恶劣环境下使用的雪崩光电二极管

    公开(公告)号:CN100505331C

    公开(公告)日:2009-06-24

    申请号:CN200310124601.5

    申请日:2003-12-10

    Abstract: 本发明提出了利用SiC或GaN材料制造的一种APD器件。根据本发明的实施例,一种用于检测紫外光子的雪崩光电二极管包括:具有第一掺杂剂的衬底(110);位于该衬底之上的具有第一掺杂剂的第一层(111);位于第一层之上的具有第二掺杂剂的第二层(112);位于第二层之上的具有第二掺杂剂的第三层(114);用于在雪崩光电二极管表面上提供电钝化的钝化层(116,122);位于第三层之上用于限制移动离子输运的磷硅酸盐玻璃层(124);以及用于提供欧姆接触的一对金属电极(118,120),其中第一电极位于衬底之下且第二电极位于第三层之上;其中雪崩光电二极管包括形成倾斜台面形状的第一侧壁和第二侧壁;并且其中雪崩光电二极管工作在温度大约等于150摄氏度的环境中。

    恶劣环境下使用的雪崩光电二极管

    公开(公告)号:CN1507078A

    公开(公告)日:2004-06-23

    申请号:CN200310124601.5

    申请日:2003-12-10

    Abstract: 本发明提出了利用SiC或GaN材料制造的一种APD器件。根据本发明的实施例,一种用于检测紫外光子的雪崩光电二极管包括:具有第一掺杂剂的衬底110;位于该衬底之上的具有第一掺杂剂的第一层111;位于第一层之上的具有第二掺杂剂的第二层112;位于第二层之上的具有第二掺杂剂的第三层114;用于在雪崩光电二极管表面上提供电钝化的钝化层(116,122);位于第三层之上用于限制移动离子输运的磷硅酸盐玻璃层124;以及用于提供欧姆接触的一对金属电极(118,120),其中第一电极位于衬底之下且第二电极位于第三层之上;其中雪崩光电二极管包括形成倾斜台面形状的第一侧壁和第二侧壁;并且其中雪崩光电二极管工作在温度大约等于150摄氏度的环境中。

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