公开(公告)号：CN106716661B

公开(公告)日：2019-07-09

申请号：CN201580045837.0

申请日：2015-11-17

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 大岭俊平 ,  大坊忠臣 ,  加藤侑志 ,  长谷直基 ,  伊藤顺一

IPC: H01L43/08 ,  H01F10/16 ,  H01F10/30 ,  H01F10/32 ,  H01L21/8246 ,  H01L27/105 ,  H01L43/10

CPC classification number: H01L43/02 ,  H01F10/16 ,  H01F10/30 ,  H01F10/32 ,  H01L27/105 ,  H01L27/228 ,  H01L43/08 ,  H01L43/10 ,  H01L43/12

Abstract: 提供即使将存储层薄膜化，也能降低底基层中所含元素的扩散的影响的磁阻元件和磁存储器。根据本实施方案的磁阻元件具备：包含Ni和Co中的至少一种元素及Al的具有CsCl结构的第1层、第1磁性层、所述第1层和所述第1磁性层之间的第1非磁性层、以及所述第1层和所述第1非磁性层之间的包含Mn和Ga的第2磁性层。

公开(公告)号：CN106716661A

公开(公告)日：2017-05-24

申请号：CN201580045837.0

申请日：2015-11-17

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 大岭俊平 ,  大坊忠臣 ,  加藤侑志 ,  长谷直基 ,  伊藤顺一

IPC: H01L43/08 ,  H01F10/16 ,  H01F10/30 ,  H01F10/32 ,  H01L21/8246 ,  H01L27/105 ,  H01L43/10

CPC classification number: H01L43/02 ,  H01F10/16 ,  H01F10/30 ,  H01F10/32 ,  H01L27/105 ,  H01L27/228 ,  H01L43/08 ,  H01L43/10 ,  H01L43/12

Abstract: 提供即使将存储层薄膜化，也能降低底基层中所含元素的扩散的影响的磁阻元件和磁存储器。根据本实施方案的磁阻元件具备：包含Ni和Co中的至少一种元素及Al的具有CsCl结构的第1层、第1磁性层、所述第1层和所述第1磁性层之间的第1非磁性层、以及所述第1层和所述第1非磁性层之间的包含Mn和Ga的第2磁性层。

公开(公告)号：CN102428544B

公开(公告)日：2014-10-29

申请号：CN200980159359.0

申请日：2009-05-20

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 有贺智崇 ,  大泽裕一 ,  伊藤顺一 ,  黑崎义成 ,  柏田沙织 ,  平冈俊郎 ,  天野实 ,  柳晓志

IPC: G11B5/84 ,  H01L21/3065

CPC classification number: G11B5/855 ,  H01L21/0337 ,  H01L21/31116 ,  H01L21/31122

Abstract: 本发明提供凹凸图案形成方法，能够尽可能地抑制凹凸图案的凸部的垂肩。所述凹凸图案形成方法的特征在于，具备以下工序：在形成有凹凸图案的基材(2，4)上形成备有具有凸部的图案的导向图案(6)的工序；在导向图案上形成具有层叠有第一层(8)和第二层(10)的形成层的工序，第一层(8)包含选自第一金属元素及类金属元素中的至少一个元素，所述第二层(10)包含与所述第一金属元素不同的第二金属元素；通过蚀刻形成层，仅在凸部的侧部选择性地留置形成层的工序；除去导向图案的工序；以及通过以留置的形成层作为掩膜来蚀刻基材，由此在基材上形成凹凸图案的工序。

公开(公告)号：CN107078210A

公开(公告)日：2017-08-18

申请号：CN201580045843.6

申请日：2015-11-12

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 长谷直基 ,  落合隆夫 ,  大坊忠臣 ,  加藤侑志 ,  大岭俊平 ,  伊藤顺一

IPC: H01L43/08 ,  H01L21/8246 ,  H01L27/105 ,  H01L43/10

Abstract: 本实施方案提供能降低漏磁场的磁阻效应元件和使用其的磁存储器。根据本实施方案的磁阻元件具备第1磁性层、第2磁性层以及设置于所述第1磁性层和所述第2磁性层之间的第1非磁性层，所述第2磁性层具备包含选自由Mn、Fe、Co和Ni组成的第1组的至少一种元素、选自由Ru、Rh、Pd、Ag、Os、Ir、Pt和Au组成的第2组的至少一种元素、以及选自由Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb和Lu组成的第3组的至少一种元素的磁性体。

公开(公告)号：CN102428544A

公开(公告)日：2012-04-25

申请号：CN200980159359.0

申请日：2009-05-20

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 有贺智崇 ,  大泽裕一 ,  伊藤顺一 ,  黑崎义成 ,  柏田沙织 ,  平冈俊郎 ,  天野实 ,  柳晓志

IPC: H01L21/3065 ,  G11B5/84

CPC classification number: G11B5/855 ,  H01L21/0337 ,  H01L21/31116 ,  H01L21/31122

Abstract: 本发明提供凹凸图案形成方法，能够尽可能地抑制凹凸图案的凸部的垂肩。所述凹凸图案形成方法的特征在于，具备以下工序：在形成有凹凸图案的基材(2，4)上形成备有具有凸部的图案的导向图案(6)的工序；在导向图案上形成具有层叠有第一层(8)和第二层(10)的形成层的工序，第一层(8)包含选自第一金属元素及类金属元素中的至少一个元素，所述第二层(10)包含与所述第一金属元素不同的第二金属元素；通过蚀刻形成层，仅在凸部的侧部选择性地留置形成层的工序；除去导向图案的工序；以及通过以留置的形成层作为掩膜来蚀刻基材，由此在基材上形成凹凸图案的工序。