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公开(公告)号：CN103918059A
公开(公告)日：2014-07-09
申请号：CN201280054130.2
申请日：2012-11-29
Applicant: 株式会社尼康
Inventor： 藤森义彦
IPC: H01L21/027 , G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70641 , G03F7/7085 , H01L22/24 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
Abstract: 本发明提供了一种能从形成于晶片上的元件图案测量曝光图案时的聚焦状态的装置。具备：照明系(20)，以照明光照明于表面具有因曝光而形成的图案的晶片(10)；受光系(30)及摄影装置(35)，检测因形成于晶片(10)表面的图案而被调变的照明光并输出检测信号；以及检查部(42)，使用在该图案的多个部分检测出的检测信号测定晶片(10)表面上的所欲部分的图案的曝光条件。
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公开(公告)号：CN103283002B
公开(公告)日：2016-06-15
申请号：CN201180051853.2
申请日：2011-02-10
Applicant: 株式会社尼康
IPC: H01L21/027
CPC classification number: G01N21/9501 , G03F7/70641 , G03F9/7026 , H01L22/12 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
Abstract: 表面检查装置(1)，具备：载台(5)，支承通过曝光装置(100)进行曝光而于表面形成有既定图案的晶片(10)；照明系统(20)，将照明光照射于支承在载台(5)的晶片(10)的表面；摄影装置(35)，检测来自照射照明光的晶片(10)的表面的光并输出检测信号；以及图像处理部(40)，根据从摄影装置(35)所输出的检测信号以判定曝光时的聚焦状态。
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公开(公告)号：CN103201830A
公开(公告)日：2013-07-10
申请号：CN201180053877.1
申请日：2011-11-09
Applicant: 株式会社尼康
Inventor： 藤森义彦
IPC: H01L21/66 , H01L21/027
CPC classification number: H01L22/12 , G01B2210/56 , G01N21/95692 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
Abstract: 提供一种能检查至图案的深部为止的硅基板(晶圆)的检查方法。基板的检查方法，具有：照射步骤(S101)，对在一方的面形成有既定图案的硅基板的一方或另一方的面照射照明光，该照明光具有对硅基板的渗透性；检测步骤(S102)，检测来自照明光照射后的硅基板的光；以及检查步骤(S103)，从在检测步骤检测出的来自硅基板的光的检测信号，进行利用图案的周期性的光的特性的硅基板的检查。
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公开(公告)号：CN101460833A
公开(公告)日：2009-06-17
申请号：CN200780020228.5
申请日：2007-05-29
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G01N21/956 , G01B11/30 , H01L21/66
CPC classification number: G01B11/24 , G01N21/21 , G01N21/9501 , G01N21/95607 , G01N2021/9513
Abstract: 一种表面检查设备(1)包括利用线偏振光(L1)来照明形成有重复图案的晶片(10)的表面的照明光学系统(30)；保持晶片(10)的对准台(20)；拾取来自晶片(10)表面的反射光的图像的拾取光学系统(40)；存储通过拾取光学系统(40)拾取的图像的图像存储单元(51)；对存储在图像存储单元(51)中的图像执行预定的图像处理并检测重复图案的缺陷的图像处理单元(52)；以及输出通过图像处理单元(52)处理的图像的结果的图像输出单元(53)。第二偏振板(43)的传输轴的方位设定为相对于第一偏振板(32)的传输轴成45度倾斜。
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公开(公告)号：CN103250232B
公开(公告)日：2016-01-27
申请号：CN201180059328.5
申请日：2011-12-14
Applicant: 株式会社尼康
IPC: H01L21/027 , G01B11/00 , G01N21/94 , G03F7/20
CPC classification number: G01N21/9501 , G01N21/94 , G01N21/95607 , G01N2021/95615 , G02B26/0808 , G03F7/70341 , G03F7/70641 , G03F7/70783 , H01L22/12
Abstract: 提供一种能以短时间、高精度测量曝光时的聚焦状态的装置。表面检查装置1具有以照明系20照明具有既定图案的晶圆（wafer）10的表面并拍摄来自晶圆10的光所形成的影像的摄影装置35、储存关于显示影像的信号强度与聚焦偏移量的关系的聚焦曲线的信息(基准数据)的记忆部45、利用记忆部45中储存的基准数据从以摄影装置35拍摄的影像信号强度判定对晶圆10上的图案曝光时的聚焦状态的影像处理部40。
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公开(公告)号：CN103250232A
公开(公告)日：2013-08-14
申请号：CN201180059328.5
申请日：2011-12-14
Applicant: 株式会社尼康
IPC: H01L21/027 , G01B11/00 , G01N21/94 , G03F7/20
CPC classification number: G01N21/9501 , G01N21/94 , G01N21/95607 , G01N2021/95615 , G02B26/0808 , G03F7/70341 , G03F7/70641 , G03F7/70783 , H01L22/12
Abstract: 提供一种能以短时间、高精度测量曝光时的聚焦状态的装置。表面检查装置1具有以照明系20照明具有既定图案的晶圆（wafer）10的表面并拍摄来自晶圆10的光所形成的影像的摄影装置35、储存关于显示影像的信号强度与聚焦偏移量的关系的聚焦曲线的信息(基准数据)的记忆部45、利用记忆部45中储存的基准数据从以摄影装置35拍摄的影像信号强度判定对晶圆10上的图案曝光时的聚焦状态的影像处理部40。
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公开(公告)号：CN103283002A
公开(公告)日：2013-09-04
申请号：CN201180051853.2
申请日：2011-02-10
Applicant: 株式会社尼康
IPC: H01L21/027
CPC classification number: G01N21/9501 , G03F7/70641 , G03F9/7026 , H01L22/12 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
Abstract: 表面检查装置(1)，具备：载台(5)，支承通过曝光装置(100)进行曝光而于表面形成有既定图案的晶片(10)；照明系统(20)，将照明光照射于支承在载台(5)的晶片(10)的表面；摄影装置(35)，检测来自照射照明光的晶片(10)的表面的光并输出检测信号；以及图像处理部(40)，根据从摄影装置(35)所输出的检测信号以判定曝光时的聚焦状态。
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公开(公告)号：CN101443649A
公开(公告)日：2009-05-27
申请号：CN200780016832.0
申请日：2007-05-11
Applicant: 株式会社尼康
Inventor： 藤森义彦
IPC: G01N21/88 , G01N21/956 , G06T1/00
CPC classification number: G01N21/9501 , G06T5/20 , G06T2207/30148
Abstract: 本发明的表面检查装置包括下列构成：对晶片W表面照射检查用照明光Li的照明光源(1)；对晶片W受到检查用照明光Li照射而发出的漫射光进行感光对其表面摄像的相机(5)；显示相机(5)的摄像单元(6)摄像得到的晶片表面的图像的显示装置(15)；以及使得摄像单元(6)摄像得到的晶片W表面中亮度高的部分膨胀在显示装置(15)上显示的图像膨胀处理装置(11)。
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