公开(公告)号：US09583316B2

公开(公告)日：2017-02-28

申请号：US14965720

申请日：2015-12-10

申请人： Lam Research Corporation

发明人： Keren Jacobs Kanarik

IPC分类号： C03C25/68 ,  H01J37/32 ,  H05H1/46

CPC分类号： H01J37/32449 ,  H01J37/32082 ,  H01J37/321 ,  H01J37/32128 ,  H01J37/32137 ,  H01J37/32146 ,  H01J37/32165 ,  H01J2237/334 ,  H05H1/46 ,  H05H2001/4682

摘要： A method for processing substrate in a processing chamber, which has at least one plasma generating source and a gas source for providing process gas into the chamber, is provided. The method includes exciting the plasma generating source with an RF signal having RF frequency. The method further includes pulsing the gas source, using at least a first gas pulsing frequency, such that a first process gas is flowed into the chamber during a first portion of a gas pulsing period and a second process gas is flowed into the chamber during a second portion of the gas pulsing period, which is associated with the first gas pulsing frequency. The second process gas has a lower reactant-gas-to-inert-gas ratio relative to a reactant-gas-to-inert-gas ratio of the first process gas. The second process gas is formed by removing at least a portion of a reactant gas flow from the first process gas.

摘要翻译： 提供了一种在处理室中处理基板的方法，其具有至少一个等离子体产生源和用于向处理室提供处理气体的气体源。 该方法包括用具有RF频率的RF信号激发等离子体发生源。 该方法还包括使用至少第一气体脉冲频率脉冲气源，使得第一处理气体在气体脉动期间的第一部分期间流入室中，并且第二处理气体在气体脉冲期间流入室 气体脉动周期的第二部分，其与第一气体脉动频率相关联。 第二工艺气体相对于第一工艺气体的反应物 - 气体 - 惰性气体比具有较低的反应物 - 气体 - 惰性气体比。 通过从第一工艺气体中除去至少一部分反应气体流而形成第二工艺气体。

公开(公告)号：US09548211B2

公开(公告)日：2017-01-17

申请号：US12630288

申请日：2009-12-03

申请人： William Ward ,  Timothy Johns

发明人： William Ward ,  Timothy Johns

IPC分类号： H01L21/302 ,  H01L21/461 ,  B44C1/22 ,  C23F1/00 ,  C03C15/00 ,  C03C25/68 ,  H01L21/3105 ,  H01L21/321 ,  C09G1/02 ,  H01L29/16

CPC分类号： H01L21/31053 ,  C09G1/02 ,  H01L21/3212 ,  H01L29/1608

摘要： The present invention provides a method for selectively removing silicon carbide from the surface of a substrate in preference to silicon dioxide. The method comprises abrading a surface of substrate with a polishing composition that comprises a particulate abrasive, at least one acidic buffering agent, and an aqueous carrier.

摘要翻译： 本发明提供了一种从二氧化硅中优先选择性除去碳化硅表面的方法。 该方法包括用包含微粒磨料，至少一种酸性缓冲剂和水性载体的抛光组合物研磨衬底的表面。

公开(公告)号：US09548207B2

公开(公告)日：2017-01-17

申请号：US14322235

申请日：2014-07-02

申请人： CANON KABUSHIKI KAISHA

发明人： Yoshinao Ogata ,  Masataka Kato ,  Masaya Uyama

IPC分类号： H01L21/302 ,  H01L21/461 ,  B44C1/22 ,  C03C15/00 ,  C03C25/68 ,  C23F1/00 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/311

CPC分类号： H01L21/3065 ,  H01L21/30655 ,  H01L21/311 ,  H01L21/31105 ,  H01L21/31111

摘要： A method of etching a silicon substrate, in which a depressed portion is formed by etching a first surface of the silicon substrate with ions generated in plasma, the method including introducing a rare gas into a reaction system to ionize the rare gas.

摘要翻译： 一种蚀刻硅衬底的方法，其中通过用等离子体中产生的离子蚀刻硅衬底的第一表面形成凹陷部分，所述方法包括将稀有气体引入反应系统以电离稀有气体。

公开(公告)号：US20160320556A1

公开(公告)日：2016-11-03

申请号：US15104918

申请日：2014-12-15

申请人： INPHOTEC SP. O. O.

发明人： Tomasz Nasilowski ,  Zbigniew Holdynski ,  Lukasz Szostkiewicz ,  Katarzyna Pawlik ,  Marek Napierala ,  Tadeusz Tenderenda ,  Michal Murawski ,  Michal Szymanski ,  Lukasz Ostrowski ,  Mateusz Slowikowski ,  Anna Katarzyna Ziolowicz ,  Karol Stepien

IPC分类号： G02B6/02 ,  C03C25/68 ,  H01S3/16

CPC分类号： G02B6/02042 ,  C03C25/68 ,  G02B6/02338 ,  G02B6/02357 ,  G02B6/02366 ,  H01S3/1608

摘要： Microstructured multicore optical fibre with a microstructure area, in which, at least two basic cells are embedded, where each of them contains a core, preferably made of glass, specifically including doped silica glass or polymer, together with the surrounding it longitudinal areas with lower refraction index vs. that of the cladding, which areas may adopt the shape of holes, filled with gas, in particular with the air or a fluid or a polymer or spaces of another glass with doping allowing to reduce refractive index (further referred to as holes), embedded in a matrix of glass, in particular of silica glass or polymer. The refraction index of the holes is decreased vs. that of the matrix of glass, in particular of silica glass or polymer. The basic cell is characterised by the diameter of D2 core, the diameter of D3 core and the distance between adjacent holes, corresponding to lattice constant A. The centres of the holes are localised on the vertices and the middle points of the sides of the hexagon, the centre of which is designated by the core; the length of side c of the hexagon, created by the centres of holes, is equal to the preferably doubled lattice constant A. The juxtaposed, at least, two basic cells are surrounded by the cladding, preferably made of glass, in particular of silica glass or polymer. A Device for addressing cores of the multicore optical fibre a fabrication method of the device for addressing cores is also disclosed.

摘要翻译： 具有微结构区域的微结构化多芯光纤，其中嵌入有至少两个碱性电池，其中每个都包含芯，优选由玻璃制成，特别包括掺杂的石英玻璃或聚合物，以及周围的具有较低 折射率相对于包层的折射率，哪些区域可以采用填充有气体的孔，特别是与空气或流体或具有掺杂的另一玻璃的聚合物或空间的气体形状，以减少折射率（进一步称为 孔），嵌入玻璃基质，特别是石英玻璃或聚合物。 孔的折射率相对于玻璃基体，特别是石英玻璃或聚合物的折射率降低。 基本单元的特征在于D2芯的直径，D3芯的直径和相邻孔之间的距离，对应于晶格常数A.孔的中心位于六边形的顶点和中间点 ，其中心由核心指定; 由孔的中心产生的六边形的边c的长度等于优选的双晶格常数A.并置的至少两个基本单元被包层围绕，优选由玻璃制成，特别是由二氧化硅 玻璃或聚合物。 还公开了一种用于寻址多芯光纤的核心的设备，用于寻址核心的设备的制造方法。

公开(公告)号：US09483148B2

公开(公告)日：2016-11-01

申请号：US14302993

申请日：2014-06-12

申请人： Shanghai Tianma Micro-Electronics Co., Ltd. ,  Tianma Micro-Electronics Co., Ltd.

发明人： Xiangjian Kong

IPC分类号： C03C15/00 ,  C03C25/68 ,  C23F1/00 ,  G06F3/044

CPC分类号： G06F3/044 ,  G06F2203/04103

摘要： A method of manufacturing a touch substrate is disclosed. The method includes forming a shading layer on one lateral surface of a base substrate, forming a first transparent conductive film on the other lateral surface of the base substrate, and forming the first conductive film into an auxiliary lead layer with a patterning process using the shading layer as a mask pattern. The method also includes forming a driving electrode on the base substrate, and forming a sensing electrode on the base substrate.

摘要翻译： 公开了一种制造触摸基板的方法。 该方法包括在基底基板的一个侧表面上形成遮光层，在基底基板的另一个侧表面上形成第一透明导电膜，并将第一导电膜形成辅助引线层，并使用遮光 层作为掩模图案。 该方法还包括在基底基板上形成驱动电极，并在基底基板上形成感测电极。

公开(公告)号：US09422191B2

公开(公告)日：2016-08-23

申请号：US14178947

申请日：2014-02-12

申请人： KOREA INSTITUTE OF SCIENCE AND TECHNOLOGY

发明人： Heon Ju Lee ,  Myoung Woon Moon ,  Ji Hyun So ,  Eu Sun Yu ,  Tae Jun Ko ,  Seock Heon Lee ,  Do Hyun Kim ,  Kyu Hwan Oh

IPC分类号： C03C25/68 ,  B32B37/00 ,  C23C16/26 ,  C23C16/505 ,  D06M10/00

CPC分类号： C03C25/68 ,  B01D39/083 ,  B01D2239/0428 ,  B01D2239/10 ,  C23C16/26 ,  C23C16/505 ,  D06M10/00 ,  D06M10/025 ,  D06M10/04 ,  D06M10/08 ,  D06M13/513

摘要： A method to prepare polymer woven fabric surface with selective oleophilicity or hydrophobicity and oil-oil separation and oil-water separation filter prepared by using the surface. The method to prepare the surface with selective oleophilicity or hydrophobicity includes steps comprising a step to form nano meter sized pores on the surface of the polymer woven fabric surface with micro sized pores through drying type etching; and a step to form selective oleophobic or hydrophobic film on the nano meter sized pores. It is possible to control hydrophobic/oleophobic property according to pore size, material or thickness of the film and this polymer surface with hybrid pores can be used in various areas such as an oil filter for car capable of selective separation of oil-oil mixture and water-oil mixture, disposal of waste oil, treatment of marine oil leakage, and pretreatment of crude oil refinement.

摘要翻译： 一种制备具有选择性亲油性或疏水性的聚合物织物表面的方法以及通过使用表面制备的油 - 油分离和油水分离过滤器。 制备具有选择性亲油性或疏水性的表面的方法包括以下步骤：在聚合物织物表面上通过干燥型蚀刻形成具有微孔的孔的纳米尺寸孔的步骤; 以及在纳米尺寸孔上形成选择性疏油或疏水膜的步骤。 可以根据孔径，材料或薄膜的厚度控制疏水性/疏油性，并且具有杂化孔的聚合物表面可以用于各种领域，例如能够选择性分离油 - 油混合物的汽车滤油器， 水油混合物，废油处理，海油泄漏处理，原油精炼预处理。

公开(公告)号：US09416296B2

公开(公告)日：2016-08-16

申请号：US14779769

申请日：2014-03-24

申请人： DONGJIN SEMICHEM CO., LTD.

发明人： Jung-Youl Lee ,  Young Bae Lim ,  Jong-Won Kim ,  Jae Woo Lee ,  Jae Hyun Kim

IPC分类号： B44C1/22 ,  C03C15/00 ,  C03C25/68 ,  C23F1/00 ,  C09D165/02 ,  G03F7/09 ,  G03F7/40

CPC分类号： C09D165/02 ,  C08G2261/124 ,  C08G2261/1422 ,  C08G2261/314 ,  C08G2261/3142 ,  C08G2261/3424 ,  C08G2261/45 ,  G03F7/094 ,  G03F7/40 ,  C08L61/06

摘要： An under-layer composition of resist having superior thermal stability, etching resistance, gap-filling property and void-preventing property, and a method for forming pattern using the same are disclosed. The under-layer composition of resist comprises: an aromatic ring containing polymer having the repeating unit of the following Formula 1; a compound of the following Formula 4; and an organic solvent. in Formula 1, R1 is a monocyclic or polycyclic aromatic hydrocarbon group having 5 to 20 carbon atoms, R2 and R3 is independently a monocyclic or polycyclic aromatic hydrocarbon group having 4 to 14 carbon atoms, a is an integer of 1 to 3, and b is an integer of 0 to 2. in Formula 4, n is an integer of 1 to 250.

摘要翻译： 公开了具有优异的热稳定性，耐蚀刻性，间隙填充性和防空气性的抗蚀剂的底层组合物，以及使用其形成图案的方法。 抗蚀剂的底层组合物包含：含有下式1的重复单元的含芳环的聚合物; 下式4的化合物; 和有机溶剂。 在式1中，R 1为碳原子数为5〜20的单环或多环芳香族烃基，R 2和R 3独立地为碳原子数4〜14的单环或多环芳香族烃基，a为1〜3的整数，b为1〜 是0〜2的整数。在式4中，n为1〜250的整数。

公开(公告)号：US09405201B2

公开(公告)日：2016-08-02

申请号：US14550207

申请日：2014-11-21

申请人： Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd.

发明人： Yu-Sheng Chang

IPC分类号： B44C1/22 ,  C03C15/00 ,  C03C25/68 ,  C23F1/00 ,  G03F7/40 ,  H01L21/027 ,  H01L21/033 ,  G03F7/00

CPC分类号： G03F7/40 ,  G03F7/0002 ,  H01L21/0271 ,  H01L21/0337

摘要： A method includes forming a patterned hard mask layer, with a trench formed in the patterned hard mask layer, dispensing a Bulk Co-Polymer (BCP) coating in the trench, wherein the BCP coating comprises a mix of a first material and a second material different from the first material. The method further includes treating the BCP coating with a chemical to form a first plurality of strips of the first material and a second plurality of strips of the second material, with the first plurality of strips and the second plurality of strips allocated in an alternating layout. The second plurality of strips is selectively etched, and the first plurality of strips is left in the trench.

摘要翻译： 一种方法包括形成图案化的硬掩模层，其中形成在图案化的硬掩模层中的沟槽，在沟槽中分配块状共聚合物（BCP）涂层，其中BCP涂层包括第一材料和第二材料的混合物 不同于第一种材料。 该方法还包括用化学品处理BCP涂层以形成第一材料的第一多个条带和第二材料的第二多个条带，其中第一多个条带和第二多个条带以交替布局分配 。 选择性地蚀刻第二多个条带，并且第一多个条带留在沟槽中。

公开(公告)号：US09379326B2

公开(公告)日：2016-06-28

申请号：US14354743

申请日：2012-09-28

申请人： MERCK PATENT GmbH

发明人： Werner Stockum ,  Oliver Doll ,  Ingo Koehler ,  Christian Matuschek

IPC分类号： H01B13/00 ,  C03C25/68 ,  H01L51/00 ,  H01B1/22 ,  H01L51/10 ,  H01L51/52 ,  H01L33/42 ,  H01L31/18 ,  C09K13/06 ,  C23F1/00 ,  C23F1/30 ,  C23F1/02

CPC分类号： H01L51/0017 ,  C09K13/06 ,  C23F1/00 ,  C23F1/02 ,  C23F1/30 ,  H01B1/22 ,  H01L31/1888 ,  H01L33/42 ,  H01L51/0019 ,  H01L51/0023 ,  H01L51/102 ,  H01L51/5231 ,  H01L51/5234 ,  H01L2251/5369 ,  Y02E10/50

摘要： The present invention refers to a method for selectively structuring of a polymer matrix comprising AgNW (silver nano wires) or CNTs (carbon nano tubes) or comprising mixtures of AgNW and CNTs on a flexible plastic substructure or solid glass sheet. The method also includes a suitable etching composition, which allows to proceed the method in a mass production.

摘要翻译： 本发明涉及一种选择性地构建包含AgNW（银纳米线）或CNT（碳纳米管）或包含AgNW和CNT的混合物在柔性塑料子结构或固体玻璃板上的聚合物基质的方法。 该方法还包括合适的蚀刻组合物，其允许在批量生产中进行该方法。

公开(公告)号：US09373518B2

公开(公告)日：2016-06-21

申请号：US14096369

申请日：2013-12-04

申请人： Intermolecular, Inc.

发明人： Edwin Adhiprakasha ,  Shuogang Huang

IPC分类号： C03C15/00 ,  C03C25/68 ,  H01L21/302 ,  H01L21/461 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/67

CPC分类号： H01L21/3065 ,  H01L21/67063 ,  H01L21/6708 ,  H01L21/67086 ,  H01L21/6719

摘要： A method for combinatorially processing a substrate is provided. The method includes introducing a first etchant into a reactor cell and introducing a fluid into the reactor cell while the first etchant remains in the reactor cell. After initiating the introducing the fluid, contents of the reactor cell are removed through a first removal line and a second removal line, wherein the first removal line extends farther into the reactor cell than the second removal line. A level of the fluid above an inlet to the first removal line is maintained while removing the contents. A second etchant is introduced into the reactor cell while removing the contents through the first removal line and the second removal line. The method includes continuing the introducing of the second etchant until a concentration of the second etchant is at a desired level, wherein the surface of the substrate remains submerged.

摘要翻译： 提供了一种用于组合处理衬底的方法。 该方法包括将第一蚀刻剂引入反应器电池并将流体引入反应器电池中，同时第一蚀刻剂保留在反应器电池中。 在开始引入流体之后，通过第一去除管线和第二去除管线去除反应器单元的内容物，其中第一去除管线比第二去除管线更远地延伸进入反应器室。 在移除内容物的同时维持在第一去除线的入口上方的流体的水平。 将第二蚀刻剂引入反应器电池中，同时通过第一去除线和第二去除线去除内容物。 该方法包括继续引入第二蚀刻剂，直到第二蚀刻剂的浓度处于所需的水平，其中衬底的表面保持浸没。