一种丝网印刷网版和太阳能电池电极的印刷方法

    公开(公告)号:CN104275917A

    公开(公告)日:2015-01-14

    申请号:CN201410604805.7

    申请日:2014-10-31

    Abstract: 本申请公开了一种丝网印刷网版,用于制作太阳能电池片,包括:设置有印刷图案的第一区域,所述第一区域的形状与所述太阳能电池片的形状相匹配;包围所述第一区域的第二区域,所述第二区域设置有辅助镂空图案,所述辅助镂空图案用于减小或是消除所述第一区域与所述第二区域的应力差,解决了边缘印粗的现象。本申请还公开了一种太阳能电池电极的印刷方法,利用这种方法,改善了电池外观,提高了电池转换效率。

    一种新型光伏组件及其制作方法

    公开(公告)号:CN103490719A

    公开(公告)日:2014-01-01

    申请号:CN201310450043.5

    申请日:2013-09-28

    CPC classification number: Y02P70/521

    Abstract: 本发明提供了一种新型光伏组件及其制作方法,该新型光伏组件包括由上到下依次为钢化玻璃、EVA胶膜、多列连接在一起的太阳能电池串、EVA胶膜和背板的叠层结构,太阳能电池串由多个N型太阳能电池片和多个P型太阳能电池片通过焊带焊接而成,且N型太阳能电池片与P型太阳能电池片间隔排放。本发明通过将N型太阳能电池片和P型太阳能电池片间隔排放,并在电池片串联过程中可以用焊带直接进行相连,从而有效增加单位面积内的发电功率,还可以节省焊带和边框的使用。

    一种多晶硅硅片多重扩散的制造方法

    公开(公告)号:CN102544238A

    公开(公告)日:2012-07-04

    申请号:CN201210056534.7

    申请日:2012-03-06

    CPC classification number: Y02P70/521

    Abstract: 本发明公开了一种多晶片制PN结多重扩散的制造方法,包括:步骤S1恒定源扩散在需要形成P层的表层沉积一定浓度的杂质源;步骤S2升温限定源扩散将沉积的杂质源相多晶片内部扩散,以控制PN结的结深和杂质源浓度梯度分布;步骤S3恒定源扩散在多晶片的P层表层再次沉积一定浓度的杂质源;步骤S4加氧恒定源扩散在温度不变并且继续通源的状态下,增加氧气的通流量,该步骤的目的在于增加多晶片的P层的表面颜色,使得多晶片在后续操作时正反面的区分,并且氧气流通量的增加还能够提高P层的亲水性,从而减小刻蚀边过大;步骤S5重复步骤S2至步骤S4。通过上述步骤能够实现解决多晶片制PN结后所存在的正反面颜色不易区分问题的目的。

    一种N型太阳能电池硼扩散炉管的清洁方法

    公开(公告)号:CN113600565A

    公开(公告)日:2021-11-05

    申请号:CN202110743237.9

    申请日:2021-06-30

    Abstract: 本发明涉及太阳能电池技术领域,尤其涉及一种N型太阳能电池硼扩散炉管的清洁方法,在不改变炉管结构的情况下,首先前后两次通入携水氮气对炉管进行清洁,充分去除了炉管壁和炉门附着的BSG,有效降低了携水氮气中的水蒸气在炉管中残留概率,避免了水蒸气在炉管工作过程中影响硼扩散效果;然后在通入携水氮气结束后升温通入氧气,有效去除了炉管内沉积的金属离子,在保护炉管、提高炉管寿命的同时提高了产品质量和效率。

    一种太阳能电池
    8.
    发明授权

    公开(公告)号:CN103000710B

    公开(公告)日:2016-01-13

    申请号:CN201210572780.8

    申请日:2012-12-24

    Abstract: 本发明公开了一种太阳能电池,包括多条主栅线和多条细栅线,在太阳能电池的一个吸光面上,包括至少一条镂空主栅线和至少一条实心主栅线,所述实心主栅线与焊带电性连接。相对于现有技术中的高阻密栅太阳能电池,本发明提供的太阳能电池既包含实心主栅线也包含镂空主栅线,其中,实心主栅线与焊带电性连接,保证了太阳能电池组件所需的焊接拉力,而镂空主栅线的存在,既保证了主栅线的数量,降低了串联电阻,又节省了浆料,降低了太阳能电池的生产成本,本发明提供的太阳能电池能够在保证太阳能电池组件的焊接拉力不降低的情况下,有效降低太阳能电池的生产成本。

    一种多晶硅硅片两次扩散的制造方法

    公开(公告)号:CN102586884B

    公开(公告)日:2015-09-09

    申请号:CN201210056535.1

    申请日:2012-03-06

    CPC classification number: Y02P70/521

    Abstract: 本发明公开了一种多晶硅硅片制PN结两次扩散的制造方法,该方法包括:步骤S1恒定源扩散、步骤S2升温限定源扩散、步骤S3恒定源扩散。在本发明中,由于步骤S3恒定源扩散,增加了对多晶硅硅片表面杂质磷的沉积。因此,在步骤S1中,可以相应地减少一次沉积的杂质磷,从而避免了杂质磷的过量沉积。并且,步骤S3是在高温下,此时多晶硅对磷原子的固溶度增加,沉积的杂质磷不需要再进行推进,通过控制杂质磷的沉积量来控制杂质磷在多晶硅中的溶解量,避免了由于过量沉积并再次进行推进而产生的“死区”存在。本发明所提供的多晶硅硅片制PN结两次扩散的制造方法能够实现解决多晶硅硅片制PN结后所存在的表面“死层”问题的目的。

    一种多晶硅硅片多重扩散的制造方法

    公开(公告)号:CN102544238B

    公开(公告)日:2014-05-07

    申请号:CN201210056534.7

    申请日:2012-03-06

    CPC classification number: Y02P70/521

    Abstract: 本发明公开了一种多晶片制PN结多重扩散的制造方法,包括:步骤S1恒定源扩散在需要形成P层的表层沉积一定浓度的杂质源;步骤S2升温限定源扩散将沉积的杂质源相多晶片内部扩散,以控制PN结的结深和杂质源浓度梯度分布;步骤S3恒定源扩散在多晶片的P层表层再次沉积一定浓度的杂质源;步骤S4加氧恒定源扩散在温度不变并且继续通源的状态下,增加氧气的通流量,该步骤的目的在于增加多晶片的P层的表面颜色,使得多晶片在后续操作时正反面的区分,并且氧气流通量的增加还能够提高P层的亲水性,从而减小刻蚀边过大;步骤S5重复步骤S2至步骤S4。通过上述步骤能够实现解决多晶片制PN结后所存在的正反面颜色不易区分问题的目的。

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