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公开(公告)号：CN115508398A
公开(公告)日：2022-12-23
申请号：CN202210671788.3
申请日：2022-06-14
申请人： 株式会社日立高新技术
IPC分类号： G01N23/2251 , G06N3/04 , G06N3/08 , G06T7/00 , H01L21/66
摘要： 本发明提供一种试样观察装置以及方法，关于试样观察装置，提供用户能够简单地提高缺陷检测相关的精度的技术。试样观察装置在试样观察处理之前进行的学习处理中，按由缺陷位置信息表示的缺陷位置，取得第一拍摄条件下的学习用低画质图像，根据拍摄张数的设定值，决定与每个缺陷位置的学习用低画质图像对应起来的多个学习用高画质图像的拍摄张数和多个拍摄点，取得第二拍摄条件下的多个学习用高画质图像，使用学习用低画质图像和多个学习用高画质图像，学习高画质图像推定模型，使用高画质图像推定模型，调整试样观察处理的缺陷检测相关的参数。
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公开(公告)号：CN103502801A
公开(公告)日：2014-01-08
申请号：CN201280019470.1
申请日：2012-04-16
申请人： 株式会社日立高新技术
IPC分类号： G01N23/225 , G01N21/956 , G06T1/00 , H01L21/66
CPC分类号： G06T7/001 , G01N21/9501 , G01N23/225 , G01N2223/421 , G01N2223/611 , G01N2223/646 , G06K9/6267 , G06T5/00 , G06T2207/10061 , G06T2207/30148 , H01L22/12 , H01L22/20 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
摘要： 在自动缺陷分类功能中，由于对于每个装置适当的处理参数不同，因此需要按照每个缺陷观察装置来设定分类制程程序。在相同工序中运用多个装置的情况下，需要分类制程程序内的分类类相同。在重新制作分类制程程序等时候存在对于每个装置在分类类中产生差异这种问题。缺陷分类系统具备：保存分类制程程序的(214)；信息确定部(210)，其确定分类制程程序以及所保存的图像的工序、装置信息；对应缺陷确定部(209)，其从在相同工序中从不同的图像拍摄装置得到的图像中确定相同种类的缺陷图像；图像变换部(212)，其对在相同工序中从不同的图像拍摄装置得到的图像进行变换，变换为能够比较的类似的图像；以及制程程序更新部(211)，其将确定出的相同种类的缺陷图像登记到各自对应的分类制程程序内的分类类中。
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公开(公告)号：CN104870985B
公开(公告)日：2017-06-13
申请号：CN201380066389.3
申请日：2013-11-29
申请人： 株式会社日立高新技术
IPC分类号： G01N23/225 , H01L21/66
CPC分类号： G06T7/001 , G01N23/2254 , G01N2223/418 , G01N2223/611 , G06K9/00 , G06K9/46 , G06K9/4661 , G06K2009/4666 , G06T2207/30148
摘要： 在未形成图案的阶段的制造工序或在摄像图像上不显示在下层形成的图案的制造工序中，用于解析缺陷的事例增加。然而，在这样的事例中，在图像上无法识别周期性图案的情况下，存在不能合成良好的参照图像，缺陷检测失败的问题。因此，求出在被检查图像中缺陷区域所占的比例即缺陷占有率，判定该缺陷占有率与阈值的大小，根据判定结果，决定是否生成由具有被检查图像所包含的多个像素的亮度值的平均亮度值的像素构成的图像作为所述参照图像。尤其在缺陷占有率低的情况下，采用由具有被检查图像所包含的多个像素的亮度值的平均亮度值的像素构成的图像作为所述参照图像。
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公开(公告)号：CN103502801B
公开(公告)日：2015-09-16
申请号：CN201280019470.1
申请日：2012-04-16
申请人： 株式会社日立高新技术
IPC分类号： G01N23/225 , G01N21/956 , G06T1/00 , H01L21/66
CPC分类号： G06T7/001 , G01N21/9501 , G01N23/225 , G01N2223/421 , G01N2223/611 , G01N2223/646 , G06K9/6267 , G06T5/00 , G06T2207/10061 , G06T2207/30148 , H01L22/12 , H01L22/20 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
摘要： 在自动缺陷分类功能中，由于对于每个装置适当的处理参数不同，因此需要按照每个缺陷观察装置来设定分类制程程序。在相同工序中运用多个装置的情况下，需要分类制程程序内的分类类相同。在重新制作分类制程程序等时候存在对于每个装置在分类类中产生差异这种问题。缺陷分类系统具备：保存分类制程程序的(214)；信息确定部(210)，其确定分类制程程序以及所保存的图像的工序、装置信息；对应缺陷确定部(209)，其从在相同工序中从不同的图像拍摄装置得到的图像中确定相同种类的缺陷图像；图像变换部(212)，其对在相同工序中从不同的图像拍摄装置得到的图像进行变换，变换为能够比较的类似的图像；以及制程程序更新部(211)，其将确定出的相同种类的缺陷图像登记到各自对应的分类制程程序内的分类类中。
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公开(公告)号：CN104024838B
公开(公告)日：2016-04-13
申请号：CN201280064315.1
申请日：2012-11-26
申请人： 株式会社日立高新技术
IPC分类号： G01N23/225 , G01N21/956
CPC分类号： G06F3/04842 , G02B21/365 , G06F9/451 , G06T7/0004 , H01J37/265 , H01J2237/2817
摘要： 本发明提供一种GUI、分类装置、分类方法、程序以及存储分类程序的存储介质。GUI具备：未赋予方框区域，其将作为类别信息未被赋予的图像的集合的文件夹分层显示；图像方框区域，其显示上述未赋予方框区域中显示的类别信息未被赋予的图像；和类别方框区域，其显示类别信息被赋予的图像；如果对于该类别信息未被赋予的图像从外部输入类别信息，则显示该输入的类别信息。
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公开(公告)号：CN105026883A
公开(公告)日：2015-11-04
申请号：CN201480012327.9
申请日：2014-01-27
申请人： 株式会社日立高新技术
IPC分类号： G01B15/00 , G01B11/00 , G01N23/225 , H01L21/66 , H01J37/22
CPC分类号： G06T7/001 , G06K9/6202 , G06K9/6284 , G06T2207/10061 , G06T2207/30148 , H01J2237/2817 , H01L22/12
摘要： 为了缩短缺陷图像的收集时间，缺陷检查装置具备：读出部，其读出已检测的半导体晶片的缺陷位置；第1摄像部，其在与读出的缺陷中的某一个缺陷所存在的芯片不同的芯片中，以第1倍率拍摄参照图像；第2摄像部，其以第1倍率拍摄包含读出的缺陷的第1缺陷图像；缺陷位置确定部，其比较通过第1摄像部拍摄的参照图像与通过第2摄像部拍摄的第1缺陷图像，来确定第1缺陷图像上的缺陷位置；以及第3摄像部，其基于确定缺陷位置，以比第1倍率高的第2倍率拍摄第2缺陷图像，并具有：排序部，其按照无重复地转一圈的路径顺序对读出的缺陷进行排序；以及载物台移动路径生成部，其对每个与参照图像对应的缺陷选择用于拍摄参照图像的芯片，并通过决定第1摄像部和第2摄像部中的载物台的移动位置来生成载物台移动路径。
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公开(公告)号：CN104903712A
公开(公告)日：2015-09-09
申请号：CN201380069668.5
申请日：2013-12-06
申请人： 株式会社日立高新技术
IPC分类号： G01N23/225 , G01N21/956
CPC分类号： G06T7/001 , G01N21/9501 , G06T2207/10004 , G06T2207/10061 , G06T2207/30148
摘要： 本发明的目的在于，能够从观察对象样本中容易地提取能够标记为“缺陷”和“妨扰”(错误检测出制造公差等的部位)的缺陷候选，容易地调整与观察处理有关的参数。本发明的缺陷观察方法包括：根据来自检查装置的缺陷信息拍摄被检查对象物，得到缺陷图像和与该缺陷图像对应的参照图像的摄像步骤；使用根据在上述摄像步骤中拍摄所得的该缺陷图像和该参照图像得到的第一特征量分布、根据该参照图像得到的第二特征量分布，决定用于缺陷提取的第一参数的参数决定步骤；使用在上述参数决定步骤中决定的该第一参数进行观察的观察步骤。本发明能够应用于观察在半导体晶圆的制造中产生的缺陷的方法。
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公开(公告)号：CN104024838A
公开(公告)日：2014-09-03
申请号：CN201280064315.1
申请日：2012-11-26
申请人： 株式会社日立高新技术
IPC分类号： G01N23/225 , G01N21/956
CPC分类号： G06F3/04842 , G02B21/365 , G06F9/451 , G06T7/0004 , H01J37/265 , H01J2237/2817
摘要： 本发明提供一种GUI、分类装置、分类方法、程序以及存储分类程序的存储介质。GUI具备：未赋予方框区域，其将作为类别信息未被赋予的图像的集合的文件夹分层显示；图像方框区域，其显示上述未赋予方框区域中显示的类别信息未被赋予的图像；和类别方框区域，其显示类别信息被赋予的图像；如果对于该类别信息未被赋予的图像从外部输入类别信息，则显示该输入的类别信息。
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公开(公告)号：CN115088061A
公开(公告)日：2022-09-20
申请号：CN202180013541.6
申请日：2021-01-08
申请人： 株式会社日立高新技术
摘要： 一种试样观察系统，具有扫描型电子显微镜和计算机，进行如下处理：(1)取得所述扫描型电子显微镜拍摄的多个图像；(2)从所述多个图像取得包含缺陷部位的学习用缺陷图像和不包含所述缺陷部位的学习用参照图像；(3)使用所述学习用缺陷图像和所述学习用参照图像来计算推定处理参数；(4)取得包含缺陷部位的检查用缺陷图像；以及(5)使用所述推定处理参数和所述检查用缺陷图像来推定伪参照图像。
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公开(公告)号：CN105026883B
公开(公告)日：2018-08-10
申请号：CN201480012327.9
申请日：2014-01-27
申请人： 株式会社日立高新技术
IPC分类号： G01B15/00 , G01B11/00 , G01N23/225 , H01L21/66 , H01J37/22
CPC分类号： G06T7/001 , G06K9/6202 , G06K9/6284 , G06T2207/10061 , G06T2207/30148 , H01J2237/2817 , H01L22/12
摘要： 为了缩短缺陷图像的收集时间，缺陷检查装置具备：读出部，其读出已检测的半导体晶片的缺陷位置；第1摄像部，其在与读出的缺陷中的某一个缺陷所存在的芯片不同的芯片中，以第1倍率拍摄参照图像；第2摄像部，其以第1倍率拍摄包含读出的缺陷的第1缺陷图像；缺陷位置确定部，其比较通过第1摄像部拍摄的参照图像与通过第2摄像部拍摄的第1缺陷图像，来确定第1缺陷图像上的缺陷位置；以及第3摄像部，其基于确定缺陷位置，以比第1倍率高的第2倍率拍摄第2缺陷图像，并具有：排序部，其按照无重复地转一圈的路径顺序对读出的缺陷进行排序；以及载物台移动路径生成部，其对每个与参照图像对应的缺陷选择用于拍摄参照图像的芯片，并通过决定第1摄像部和第2摄像部中的载物台的移动位置来生成载物台移动路径。
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