公开(公告)号：CN102428544A

公开(公告)日：2012-04-25

申请号：CN200980159359.0

申请日：2009-05-20

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 有贺智崇 ,  大泽裕一 ,  伊藤顺一 ,  黑崎义成 ,  柏田沙织 ,  平冈俊郎 ,  天野实 ,  柳晓志

IPC: H01L21/3065 ,  G11B5/84

CPC classification number: G11B5/855 ,  H01L21/0337 ,  H01L21/31116 ,  H01L21/31122

Abstract: 本发明提供凹凸图案形成方法，能够尽可能地抑制凹凸图案的凸部的垂肩。所述凹凸图案形成方法的特征在于，具备以下工序：在形成有凹凸图案的基材(2，4)上形成备有具有凸部的图案的导向图案(6)的工序；在导向图案上形成具有层叠有第一层(8)和第二层(10)的形成层的工序，第一层(8)包含选自第一金属元素及类金属元素中的至少一个元素，所述第二层(10)包含与所述第一金属元素不同的第二金属元素；通过蚀刻形成层，仅在凸部的侧部选择性地留置形成层的工序；除去导向图案的工序；以及通过以留置的形成层作为掩膜来蚀刻基材，由此在基材上形成凹凸图案的工序。

公开(公告)号：CN102428544B

公开(公告)日：2014-10-29

申请号：CN200980159359.0

申请日：2009-05-20

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 有贺智崇 ,  大泽裕一 ,  伊藤顺一 ,  黑崎义成 ,  柏田沙织 ,  平冈俊郎 ,  天野实 ,  柳晓志

IPC: G11B5/84 ,  H01L21/3065

CPC classification number: G11B5/855 ,  H01L21/0337 ,  H01L21/31116 ,  H01L21/31122

Abstract: 本发明提供凹凸图案形成方法，能够尽可能地抑制凹凸图案的凸部的垂肩。所述凹凸图案形成方法的特征在于，具备以下工序：在形成有凹凸图案的基材(2，4)上形成备有具有凸部的图案的导向图案(6)的工序；在导向图案上形成具有层叠有第一层(8)和第二层(10)的形成层的工序，第一层(8)包含选自第一金属元素及类金属元素中的至少一个元素，所述第二层(10)包含与所述第一金属元素不同的第二金属元素；通过蚀刻形成层，仅在凸部的侧部选择性地留置形成层的工序；除去导向图案的工序；以及通过以留置的形成层作为掩膜来蚀刻基材，由此在基材上形成凹凸图案的工序。