半导体装置制造用粘接膜及其制造方法、以及半导体装置及其制造方法

    公开(公告)号:CN111095505A

    公开(公告)日:2020-05-01

    申请号:CN201880060518.0

    申请日:2018-09-18

    Abstract: 本公开的半导体装置制造用粘接膜的制造方法依次包含以下工序:(A)准备至少具有宽度为100mm以下的带状的载体膜和按照将载体膜的表面覆盖的方式形成的粘接剂层的层叠体的工序;和(B)通过对粘接剂层进行模切,获得在载体膜上按照在载体膜的长度方向上排列的方式配置的多个粘接剂片的工序,其中,在(B)工序中进行模切时,按照满足以下不等式(1)所示条件的方式,在粘接剂层及载体膜中刻入切痕,粘接剂片具有在长方形或正方形的至少一边中形成有凸部及凹部中的至少一个的形状。式中,D为切痕相对于载体膜的深度(单位μm)、T为载体膜的厚度(单位μm)。0

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