膜厚测量装置和成膜装置

    公开(公告)号:CN104395690B

    公开(公告)日:2017-05-31

    申请号:CN201280073820.2

    申请日:2012-06-13

    IPC分类号: G01B11/06 C23C14/24

    摘要: 提供能够高精度地测量光学膜厚的膜厚测量装置。膜厚测量装置(6)具备:通过照射侧光纤(f1)向监视基板(Sm)照射光的投光器(11)、通过受光侧光纤(f2)接收从投光器(11)照射后由监视基板(Sm)反射的光的受光装置(22)、和捆扎多个照射侧光纤(f1)和多个受光侧光纤(f2)而形成的光学传感器用探头(13),其中,在光学传感器用探头(13)的与监视基板(Sm)对置的末端面上分别配置有多个照射侧光纤(f1)的端面和多个受光侧光纤(f2)的端面,照射侧光纤(f1)的各个端面以与受光侧光纤(f2)的端面相邻的状态呈圆弧状或圆环状排列,并且,受光侧光纤(f2)的各个端面以与照射侧光纤(f1)的各个端面相邻的状态呈圆弧状或圆环状排列。

    光学式膜厚计以及具有光学式膜厚计的薄膜形成装置

    公开(公告)号:CN102472611B

    公开(公告)日:2015-06-17

    申请号:CN201080029355.3

    申请日:2010-06-29

    IPC分类号: G01B11/06 C23C14/54

    摘要: 本发明提供能够高精度地计测光学膜厚和分光特性的光学式膜厚计以及具有光学式膜厚计的薄膜形成装置。光学式膜厚计由投光器(11)、反射镜(17)、受光器(19)和分光器(20)构成,具有反射镜(17),该反射镜(17)相对于测定光的入射方向位于实际基板(S)的相反侧,且反射面被配置成与测定光的光轴大致垂直。另外,实际基板(S)被配置成相对于测定光的光轴具有规定的倾斜角度(α)。测定光(出射光和反射光)2次透过实际基板(S),能够增大透过率(光量)的变化量,能够提高膜厚测定的控制精度。另外,能够防止因透过位置的不同而产生测定误差,另外,在受光器(19)侧不会检测到未通过规定路径而2次透过测定基板的测定光,所以能够高精度地计测光学膜厚和分光特性。

    光学式膜厚测量装置及采用光学式膜厚测量装置的薄膜形成装置

    公开(公告)号:CN103384811B

    公开(公告)日:2014-11-26

    申请号:CN201280001496.3

    申请日:2012-02-15

    IPC分类号: G01B11/06 C23C14/54

    摘要: 本发明提供一种光学式膜厚测量装置及采用光学式膜厚测量装置的薄膜形成装置,不用监视器基板就能够实时且高精度地直接测定产品的膜厚。光学式膜厚测量装置具备:投射部;受光部;基体保持单元内的将测定光向基体反射的多个内部分束器;对来自多个内部分束器中的最靠近的内部分束器的测定光进行全反射的内部光反射部件;将来自多个内部分束器的测定光向受光部反射的多个外部分束器;以及将来自光反射部件的测定光向受光部反射的外部光反射部件。被内部分束器及内部光反射部件反射的测定光在透过基体之后,被外部分束器及外部光反射部件反射并导向受光部,从而接收测定光。

    光学式膜厚测量装置及采用光学式膜厚测量装置的薄膜形成装置

    公开(公告)号:CN103384811A

    公开(公告)日:2013-11-06

    申请号:CN201280001496.3

    申请日:2012-02-15

    IPC分类号: G01B11/06 C23C14/54

    摘要: 提供一种光学式膜厚测量装置及采用光学式膜厚测量装置的薄膜形成装置,不用监视器基板就能够实时且高精度地直接测定产品的膜厚。光学式膜厚测量装置具备:投射部;受光部;基体保持单元内的将测定光向基体反射的多个内部分束器;对来自多个内部分束器中的最靠近的内部分束器的测定光进行全反射的内部光反射部件;将来自多个内部分束器的测定光向受光部反射的多个外部分束器;以及将来自光反射部件的测定光向受光部反射的外部光反射部件。被内部分束器及内部光反射部件反射的测定光在透过基体之后,被外部分束器及外部光反射部件反射并导向受光部,从而接收测定光。

    成膜方法和成膜装置
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103154298A

    公开(公告)日:2013-06-12

    申请号:CN201280003215.8

    申请日:2012-08-02

    IPC分类号: C23C14/02 C23C14/22

    摘要: 本发明提供可有效地进行防污膜的成膜的成膜装置,该防污膜的耐磨耗性能不但可耐实用而且耐磨耗性能也进一步得到提高。本发明的成膜装置(1)为将具有用于保持两个以上基板(14)的基体保持面的基板支架(12)可旋转地配设在真空容器(10)内的成膜装置(1),其中,该成膜装置(1)是具有离子源(38)以及作为成膜单元的蒸镀源(34)和限制板(36)的构成,所述离子源(38)按照可向着上述基体保持面的一部分区域照射离子束这样的构成、配置和/或朝向被设置在真空容器(10)内,所述作为成膜单元的蒸镀源(34)和限制板(36)按照可向着作为上述基体保持面的一部分且与基于离子源(38)的离子束的照射区域的至少一部分重复的区域来供给成膜材料这样的构成被设置在真空容器(10)内。

    薄膜形成装置
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103014617A

    公开(公告)日:2013-04-03

    申请号:CN201210327850.3

    申请日:2012-09-06

    IPC分类号: C23C14/04 C23C16/04

    摘要: 本发明提供一种薄膜形成装置,其通过使仅在多个基板上的特定部分上形成薄膜的作业简单化、效率化,从而能够缩短薄膜形成时的作业时间,减少成膜作业的费用。薄膜形成装置(100)具备的基板保持机构(3)具有:基板保持部件(10~40),保持多个基板(S),使得基板(S)的非成膜部分(S2)的一部分与其他基板(S)重合,而成膜部分(S1)露出;支撑部件(50),支撑基板保持部件(10~40);旋转部件(60),使支撑部件(50)旋转,基板保持部件(10~40)具有:多个保持面(11d),保持多个基板(S),配置在成膜源(4)与多个基板(S)之间;多个阶差部(11e),形成在多个保持面(11d)之间,分别与多个基板(S)的端部抵接;多个开口部(11f),在基板(S)的端部抵接在多个阶差部(11e)的状态时,形成在与成膜部分(S1)相应的部分的保持面(11d)上。

    光学薄膜沉积装置及光学薄膜的制造方法

    公开(公告)号:CN101861408B

    公开(公告)日:2011-09-28

    申请号:CN200980100991.8

    申请日:2009-08-17

    IPC分类号: C23C14/22

    摘要: 本发明提供一种能够制造具有良好的光学特性的光学薄膜的光学薄膜沉积装置,以及制造成本低廉而且具有良好的光学特性的光学薄膜的制造方法。在真空容器(10)内向基体(14)沉积沉积物质的光学薄膜沉积装置具有:圆顶形的基体保持单元(12),其设置在真空容器(10)内,用于保持基体(14);旋转单元,其使基体保持单元(12)旋转;沉积单元(34),其与基体(14)相对设置;离子源(38),其向基体(14)照射离子;以及中和器(40),其向基体(14)照射电子。离子源(38)被设置在下述位置,即,所述位置是使从离子源(38)照射离子的轴线、与相对于基体(14)的表面的垂线之间的角度为8°以上40°以下,并使基体保持单元的旋转轴中心和离子源(38)的中心之间的垂直方向的距离、与基体保持单元(12)的直径之比为0.5以上1.2以下的范围。