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公开(公告)号：CN110168129A
公开(公告)日：2019-08-23
申请号：CN201780082140.X
申请日：2017-12-05
Applicant: 日立金属株式会社
Abstract: 本发明提供一种在成膜时，可抑制在铬合金靶材的表面上生成陷口，且可抑制小滴附着于被处理材的铬合金靶材。一种铬合金靶材，其中原子比中的组成式为Cr100-x-yM1xM2y，0.1≦x≦21.0，0.1≦y≦23.0，M1为选自钛及钒中的一种以上的元素，M2表示选自钼、锰、硼、钨、铌、钽中的一种以上的元素，剩余部包含不可避免的杂质，并且所述铬合金靶材中，含有10质量ppm～1000质量ppm的氧作为不可避免的杂质。
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公开(公告)号：CN107208259B
公开(公告)日：2019-08-13
申请号：CN201680009216.1
申请日：2016-02-02
Applicant: 日立金属株式会社
Abstract: 本发明提供一种能够抑制在溅射时产生的微细颗粒产生的铬‑钛合金溅射靶材及其制造方法。铬‑钛合金溅射靶材的原子比的组成式是以Cr100‑X‑TiX、40≤X≤60表示，剩余部分包含不可避免的杂质，所述杂质中含有合计为1质量ppm以上且50质量ppm以下的Mg、Al、Si、Mn、Ni、Cu及Sn。以及铬‑钛合金溅射靶材的制造方法是将含有合计为1质量ppm以上且50质量ppm以下的Mg、Al、Si、Mn、Ni、Cu及Sn作为杂质的Ti粉末，与含有合计为1质量ppm以上且50质量ppm以下的Mg、Al、Si、Mn、Ni、Cu及Sn作为杂质的Cr粉末混合，并进行加压烧结。
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公开(公告)号：CN111465462A
公开(公告)日：2020-07-28
申请号：CN201880079156.X
申请日：2018-12-18
Applicant: 日立金属株式会社
Abstract: 提供一种可减少内部的气孔的TiAl金属间化合物粉末的制造方法。另外，提供一种减少了内部的气孔的TiAl金属间化合物粉末。一种TiAl金属间化合物粉末的制造方法，其中，使TiAl金属间化合物的切削片通过热等离子体火焰而进行球状化处理。另外，一种TiAl金属间化合物粉末，其剖面中的气孔率为0面积％～0.4面积％。所述TiAl金属间化合物粉末作为利用各种粉末冶金法或层叠造型法制作成形品时使用的原料粉末而适宜。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110168129B
公开(公告)日：2021-04-30
申请号：CN201780082140.X
申请日：2017-12-05
Applicant: 日立金属株式会社
Abstract: 本发明提供一种在成膜时，可抑制在铬合金靶材的表面上生成陷口，且可抑制小滴附着于被处理材的铬合金靶材。一种铬合金靶材，其中原子比中的组成式为Cr100‑x‑yM1xM2y，0.1≦x≦21.0，0.1≦y≦23.0，M1为选自钛及钒中的一种以上的元素，M2表示选自钼、锰、硼、钨、铌、钽中的一种以上的元素，剩余部包含不可避免的杂质，并且所述铬合金靶材中，含有10质量ppm～1000质量ppm的氧作为不可避免的杂质。
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公开(公告)号：CN111448020A
公开(公告)日：2020-07-24
申请号：CN201880077295.9
申请日：2018-12-17
Applicant: 日立金属株式会社
Abstract: 关于包含马氏体时效钢的层叠造型物，提供一种韧性优异的层叠造型物与其制造方法、以及层叠造型用金属粉末。一种层叠造型物，其为包含含有0.1质量％～5.0质量％的Ti的马氏体时效钢的层叠造型物，并且在对所述层叠造型物的与层叠方向平行的剖面的Ti浓度的分布进行面分析时，相对于所述剖面的平均Ti浓度A，具有(1.5×A)以上的Ti浓度B的线状Ti浓化部的长度为15μm以下。另外，为一种层叠造型物的制造方法，其使用包含含有0.1质量％～5.0质量％的Ti的马氏体时效钢的金属粉末，所述层叠造型物的制造方法中，将层叠造型时的热源输出设为50W～330W，将扫描速度设为480mm/秒～3000mm/秒。而且，为一种层叠造型用金属粉末，其包含含有0.1质量％～5.0质量％的Ti的马氏体时效钢，且中数直径D50为200μm以下。
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公开(公告)号：CN107208259A
公开(公告)日：2017-09-26
申请号：CN201680009216.1
申请日：2016-02-02
Applicant: 日立金属株式会社
Abstract: 本发明提供一种能够抑制在溅射时产生的微细颗粒产生的铬‑钛合金溅射靶材及其制造方法。铬‑钛合金溅射靶材的原子比的组成式是以Cr100‑X‑TiX、40≤X≤60表示，剩余部分包含不可避免的杂质，所述杂质中含有合计为1质量ppm以上且50质量ppm以下的Mg、Al、Si、Mn、Ni、Cu及Sn。以及铬‑钛合金溅射靶材的制造方法是将含有合计为1质量ppm以上且50质量ppm以下的Mg、Al、Si、Mn、Ni、Cu及Sn作为杂质的Ti粉末，与含有合计为1质量ppm以上且50质量ppm以下的Mg、Al、Si、Mn、Ni、Cu及Sn作为杂质的Cr粉末混合，并进行加压烧结。
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公开(公告)号：CN111448020B
公开(公告)日：2022-07-12
申请号：CN201880077295.9
申请日：2018-12-17
Applicant: 日立金属株式会社
Abstract: 关于包含马氏体时效钢的层叠造型物，提供一种韧性优异的层叠造型物与其制造方法、以及层叠造型用金属粉末。一种层叠造型物，其为包含含有0.1质量％～5.0质量％的Ti的马氏体时效钢的层叠造型物，并且在对所述层叠造型物的与层叠方向平行的剖面的Ti浓度的分布进行面分析时，相对于所述剖面的平均Ti浓度A，具有(1.5×A)以上的Ti浓度B的线状Ti浓化部的长度为15μm以下。另外，为一种层叠造型物的制造方法，其使用包含含有0.1质量％～5.0质量％的Ti的马氏体时效钢的金属粉末，所述层叠造型物的制造方法中，将层叠造型时的热源输出设为50W～330W，将扫描速度设为480mm/秒～3000mm/秒。
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公开(公告)号：CN107849689A
公开(公告)日：2018-03-27
申请号：CN201680042827.6
申请日：2016-07-26
Applicant: 日立金属株式会社
Abstract: 提供用以抑制溅射时栅极电极的污染，且形成获得稳定的薄膜晶体管特性的栅极电极的靶材。本发明是一种如下的靶材，其是含有合计50原子％以下的选自由W、Nb、Ta、Ni、Ti、Cr所组成的群组的一种或两种以上的元素M，剩余部分包含Mo及不可避免的杂质的靶材，不可避免的杂质之一的K为0.4质量ppm～20.0质量ppm，且优选为含有10原子％～50原子％的W作为所述元素M。
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