表面检查装置
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102203590A

    公开(公告)日:2011-09-28

    申请号:CN200980143980.8

    申请日:2009-11-02

    CPC classification number: G01N21/95607 G01N21/4788 G01N21/9501

    Abstract: 表面检查装置(1),具备:载台(10),用以支承晶圆(W);照明系统(20),对载台(10)所支承的晶圆(W)的表面照射紫外光;受光系统(30),使来自晶圆(W)表面的光成像于既定摄影面上;摄影机部(34),拍摄通过受光系统(30)成像于摄影面上的晶圆(W)的像;像素补足驱动部(35),用以进行像素补足;控制部(40),控制像素补足驱动部(35)及摄影机部(34)的作动,据以一边使像素补足驱动部(35)进行像素补足,一边使摄影机部(34)拍摄多个晶圆(W)的像;以及影像处理部(45),产生晶圆(W)的合成影像,该合成影像,对应像素补足的顺序将摄影机部(34)所拍摄的多个影像的各像素排列合成。

    表面检查装置
    3.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101443654B

    公开(公告)日:2011-05-18

    申请号:CN200780016848.1

    申请日:2007-05-09

    CPC classification number: G01B11/25 G01N21/21 G01N21/95684

    Abstract: 本发明提供一种能够对于重复图案的多种缺陷确保充分的检测灵敏度的表面检查装置。具有:对形成在被检物体(20)的表面上的重复图案进行照明,对由重复图案的形状变化而产生的正反射光(L2)的强度的变化进行测定的单元(13~15);用直线偏振光对重复图案进行照明,将重复图案的重复方向与直线偏振光的振动面的方向所成的角度设定为斜角度,对由重复图案的形状变化而产生的正反射光(L2)的偏振光状态的变化进行测定的单元(13~15);基于正反射光(L2)的强度的变化和偏振光状态的变化,检测重复图案的缺陷的单元(15)。

    表面检查设备
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101473219A

    公开(公告)日:2009-07-01

    申请号:CN200780022728.2

    申请日:2007-07-06

    CPC classification number: G01B11/14 G01N21/21 G01N21/956

    Abstract: 一种表面检查设备,具有:照明装置,用于通过线偏振来照明形成在待检查对象的表面上的重复图案;设定装置,用于将由线偏振的入射面的表面上的方向和重复图案的重复方向形成的角度设定成零以外的指定值;提取装置,用于从沿镜面方向从重复图案产生的光中提取垂直于线偏振的振动面的偏振分量;受光装置,用于接受由提取装置提取的光并输出镜面反射光的光强;以及检测装置,用于基于从受光装置输出的镜面反射光的光强来检测重复图案的缺陷。设定装置设定由线偏振的入射面的表面上的方向和重复图案的重复方向形成的角度,使得来自表面上的正常部分的光的强度与来自表面上的缺陷部分的光的光强之间的差为最大值。

    检查装置及检查方法
    5.
    发明授权

    公开(公告)号:CN102884609B

    公开(公告)日:2016-04-13

    申请号:CN201180021893.2

    申请日:2011-04-28

    Inventor: 深泽和彦

    CPC classification number: G01N21/9501 G03F7/70641

    Abstract: 检查装置(1)具备:载台(5),支撑被曝光装置曝光而于表面形成有既定图案的晶圆(10);照明系(20),对支撑于载台(5)的晶圆(10)的表面照射照明光;摄影装置(35),检测来自被照射照明光的晶圆(10)的表面的光;以及影像处理部(40),利用在某曝光装置设定的作为基准的聚焦条件或作为基准的曝光量,从被摄影装置(35)检测的来自被不同曝光装置(60)曝光的晶圆(10)表面的光的资讯,进行与该不同曝光装置(60)相关的聚焦条件或曝光量的调整值的算出。

    缺陷检查装置、缺陷检查方法和孔图形的检查方法

    公开(公告)号:CN100549618C

    公开(公告)日:2009-10-14

    申请号:CN200310123005.5

    申请日:2003-12-23

    CPC classification number: G01N21/95692

    Abstract: 本发明提供一种能以高S/N比进行最上层图形的检查的缺陷检查装置。从被照明光L1照明的、作为基板的晶片2上产生衍射光L2,然后将其导入由透镜41、透镜42构成的受光光学系统4中而被汇聚,使由衍射光L2形成的晶片2的像在作为本发明的摄像单元的摄像元件5上成像。图像处理装置6对由摄像元件5取入的图像进行图像处理,检查缺陷。偏光板7被进行旋转调整,使得照明光L1用S偏振光对晶片2进行照明。S偏振光的表面反射率高,从而到达基底的光量变少。因此,利用S偏振光进行照明,由此可以使从表层反射的光量比被基底反射的光量多,从而能在S/N比良好的状态下检查表层的缺陷。

    表面检查装置
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101443654A

    公开(公告)日:2009-05-27

    申请号:CN200780016848.1

    申请日:2007-05-09

    CPC classification number: G01B11/25 G01N21/21 G01N21/95684

    Abstract: 本发明提供一种能够对于重复图案的多种缺陷确保充分的检测灵敏度的表面检查装置。具有:对形成在被检物体(20)的表面上的重复图案进行照明,对由重复图案的形状变化而产生的正反射光(L2)的强度的变化进行测定的单元(13~15);用直线偏振光对重复图案进行照明,将重复图案的重复方向与直线偏振光的振动面的方向所成的角度设定为斜角度,对由重复图案的形状变化而产生的正反射光(L2)的偏振光状态的变化进行测定的单元(13~15);基于正反射光(L2)的强度的变化和偏振光状态的变化,检测重复图案的缺陷的单元(15)。

    评估装置及评估方法
    9.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102203589A

    公开(公告)日:2011-09-28

    申请号:CN200980143039.6

    申请日:2009-11-09

    CPC classification number: G01J4/00 G01N21/21 G01N21/95607

    Abstract: 评估装置(1)使测光件(42)旋转成测光件(42)的透射轴的方位相对偏光件(32)的透射轴成为90度±3度的倾斜角度,以各条件由摄影机(44)拍摄晶圆(10)的正反射像,影像处理部(50),是根据通过摄影机(44)拍摄的两片晶圆(10)的影像,评估反复图案的形状以检测剂量不良及聚焦不良。

    观察方法、检查装置及检查方法

    公开(公告)号:CN101622525A

    公开(公告)日:2010-01-06

    申请号:CN200880006492.8

    申请日:2008-02-27

    Inventor: 深泽和彦

    CPC classification number: G01N21/9501 G01N21/21 G01N21/8806

    Abstract: 本发明提供一种观察装置、检查装置及检查方法。检查装置(1)包括:通过具有多种波长的照明光照射晶圆的照明部(30);对由照明光照射的晶圆进行摄影的摄影部(40);以及按照多种波长的每一种波长进行预定的加权,生成由摄影部(40)摄影的晶圆的检查用摄影图像,并基于生成的检查用摄影图像,判断晶圆有无缺陷的图像处理部(27)。

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