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公开(公告)号：CN110892333B
公开(公告)日：2023-05-16
申请号：CN201880047710.6
申请日：2018-07-18
Applicant: ASML荷兰有限公司 , ASML控股股份有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 物体平台可以包括第一结构和相对于第一结构能够移动的第二结构。第二结构被配置为支撑物体。物体平台还包括能够移动地耦接到第一结构或第二结构、但不同时耦接到两者的密封板。并且所述物体平台包括至少一个致动器，其被配置成移动所述密封板，使得在所述密封板与所述第一结构或所述第二结构中未被耦接至所述密封板的一个之间限定一基本恒定的间隙。
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公开(公告)号：CN101598905B
公开(公告)日：2013-03-20
申请号：CN200910159503.2
申请日：2009-05-31
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： C·G·N·H·M·科林 , N·坦凯特 , N·R·凯姆波 , M·K·斯达文哥 , E·H·E·C·奥姆梅伦 , M·瑞鹏 , O·V·伊利西瓦 , T·W·M·冈特 , M·C·范德维肯
CPC classification number: G03F7/70341 , G03F7/707 , G03F7/70716 , G03F7/70733
Abstract: 本发明公开了一种光刻设备及器件制造方法。所述光刻设备包括台、遮蔽构件、流体处理结构和流体抽取系统。所述流体处理结构可以被配置用于将液体供给并限制在投影系统和(i)衬底、或(ii)所述台、或(iii)遮蔽构件的表面或(iv)从(i)至(iii)选择的组合之间。所述遮蔽构件的表面可临接所述台的表面和可与所述台的表面共平面。所述遮蔽构件和所述台的表面可被间隙间隔开。所述流体抽取系统可被配置用于从所述间隙移除液体。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101598905A
公开(公告)日：2009-12-09
申请号：CN200910159503.2
申请日：2009-05-31
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： C·G·N·H·M·科林 , N·坦凯特 , N·R·凯姆波 , M·K·斯达文哥 , E·H·E·C·奥姆梅伦 , M·瑞鹏 , O·V·伊利西瓦 , W·M·冈特 , M·C·范德维肯
CPC classification number: G03F7/70341 , G03F7/707 , G03F7/70716 , G03F7/70733
Abstract: 本发明公开了一种光刻设备及器件制造方法。所述光刻设备包括台、遮蔽构件、流体处理结构和流体抽取系统。所述流体处理结构可以被配置用于将液体供给并限制在投影系统和(i)衬底、或(ii)所述台、或(iii)遮蔽构件的表面或(iv)从(i)至(iii)选择的组合之间。所述遮蔽构件的表面可临接所述台的表面和可与所述台的表面共平面。所述遮蔽构件和所述台的表面可被间隙间隔开。所述流体抽取系统可被配置用于从所述间隙移除液体。
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公开(公告)号：CN110892333A
公开(公告)日：2020-03-17
申请号：CN201880047710.6
申请日：2018-07-18
Applicant: ASML荷兰有限公司 , ASML控股股份有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 物体平台可以包括第一结构和相对于第一结构能够移动的第二结构。第二结构被配置为支撑物体。物体平台还包括能够移动地耦接到第一结构或第二结构、但不同时耦接到两者的密封板。并且所述物体平台包括至少一个致动器，其被配置成移动所述密封板，使得在所述密封板与所述第一结构或所述第二结构中未被耦接至所述密封板的一个之间限定一基本恒定的间隙。
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公开(公告)号：CN101446774B
公开(公告)日：2012-09-05
申请号：CN200810191144.4
申请日：2008-11-06
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： M·T·W·范德赫杰登 , M·K·斯达文哥 , P·翁 , F·J·范德鲍格尔德 , D·德伍利斯 , D·贝斯塞蒙斯 , J·R·A·麦克
IPC: G03F7/20 , H01L21/027 , B05C5/02 , B05C13/02
CPC classification number: G03F7/70916 , G03F7/11 , G03F7/70341
Abstract: 本发明公开了用于光刻的衬底的制备方法、衬底、器件制造方法、密封涂层涂敷器以及密封涂料测量设备。用于光刻投影设备中的衬底包括密封涂层，其覆盖衬底上的两层之间或衬底和层之间的第一界面的至少一部分，且未延伸到衬底的中心部。
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公开(公告)号：CN102323725A
公开(公告)日：2012-01-18
申请号：CN201110271318.X
申请日：2008-11-06
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： M·T·W·范德赫杰登 , M·K·斯达文哥 , P·翁 , F·J·范德鲍格尔德 , D·德伍利斯 , D·贝斯塞蒙斯 , J·R·A·麦克
CPC classification number: G03F7/70916 , G03F7/11 , G03F7/70341
Abstract: 本发明公开了用于光刻的衬底的制备方法、衬底、器件制造方法、密封涂层涂敷器以及密封涂料测量设备。用于光刻投影设备中的衬底包括密封涂层，其覆盖衬底上的两层之间或衬底和层之间的第一界面的至少一部分，且未延伸到衬底的中心部。
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公开(公告)号：CN101446774A
公开(公告)日：2009-06-03
申请号：CN200810191144.4
申请日：2008-11-06
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： M·T·W·范德赫杰登 , M·K·斯达文哥 , P·翁 , F·J·范德鲍格尔德 , D·德伍利斯 , D·贝斯塞蒙斯 , J·R·A·麦克
IPC: G03F7/20 , H01L21/027 , B05C5/02 , B05C13/02
CPC classification number: G03F7/70916 , G03F7/11 , G03F7/70341
Abstract: 本发明公开了用于光刻的衬底的制备方法、衬底、器件制造方法、密封涂层涂敷器以及密封涂料测量设备。用于光刻投影设备中的衬底包括密封涂层，其覆盖衬底上的两层之间或衬底和层之间的第一界面的至少一部分，且未延伸到衬底的中心部。
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