硅锭的铸造方法
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN108149313A

    公开(公告)日:2018-06-12

    申请号:CN201611105064.3

    申请日:2016-12-05

    发明人: 曲立辉

    IPC分类号: C30B11/00 C30B29/06

    摘要: 本发明公开了一种硅锭的铸造方法,包括步骤:在坩埚中进行装料,底层原料包括多晶硅粉、中间层原料由单晶硅片拼接而成、上层原料为多晶硅料;将坩埚置于铸锭炉中并抽真空,将多晶硅粉烧结使单晶硅片固定;控制炉内的垂直温度梯度,使单晶硅片的上部部分熔化、并使多晶硅料熔化;控制炉内的垂直温度梯度,使晶粒沿着未熔化的单晶硅片向上生长并得到硅锭。本发明能提高硅锭的晶粒尺寸、提高由硅锭制成的硅电池片的光电转换效率,能降低生产成本。

    硒化镓的多晶合成方法和单晶生长方法

    公开(公告)号:CN106149046A

    公开(公告)日:2016-11-23

    申请号:CN201610669690.9

    申请日:2016-08-15

    IPC分类号: C30B11/00 C30B28/14 C30B29/46

    摘要: 硒化镓的多晶合成方法和单晶生长方法,它涉及中远红外非线性材料的多晶合成和单晶生长方法。它是要解决现有的GaSe多晶合成的化学计量偏移大和产率低及自发成核阶段易形成无效晶核与单晶生长方向不确定的技术问题。多晶合成:把单质Ga放在小舟中,再把它放到石英管的一端,Se放在石英管的另一端,抽真空后熔封,放在水平双温区管式电阻炉中合成,得到GaSe多晶,其化学计量比为1:(1~1.05),产率大于97%。单晶生长:将GaSe多晶加入到PBN坩埚中,然后将PBN坩埚竖直放在石英管中,抽真空后熔封,再放在垂直双温区管式电阻炉中,单晶生长结束后获得GaSe单晶。可用作中远红外激光材料实现8~10μm激光输出。

    II-VI族化合物半导体多晶的合成方法

    公开(公告)号:CN102859051B

    公开(公告)日:2016-05-04

    申请号:CN201180016917.5

    申请日:2011-03-11

    CPC分类号: C22C1/02 C30B11/002 C30B29/48

    摘要: 本发明提供II-VI族化合物半导体多晶的合成方法,其中,即使不使用石英安瓿作为多晶合成中使用的容器,也可以进行合成,由此在不降低收率的情况下,可以实现容器的大型化,实现成本降低。其中,将两种以上原料元素放入到半密闭型pBN制内侧容器(6a)内,进而将该内侧容器放入到半密闭型耐热性外侧容器(6b)中,并配置在具有加热机构(7)的高压炉(1)内,对高压炉内进行排气并用规定压力的惰性气体充满后,利用加热机构加热外侧容器和内侧容器使其升温,使内侧容器内的原料元素熔解、反应后,缓慢降低温度,由此使多晶生长。