公开(公告)号：CN101523357B

公开(公告)日：2013-01-09

申请号：CN200780037481.1

申请日：2007-10-04

Applicant: 应用材料公司

Inventor： G·巴拉苏布拉马尼恩 ,  A·班塞尔 ,  E·Y·朱科 ,  M·阿优伯 ,  H-J·金 ,  K·杰纳基拉曼 ,  S·拉蒂 ,  D·帕德希 ,  M·J·西蒙斯 ,  V·斯瓦拉马克瑞希楠 ,  B·H·金 ,  A·阿巴亚缇 ,  D·R·威蒂 ,  H·姆塞德 ,  A·巴利施尼科夫 ,  C·陈 ,  S·刘

IPC: H01L21/683 ,  H01L21/67 ,  H01J37/32 ,  C23C16/52

CPC classification number: H01L21/6831 ,  C23C16/52 ,  H01J37/32431 ,  H01L21/67069 ,  H01L21/67253

Abstract: 本发明提供用以监测与维持等离子反应器中基板的平坦度的方法与设备。本发明的特定实施例提供一种用以处理基板的方法，所述方法至少包含：将基板定位在静电夹具上；施加RF功率于静电夹具中的电极以及反向电极之间，其中反向电极设置成平行于静电夹具；施加DC偏压至静电夹具中的电极，以夹持静电夹具上的基板；以及测量静电夹具的虚拟阻抗。

公开(公告)号：CN206657801U

公开(公告)日：2017-11-21

申请号：CN201621407947.5

申请日：2016-12-21

Applicant: 应用材料公司

Inventor： H·吴尔斯特 ,  S·刘 ,  C·灿格尔 ,  O·乌尔曼

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/687

Abstract: 本实用新型提供一种用于在基板处理腔室中支撑基板(200)的载体(100)。所述载体包括：框架(110)，所述框架被配置成用于接收基板(200)；以及基板固持组件(120)，所述基板固持组件被配置成用于竖直地将所述基板固持在所述框架(110)内。基板固持组件(120)包括位置指示单元(140)，所述位置指示单元用于指示基板相对于所述框架的位置，其中所述位置指示单元(140)可相对于所述框架(110)移动。