,  G01Q70/06

    CPC分类号： G03F7/2051 ,  G03F7/70291 ,  G03F7/70383 ,  G03F7/70466 ,  G03F7/70525 ,  G03F7/70958

    摘要： The disclosure relates to methods of beam pen lithography using a tip array having a plurality of transparent, elastomeric, reversibly-deformable tips coated with a blocking layer and apertures defined in the blocking layer to expose tip ends of the tips in the array. The tip array can be used to perform a photolithography process in which the tips are illuminated with a radiation that is channeled through the tips and out the apertures to expose a photosensitive substrate. Also disclosed are tip arrays formed of polymers and gels, apparatus including the tip arrays and radiation sources, and related apparatus for selectively masking tips in the tip array from radiation emitted from the radiation source.

    摘要翻译： 本公开涉及使用具有多个透明，弹性，可逆变形的尖端的尖端阵列的光笔笔光刻方法，所述尖端涂覆有阻挡层和限定在阻挡层中的孔，以暴露阵列中尖端的尖端。 尖端阵列可以用于执行光刻工艺，其中尖端被通过尖端引导的辐射照射并且出射孔以暴露感光基底。 还公开了由聚合物和凝胶形成的尖端阵列，包括尖端阵列和辐射源的装置以及用于从辐射源发射的辐射中选择性地遮蔽尖端阵列中的尖端的相关装置。

    Composite particles
    4.
    发明授权
    Composite particles 失效
    复合颗粒

    公开(公告)号：US08512946B2

    公开(公告)日：2013-08-20

    申请号：US12063206

    申请日：2006-08-10

    申请人： Chad A. Mirkin ,  Savka I. Stoeva ,  Fengwei Huo ,  Jae-Seung Lee

    发明人： Chad A. Mirkin ,  Savka I. Stoeva ,  Fengwei Huo ,  Jae-Seung Lee

    IPC分类号： C12Q1/68 ,  C07H21/04 ,  C12M1/00

    CPC分类号： G01N33/5434 ,  B82Y5/00 ,  B82Y15/00 ,  B82Y20/00 ,  B82Y25/00 ,  B82Y30/00 ,  Y10T436/143333

    摘要： Composite particles and methods of synthesizing a composite particle are disclosed, in particular, methods of synthesizing a composite particle comprising a dielectric component, a magnetic component, and a gold shell are disclosed. Further disclosed herein are methods of detecting a target compound using the composite particles of the present invention. Also disclosed are photonic crystals that can be manipulated with an external magnetic field comprising the composite particles of the present invention.

    摘要翻译： 公开了复合颗粒和合成复合颗粒的方法，特别是公开了合成包含介电组分，磁性组分和金壳的复合颗粒的方法。 本文进一步公开的是使用本发明的复合颗粒检测目标化合物的方法。 还公开了可以用包含本发明的复合颗粒的外部磁场操纵的光子晶体。

    Beam pen lithography
    6.
    发明授权
    Beam pen lithography 有权
    光笔光刻

    公开(公告)号：US09021611B2

    公开(公告)日：2015-04-28

    申请号：US13202142

    申请日：2010-02-18

    申请人： Chad A. Mirkin ,  Gengfeng Zheng ,  Fengwei Huo

    发明人： Chad A. Mirkin ,  Gengfeng Zheng ,  Fengwei Huo

    IPC分类号： G03F7/20

    CPC分类号： G03F7/2051 ,  G03F7/70291 ,  G03F7/70383 ,  G03F7/70466 ,  G03F7/70525 ,  G03F7/70958

    摘要： The disclosure relates to methods of beam pen lithography using a tip array having a plurality of transparent, elastomeric, reversibly-deformable tips coated with a blocking layer and apertures defined in the blocking layer to expose tip ends of the tips in the array. The tip array can be used to perform a photolithography process in which the tips are illuminated with a radiation that is channeled through the tips and out the apertures to expose a photosensitive substrate. Also disclosed are tip arrays formed of polymers and gels, apparatus including the tip arrays and radiation sources, and related apparatus for selectively masking tips in the tip array from radiation emitted from the radiation source.

    摘要翻译： 本公开涉及使用具有多个透明，弹性，可逆变形的尖端的尖端阵列的光笔笔光刻方法，所述尖端涂覆有阻挡层和限定在阻挡层中的孔，以暴露阵列中尖端的尖端。 尖端阵列可以用于执行光刻工艺，其中尖端被通过尖端引导的辐射照射并且出射孔以暴露感光基底。 还公开了由聚合物和凝胶形成的尖端阵列，包括尖端阵列和辐射源的装置以及用于从辐射源发射的辐射中选择性地遮蔽尖端阵列中的尖端的相关装置。

    BLOCK COPOLYMER-ASSISTED NANOLITHOGRAPHY
    8.
    发明申请
    BLOCK COPOLYMER-ASSISTED NANOLITHOGRAPHY 审中-公开
    嵌段共聚物辅助纳米尺度

    公开(公告)号：US20110165341A1

    公开(公告)日：2011-07-07

    申请号：US12959105

    申请日：2010-12-02

    申请人： Chad A. Mirkin ,  Jinan Chai ,  Fengwei Huo ,  Zijian Zheng ,  Louise R. Giam

    发明人： Chad A. Mirkin ,  Jinan Chai ,  Fengwei Huo ,  Zijian Zheng ,  Louise R. Giam

    IPC分类号： B05D5/00 ,  B05D1/28 ,  B05D3/10 ,  B82Y40/00 ,  B82Y99/00

    CPC分类号： G03F7/0002 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00

    摘要： In accordance with an embodiment of the disclosure, a method for forming submicron size nanostructures on a substrate surface includes contacting a substrate with a tip coated with an ink comprising a block copolymer matrix and a nanostructure precursor to form a printed feature comprising the block copolymer matrix and the nanostructure precursor on the substrate, and reducing the nanostructure precursor of the printed feature to form a nanostructure having a diameter (or line width) of less than 1 μm.

    摘要翻译： 根据本公开的实施例，用于在衬底表面上形成亚微米级纳米结构的方法包括使基底与涂覆有包含嵌段共聚物基质和纳米结构前体的油墨的末端接触，以形成包含嵌段共聚物基质 和纳米结构前体，并且还原印刷特征的纳米结构前体以形成直径（或线宽）小于1μm的纳米结构。

    GEL POLYMER PEN LITHOGRAPHY
    10.
    发明申请
    GEL POLYMER PEN LITHOGRAPHY 审中-公开
    凝胶聚合物平版印刷

    公开(公告)号：US20120128882A1

    公开(公告)日：2012-05-24

    申请号：US13201947

    申请日：2010-02-18

    申请人： Chad A. Mirkin ,  Fengwei Huo ,  Xiaodong Chen

    发明人： Chad A. Mirkin ,  Fengwei Huo ,  Xiaodong Chen

    IPC分类号： B05D5/00 ,  B29C33/42 ,  C23F1/00 ,  B05C11/00

    CPC分类号： G03F7/0002

    摘要： The disclosure relates to methods of printing indicia on a substrate using a tip array comprised of elastomeric, compressible gel polymers. The tip array can be prepared using conventional photolithographic methods and can be tailored to have any desired number and/or arrangement of tips. Numerous copies (e.g., greater than 15,000, or greater than 11 million) of a pattern can be made in a parallel fashion in as little as 40 minutes.

    摘要翻译： 本公开涉及使用由弹性体，可压缩凝胶聚合物组成的尖端阵列在基底上印刷标记的方法。 尖端阵列可以使用常规光刻方法制备，并且可以被定制成具有任何期望的数量和/或尖端的布置。 可以在短短40分钟的时间内以平行的方式制作多种图案（例如，大于15,000，或大于1100万）。