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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102402128A
公开(公告)日：2012-04-04
申请号：CN201110186722.7
申请日：2011-06-28
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70775 , G03F7/70341 , G03F7/70725
Abstract: 本发明公开了一种调节台移动方案中的速度和/或路线的方法和光刻设备。还公开了一种调整在光刻设备的浸没流体供给系统下面的台的移动方案的一部分的路线和/或速度的方法。所述方法包括步骤：将台的移动方案分解为多个分立移动；通过确定浸没流体供给系统是否通过从浸没流体供给系统泄漏的浸没流体存在的位置而确定在特定分立移动期间尺寸大于特定尺寸的气泡存在于光刻设备的图案化束将通过的浸没流体供给系统的浸没流体内的风险；和调整(i)与比确定气泡风险所针对的分立移动更早的分立移动相对应的移动方案的一部分的路线和/或速度，和/或调整(ii)与确定气泡风险所针对的分立移动相对应的移动方案的一部分的路线和/或速度。
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公开(公告)号：CN102402128B
公开(公告)日：2015-01-07
申请号：CN201110186722.7
申请日：2011-06-28
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70775 , G03F7/70341 , G03F7/70725
Abstract: 本发明公开了一种调节台移动方案中的速度和/或路线的方法和光刻设备。还公开了一种调整在光刻设备的浸没流体供给系统下面的台的移动方案的一部分的路线和/或速度的方法。所述方法包括步骤：将台的移动方案分解为多个分立移动；通过确定浸没流体供给系统是否通过从浸没流体供给系统泄漏的浸没流体存在的位置而确定在特定分立移动期间尺寸大于特定尺寸的气泡存在于光刻设备的图案化束将通过的浸没流体供给系统的浸没流体内的风险；和调整(i)与比确定气泡风险所针对的分立移动更早的分立移动相对应的移动方案的一部分的路线和/或速度，和/或调整(ii)与确定气泡风险所针对的分立移动相对应的移动方案的一部分的路线和/或速度。
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公开(公告)号：CN101446774B
公开(公告)日：2012-09-05
申请号：CN200810191144.4
申请日：2008-11-06
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： M·T·W·范德赫杰登 , M·K·斯达文哥 , P·翁 , F·J·范德鲍格尔德 , D·德伍利斯 , D·贝斯塞蒙斯 , J·R·A·麦克
IPC: G03F7/20 , H01L21/027 , B05C5/02 , B05C13/02
CPC classification number: G03F7/70916 , G03F7/11 , G03F7/70341
Abstract: 本发明公开了用于光刻的衬底的制备方法、衬底、器件制造方法、密封涂层涂敷器以及密封涂料测量设备。用于光刻投影设备中的衬底包括密封涂层，其覆盖衬底上的两层之间或衬底和层之间的第一界面的至少一部分，且未延伸到衬底的中心部。
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公开(公告)号：CN102323725A
公开(公告)日：2012-01-18
申请号：CN201110271318.X
申请日：2008-11-06
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： M·T·W·范德赫杰登 , M·K·斯达文哥 , P·翁 , F·J·范德鲍格尔德 , D·德伍利斯 , D·贝斯塞蒙斯 , J·R·A·麦克
CPC classification number: G03F7/70916 , G03F7/11 , G03F7/70341
Abstract: 本发明公开了用于光刻的衬底的制备方法、衬底、器件制造方法、密封涂层涂敷器以及密封涂料测量设备。用于光刻投影设备中的衬底包括密封涂层，其覆盖衬底上的两层之间或衬底和层之间的第一界面的至少一部分，且未延伸到衬底的中心部。
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公开(公告)号：CN101446774A
公开(公告)日：2009-06-03
申请号：CN200810191144.4
申请日：2008-11-06
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： M·T·W·范德赫杰登 , M·K·斯达文哥 , P·翁 , F·J·范德鲍格尔德 , D·德伍利斯 , D·贝斯塞蒙斯 , J·R·A·麦克
IPC: G03F7/20 , H01L21/027 , B05C5/02 , B05C13/02
CPC classification number: G03F7/70916 , G03F7/11 , G03F7/70341
Abstract: 本发明公开了用于光刻的衬底的制备方法、衬底、器件制造方法、密封涂层涂敷器以及密封涂料测量设备。用于光刻投影设备中的衬底包括密封涂层，其覆盖衬底上的两层之间或衬底和层之间的第一界面的至少一部分，且未延伸到衬底的中心部。
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