公开(公告)号：CN101446774B

公开(公告)日：2012-09-05

申请号：CN200810191144.4

申请日：2008-11-06

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： M·T·W·范德赫杰登 ,  M·K·斯达文哥 ,  P·翁 ,  F·J·范德鲍格尔德 ,  D·德伍利斯 ,  D·贝斯塞蒙斯 ,  J·R·A·麦克

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  B05C5/02 ,  B05C13/02

CPC classification number: G03F7/70916 ,  G03F7/11 ,  G03F7/70341

Abstract: 本发明公开了用于光刻的衬底的制备方法、衬底、器件制造方法、密封涂层涂敷器以及密封涂料测量设备。用于光刻投影设备中的衬底包括密封涂层，其覆盖衬底上的两层之间或衬底和层之间的第一界面的至少一部分，且未延伸到衬底的中心部。

公开(公告)号：CN102323725A

公开(公告)日：2012-01-18

申请号：CN201110271318.X

申请日：2008-11-06

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： M·T·W·范德赫杰登 ,  M·K·斯达文哥 ,  P·翁 ,  F·J·范德鲍格尔德 ,  D·德伍利斯 ,  D·贝斯塞蒙斯 ,  J·R·A·麦克

IPC: G03F7/20 ,  G03F7/11

CPC classification number: G03F7/70916 ,  G03F7/11 ,  G03F7/70341

Abstract: 本发明公开了用于光刻的衬底的制备方法、衬底、器件制造方法、密封涂层涂敷器以及密封涂料测量设备。用于光刻投影设备中的衬底包括密封涂层，其覆盖衬底上的两层之间或衬底和层之间的第一界面的至少一部分，且未延伸到衬底的中心部。

公开(公告)号：CN101446774A

公开(公告)日：2009-06-03

申请号：CN200810191144.4

申请日：2008-11-06

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： M·T·W·范德赫杰登 ,  M·K·斯达文哥 ,  P·翁 ,  F·J·范德鲍格尔德 ,  D·德伍利斯 ,  D·贝斯塞蒙斯 ,  J·R·A·麦克

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  B05C5/02 ,  B05C13/02

CPC classification number: G03F7/70916 ,  G03F7/11 ,  G03F7/70341

Abstract: 本发明公开了用于光刻的衬底的制备方法、衬底、器件制造方法、密封涂层涂敷器以及密封涂料测量设备。用于光刻投影设备中的衬底包括密封涂层，其覆盖衬底上的两层之间或衬底和层之间的第一界面的至少一部分，且未延伸到衬底的中心部。