一种挤压磨设备和一种从ITO残靶/废靶中回收ITO粉末的方法

    公开(公告)号:CN111632730A

    公开(公告)日:2020-09-08

    申请号:CN202010511661.6

    申请日:2020-06-08

    Abstract: 本发明提供了一种挤压磨设备和一种从ITO残靶/废靶中回收ITO粉末的方法,涉及光电材料循环利用技术领域。本发明提供的挤压磨设备包括进料口、挤压腔、振动装置、振动弹簧、吸粉装置和筛机,挤压腔的腔体内部竖向间隔排布有挤压饼。本发明提供的挤压磨设备结构简单、成本低,能够将颗粒从mm级研磨到μm级。本发明提供了从ITO残靶/废靶中回收ITO粉末的方法,通过表面清洁和酸洗、水淬处理、挤压磨碎处理和振动球磨处理,将ITO残靶/废靶加工成可直接用于ITO靶材制备的粒径为100~500nm的ITO粉末,过程简单、节能环保、成本低,适合大规模生产,回收得到的ITO粉末纯度高达99.99%,废靶回收率大于98%。

    一种铝钪合金靶材的及其制备方法和应用及真空自耗电弧炉

    公开(公告)号:CN111593216A

    公开(公告)日:2020-08-28

    申请号:CN202010493262.1

    申请日:2020-06-03

    Abstract: 本发明提供了一种铝钪合金靶材的及其制备方法和应用及真空自耗电弧炉,涉及靶材制备技术领域。本发明提供的铝钪合金靶材的制备方法,包括以下步骤:将铝源和钪源混合后进行压制和组焊,将所得组焊电极在水冷铜结晶器中进行两次真空电弧熔炼;然后进行重复热机械加工,机加工和绑定,得到铝钪合金靶材,所述水冷铜结晶器带有水套和稳弧线圈。本发明在水冷铜结晶器中两次真空电弧熔炼,避免了采用传统熔炼炉中的耐火材料对钪的污染,洁净度高,含氧量低;由于水冷铜结晶器的快速冷却及后续热机械加工,改善了铝钪合金靶材的组织并修复缺陷,所得铝钪合金靶材的微观组织均匀,平均晶粒均匀,无气孔和偏析明显缺陷,致密度和铝钪合金靶材成品率高。

    一种铝钪合金靶坯及其制备方法和应用

    公开(公告)号:CN111500992A

    公开(公告)日:2020-08-07

    申请号:CN202010497464.3

    申请日:2020-06-03

    Abstract: 本发明提供了一种铝钪合金靶坯及其制备方法和应用,涉及铝钪合金制备技术领域。本发明提供的铝钪合金靶坯的制备方法,包括以下步骤:将铝源和钪源置于水冷铜坩埚中,抽真空后充入惰性气体,重复进行电弧熔炼,得到熔融合金液;在惰性气体保护下将所述熔融合金液冷凝,得到铝钪合金铸锭;将所述铝钪合金铸锭依次进行电磁搅拌和重复热机械处理,得到铝钪合金靶坯。本发明在真空、惰性气氛下进行电弧熔炼,减小了铝钪合金中的氧含量,重复电弧熔炼、电磁搅拌和重复热机械加工,改善了铝钪合金铸态的组织并修复其缺陷,利用的水冷铜坩埚冷却速度快,减小了铝钪合金中钪的偏析,靶坯晶粒均匀,无偏析,微观组织均匀,致密度高、成膜性能好。

    一种试验机中使用的平面小规格溅射靶材的绑定方法

    公开(公告)号:CN110629171B

    公开(公告)日:2022-02-01

    申请号:CN201910912010.5

    申请日:2019-09-25

    Abstract: 本发明涉及一种试验机中使用的平面小规格溅射靶材的绑定方法,包括以下步骤:步骤一:铜背板和靶胚预处理:分别对铜背板和靶胚的绑定面进行喷砂处理;步骤二:高温胶制备:将双组份硅酮弹性体搅拌;步骤三:绑定处理:选取绑定层,将制备好的高温胶均匀涂覆在铜背板和靶胚的绑定面上;将绑定层铺在已经涂好高温胶的铜背板上;将靶胚的涂胶面向下,使靶胚和铜背板完全贴合;对高温胶进行凝固处理,即完成靶材绑定作业。本发明避免了绑定工序高温作业,减轻劳动强度;低温条件下绑定,避免了铜背板变形,满足靶材平面度要求;绑定材质高温胶失效温度高,满足靶材对高熔点绑定层的要求;操作简单,相比于普通绑定技术效率高,成本低。

    一种低氧含量钼粉的制备方法

    公开(公告)号:CN110576180B

    公开(公告)日:2022-01-11

    申请号:CN201910911271.5

    申请日:2019-09-25

    Abstract: 本发明涉及一种低氧含量钼粉的制备方法,包括以下步骤:以2‑10微米钼粉为原料,通过冷等静压机150‑300MPa成型,然后用磨盘机破碎至100‑200目并过100目筛,将粉末在1000‑1500℃氢化处理,保温1‑5h,粉末降温至室温后经氮气气氛气流粉碎并过100目筛,获得平均粒度为100目、氧含量为50‑150ppm的钼粉。本发明工艺简单,直接在传统制备技术上延伸工艺,仅需少量投资,产能不受限制;更重要的是,氧含量极低,可把钼粉氧含量从一般的500‑700ppm降低至50‑150ppm。本发明的效果和益处是在制造成本、产品性能、规模化生产和环境友好等方面都展现出显著的竞争优势和利润空间。

    一种从ITO残靶/废靶中回收ITO粉末的方法

    公开(公告)号:CN111620367A

    公开(公告)日:2020-09-04

    申请号:CN202010512131.3

    申请日:2020-06-08

    Abstract: 本发明提供了一种从ITO残靶/废靶中回收ITO粉末的方法,涉及光电材料循环利用技术领域。本发明通过ITO残靶/废靶表面清洁和酸洗、热应力破碎处理、环辊磨破碎处理、气流破碎处理和振动球磨处理,将ITO残靶/废靶加工成粒径为100~500nm的ITO纳米粉末。本发明提供的方法将ITO残靶/废靶加工成可直接用于ITO靶材制备的ITO粉末,且过程简单、节能环保、生产成本低,适合大规模生产;同时,回收得到的ITO粉末纯度很高,可达99.99%,也大大提高了废靶的回收率,废靶的回收率大于98%。

    一种低氧含量钼粉的制备方法

    公开(公告)号:CN110576180A

    公开(公告)日:2019-12-17

    申请号:CN201910911271.5

    申请日:2019-09-25

    Abstract: 本发明涉及一种低氧含量钼粉的制备方法,包括以下步骤:以2-10微米钼粉为原料,通过冷等静压机150-300MPa成型,然后用磨盘机破碎至100-200目并过100目筛,将粉末在1000-1500℃氢化处理,保温1-5h,粉末降温至室温后经氮气气氛气流粉碎并过100目筛,获得平均粒度为100目、氧含量为50-150ppm的钼粉。本发明工艺简单,直接在传统制备技术上延伸工艺,仅需少量投资,产能不受限制;更重要的是,氧含量极低,可把钼粉氧含量从一般的500-700ppm降低至50-150ppm。本发明的效果和益处是在制造成本、产品性能、规模化生产和环境友好等方面都展现出显著的竞争优势和利润空间。

    一种靶材的制作方法
    9.
    发明公开

    公开(公告)号:CN109023269A

    公开(公告)日:2018-12-18

    申请号:CN201811146501.5

    申请日:2018-09-29

    Abstract: 本发明公开一种靶材的制作方法。所述制作方法包括:采用电刷镀方式在靶坯的接触面制作第一膜层;采用电刷镀方式在背板的接触面制作第二膜层;所述第二膜层与所述第一膜层材质相同;用自来水将所述靶坯和所述背板冲净、吹干;将所述靶坯和所述背板叠合固定在加热平台上;叠合时所述靶坯的接触面的第一膜层与所述背板的接触面的第二膜层接触;打开所述加热平台,调节温度范围,所述温度范围为高于所述第一膜层和第二膜层的熔点,且小于所述靶坯和所述背板的熔点的温度范围;保温保压1小时后关闭所述加热平台;冷却后,完成所述靶坯与所述背板的结合,完成靶材的制作。采用本发明靶材的制作方法,可以提高靶材的结合率,提高靶材的质量。

    一种从ITO靶材磨削废液中回收ITO粉末的方法

    公开(公告)号:CN111606353B

    公开(公告)日:2022-04-26

    申请号:CN202010493263.6

    申请日:2020-06-03

    Abstract: 本发明提供了一种从ITO靶材磨削废液中回收ITO粉末的方法,属于ITO靶材制造技术领域。本发明将ITO靶材磨削废液进行固液分离,得到含ITO粉末的固体;将所述含ITO粉末的固体进行化学除油,得到ITO粉末和SiC粉末的混合粉末;将所述ITO粉末和SiC粉末的混合粉末在60~80℃的饱和蔗糖水溶液中进行比重分离,再将比重分离后的混合液进行固液分离,得到粗ITO粉末;将所述粗ITO粉末依次进行水洗和干燥,得到ITO粉末。上述方法执行起来十分方便快捷,同时整个过程不需要过于复杂的设备,耗能小,使用的化学药品毒性小,对环境污染小。

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