用于确定在晶片上生产的器件的特征的方法和器件

    公开(公告)号:CN112651206A

    公开(公告)日:2021-04-13

    申请号:CN202011070639.9

    申请日:2020-10-09

    Abstract: 用于确定在晶片上生产的器件的特征的方法和器件。本发明涉及一种用于推断在晶片(1)上生产的器件(2)的器件特征()的计算机实现的方法;包括以下步骤:‑提供(S2)将晶片位置与器件特征()相关联的晶片特征模型,所述晶片位置指示晶片(1)上生产的器件(2)的位置,其中晶片特征模型被配置为通过一个或多个晶片特征图来被训练,并且特别地被配置成高斯过程模型;‑提供(S3)在样本晶片位置处的至少一个器件(2)的样本器件特征;‑取决于所提供的晶片特征模型,推断(S4)晶片(1)的至少一个其他器件的器件特征()。

    晶圆上的半导体构件的位置重建的不确定性估计

    公开(公告)号:CN118749070A

    公开(公告)日:2024-10-08

    申请号:CN202380023392.0

    申请日:2023-02-06

    Abstract: 本发明涉及一种用于估计分配规则的不确定性的方法,该分配规则将来自第一参量的第一集合中的第一参量分配给来自第二参量的第二集合中的第二参量,该方法包括如下步骤:确定利用该分配规则来训练的机器学习系统的不准确度,其中,借助于通过机器学习系统根据第一参量所预测的第二参量与按照该分配规则被分配给这些第一参量的第二参量之差,确定这些不准确度。根据所确定的不准确度来确定协方差矩阵。确定似然矩阵,并且通过将似然矩阵的值除以相对应的列总和,对该似然矩阵进行归一化。

    确定不同生产过程中的测量值之间的相关性的方法和装置

    公开(公告)号:CN117391486A

    公开(公告)日:2024-01-12

    申请号:CN202310841635.3

    申请日:2023-07-10

    Abstract: 用于确定分别在不同生产步骤之后的第一测量值和第二测量值之间的相关性以优化生产步骤的方法,包括以下步骤:多次重复(S12)以下步骤从测量值集合(O)中抽取(S13)随机样本,并计算(S14)随机抽取的样本中所包含的第一和第二测量值之间的相关性矩阵(C_i)。在所述重复(S12)已结束后,通过相关性矩阵(C_i)而确定平均相关性矩阵(C_m)和确定相关性矩阵的标准方差矩阵(C_σ)。然后,借助以逐个元素的方式将所述平均相关性矩阵(C_m)的绝对值除以所述标准方差矩阵(C_σ)的绝对值而确定(S17)显著性值。可以根据这些显著性值而适配生产步骤之一。

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