公开(公告)号：US09416296B2

公开(公告)日：2016-08-16

申请号：US14779769

申请日：2014-03-24

申请人： DONGJIN SEMICHEM CO., LTD.

发明人： Jung-Youl Lee ,  Young Bae Lim ,  Jong-Won Kim ,  Jae Woo Lee ,  Jae Hyun Kim

IPC分类号： B44C1/22 ,  C03C15/00 ,  C03C25/68 ,  C23F1/00 ,  C09D165/02 ,  G03F7/09 ,  G03F7/40

CPC分类号： C09D165/02 ,  C08G2261/124 ,  C08G2261/1422 ,  C08G2261/314 ,  C08G2261/3142 ,  C08G2261/3424 ,  C08G2261/45 ,  G03F7/094 ,  G03F7/40 ,  C08L61/06

摘要： An under-layer composition of resist having superior thermal stability, etching resistance, gap-filling property and void-preventing property, and a method for forming pattern using the same are disclosed. The under-layer composition of resist comprises: an aromatic ring containing polymer having the repeating unit of the following Formula 1; a compound of the following Formula 4; and an organic solvent. in Formula 1, R1 is a monocyclic or polycyclic aromatic hydrocarbon group having 5 to 20 carbon atoms, R2 and R3 is independently a monocyclic or polycyclic aromatic hydrocarbon group having 4 to 14 carbon atoms, a is an integer of 1 to 3, and b is an integer of 0 to 2. in Formula 4, n is an integer of 1 to 250.

摘要翻译： 公开了具有优异的热稳定性，耐蚀刻性，间隙填充性和防空气性的抗蚀剂的底层组合物，以及使用其形成图案的方法。 抗蚀剂的底层组合物包含：含有下式1的重复单元的含芳环的聚合物; 下式4的化合物; 和有机溶剂。 在式1中，R 1为碳原子数为5〜20的单环或多环芳香族烃基，R 2和R 3独立地为碳原子数4〜14的单环或多环芳香族烃基，a为1〜3的整数，b为1〜 是0〜2的整数。在式4中，n为1〜250的整数。