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公开(公告)号：CN106875969A
公开(公告)日：2017-06-20
申请号：CN201610811820.8
申请日：2016-09-09
Applicant: 株式会社东芝
IPC: G11C11/16
Abstract: 本发明涉及磁存储器，具备：导电层，具有第1端子及第2端子；多个磁阻元件，相互间隔地配置于所述第1端子与所述第2端子之间的所述导电层，各磁阻元件具有参照层、配置于所述参照层与所述导电层之间的存储层以及配置于所述存储层与所述参照层之间的非磁性层；以及电路，对所述多个磁阻元件的所述参照层施加第1电位，并且使第1写入电流在所述第1端子与第2端子之间流过，对所述多个磁阻元件中的应该写入数据的磁阻元件的所述参照层施加第2电位并且使与所述第1写入电流反向的第2写入电流在所述第1端子与第2端子之间流过。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106875969B
公开(公告)日：2019-10-11
申请号：CN201610811820.8
申请日：2016-09-09
Applicant: 株式会社东芝
IPC: G11C11/16
Abstract: 本发明涉及磁存储器，具备：导电层，具有第1端子及第2端子；多个磁阻元件，相互间隔地配置于所述第1端子与所述第2端子之间的所述导电层，各磁阻元件具有参照层、配置于所述参照层与所述导电层之间的存储层以及配置于所述存储层与所述参照层之间的非磁性层；以及电路，对所述多个磁阻元件的所述参照层施加第1电位，并且使第1写入电流在所述第1端子与第2端子之间流过，对所述多个磁阻元件中的应该写入数据的磁阻元件的所述参照层施加第2电位并且使与所述第1写入电流反向的第2写入电流在所述第1端子与第2端子之间流过。
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公开(公告)号：CN1315723A
公开(公告)日：2001-10-03
申请号：CN01111867.9
申请日：2001-03-22
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: G11B5/3925 , G11B5/00 , G11B5/127 , G11B5/1278 , G11B5/3116 , G11B2005/0002 , G11B2005/0021 , Y10T29/49039 , Y10T29/49043 , Y10T29/49044 , Y10T29/49046 , Y10T29/49055 , Y10T29/49067
Abstract: 在此提供一种即使在较短磁通路长度和较短波长信号的情况下也能够有效执行磁头的记录或再现操作的磁头。该磁头包括：一对软磁性材料的磁质部分,每个磁质部分的主平面作为一个与记录介质相对的表面;以及位于该对磁质部分之间的一个磁隙,其被形成使得在主平面的相对侧上的该对磁质部分之间的距离大于在主平面上的该对磁质部分之间的距离,并且该对磁质部分之间的距离从主平面一侧到主平面的相对侧连续变化。
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公开(公告)号：CN102428544A
公开(公告)日：2012-04-25
申请号：CN200980159359.0
申请日：2009-05-20
Applicant: 株式会社东芝
IPC: H01L21/3065 , G11B5/84
CPC classification number: G11B5/855 , H01L21/0337 , H01L21/31116 , H01L21/31122
Abstract: 本发明提供凹凸图案形成方法，能够尽可能地抑制凹凸图案的凸部的垂肩。所述凹凸图案形成方法的特征在于，具备以下工序：在形成有凹凸图案的基材(2，4)上形成备有具有凸部的图案的导向图案(6)的工序；在导向图案上形成具有层叠有第一层(8)和第二层(10)的形成层的工序，第一层(8)包含选自第一金属元素及类金属元素中的至少一个元素，所述第二层(10)包含与所述第一金属元素不同的第二金属元素；通过蚀刻形成层，仅在凸部的侧部选择性地留置形成层的工序；除去导向图案的工序；以及通过以留置的形成层作为掩膜来蚀刻基材，由此在基材上形成凹凸图案的工序。
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公开(公告)号：CN102428544B
公开(公告)日：2014-10-29
申请号：CN200980159359.0
申请日：2009-05-20
Applicant: 株式会社东芝
IPC: G11B5/84 , H01L21/3065
CPC classification number: G11B5/855 , H01L21/0337 , H01L21/31116 , H01L21/31122
Abstract: 本发明提供凹凸图案形成方法，能够尽可能地抑制凹凸图案的凸部的垂肩。所述凹凸图案形成方法的特征在于，具备以下工序：在形成有凹凸图案的基材(2，4)上形成备有具有凸部的图案的导向图案(6)的工序；在导向图案上形成具有层叠有第一层(8)和第二层(10)的形成层的工序，第一层(8)包含选自第一金属元素及类金属元素中的至少一个元素，所述第二层(10)包含与所述第一金属元素不同的第二金属元素；通过蚀刻形成层，仅在凸部的侧部选择性地留置形成层的工序；除去导向图案的工序；以及通过以留置的形成层作为掩膜来蚀刻基材，由此在基材上形成凹凸图案的工序。
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公开(公告)号：CN1190776C
公开(公告)日：2005-02-23
申请号：CN01111867.9
申请日：2001-03-22
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: G11B5/3925 , G11B5/00 , G11B5/127 , G11B5/1278 , G11B5/3116 , G11B2005/0002 , G11B2005/0021 , Y10T29/49039 , Y10T29/49043 , Y10T29/49044 , Y10T29/49046 , Y10T29/49055 , Y10T29/49067
Abstract: 在此提供一种即使在较短磁通路长度和较短波长信号的情况下也能够有效执行磁头的记录或再现操作的磁头。该磁头包括：一对软磁性材料的磁质部分，每个磁质部分的主平面作为一个与记录介质相对的表面；以及位于该对磁质部分之间的一个磁隙，其被形成使得在主平面的相对侧上的该对磁质部分之间的距离大于在主平面上的该对磁质部分之间的距离，并且该对磁质部分之间的距离从主平面一侧到主平面的相对侧连续变化。
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