公开(公告)号：CN101598905A

公开(公告)日：2009-12-09

申请号：CN200910159503.2

申请日：2009-05-31

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： C·G·N·H·M·科林 ,  N·坦凯特 ,  N·R·凯姆波 ,  M·K·斯达文哥 ,  E·H·E·C·奥姆梅伦 ,  M·瑞鹏 ,  O·V·伊利西瓦 ,  W·M·冈特 ,  M·C·范德维肯

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/02

CPC classification number: G03F7/70341 ,  G03F7/707 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/70733

Abstract: 本发明公开了一种光刻设备及器件制造方法。所述光刻设备包括台、遮蔽构件、流体处理结构和流体抽取系统。所述流体处理结构可以被配置用于将液体供给并限制在投影系统和(i)衬底、或(ii)所述台、或(iii)遮蔽构件的表面或(iv)从(i)至(iii)选择的组合之间。所述遮蔽构件的表面可临接所述台的表面和可与所述台的表面共平面。所述遮蔽构件和所述台的表面可被间隙间隔开。所述流体抽取系统可被配置用于从所述间隙移除液体。