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公开(公告)号：CN110883682B
公开(公告)日：2022-05-31
申请号：CN201911339738.X
申请日：2015-10-19
Applicant: 应用材料公司
Inventor： R·巴贾杰 , D·莱德菲尔德 , M·C·奥里拉利 , B·付 , A·J·康纳 , J·G·方 , M·科尔内霍 , A·乔卡里汉 , M·F·雅玛木拉 , R·卡基雷迪 , A·库马 , V·哈里哈兰 , G·E·蒙克 , F·C·雷德克 , N·B·帕蒂班德拉 , H·T·恩古 , R·达文波特 , A·辛哈
Abstract: 本公开的实施例是关于具有可调谐化学特性、材料特性及结构特性的高级研磨垫，及制造所述研磨垫的新方法。根据本公开的一或多个实施例，已发现具有改善特性的研磨垫可由诸如三维(3D)打印工艺的积层制造工艺来产生。因此，本公开的实施例可提供具有离散特征及几何形状、由至少两种不同材料形成的高级研磨垫，所述不同材料包括官能性聚合物、官能性寡聚物、反应性稀释剂及固化剂。举例而言，该高级研磨垫可通过自动化依序沉积至少一种树脂前体组成物，随后以至少一个固化步骤而由多个聚合物层形成，其中各层可表示至少一种聚合物组成物和/或不同组成物的区域。
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公开(公告)号：CN108698206A
公开(公告)日：2018-10-23
申请号：CN201680082260.5
申请日：2016-12-29
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 本文揭示的实施方式总体上涉及抛光制品以及用于制造用于抛光工艺中的抛光制品的方法。更具体而言，本文揭示的实施方式涉及通过工艺产生的多孔抛光垫，所述工艺产出改良的抛光垫特性及性能，包括可调谐的性能。诸如三维打印工艺的增材制造工艺提供制成具有独特特性及属性的多孔抛光垫的能力。
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公开(公告)号：CN107107305A
公开(公告)日：2017-08-29
申请号：CN201580069573.2
申请日：2015-10-16
Applicant: 应用材料公司
Inventor： R·巴贾杰 , D·莱德菲尔德 , M·C·奥里拉利 , B·福 , A·J·康纳 , J·G·方 , M·科尔内霍 , A·乔卡里汉 , M·F·雅玛木拉 , R·卡基雷迪 , A·库马 , V·哈里哈兰 , G·E·蒙柯 , F·C·雷德克 , N·B·帕蒂班德拉 , H·T·恩古 , R·达文波特 , A·辛哈
Abstract: 本公开的实施例是关于具有可调谐化学特性、材料特性及结构特性的高级研磨垫，及制造所述研磨垫的新方法。根据本公开的一或多个实施例，已发现具有改善特性的研磨垫可由诸如三维(3D)打印工艺的积层制造工艺来产生。因此，本公开的实施例可提供具有离散特征及几何形状、由至少两种不同材料形成的高级研磨垫，所述不同材料包括官能性聚合物、官能性寡聚物、反应性稀释剂及固化剂。举例而言，该高级研磨垫可通过自动化依序沉积至少一种树脂前体组成物，随后以至少一个固化步骤而由多个聚合物层形成，其中各层可表示至少一种聚合物组成物和/或不同组成物的区域。
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公开(公告)号：CN104081514B
公开(公告)日：2017-07-28
申请号：CN201380007166.X
申请日：2013-01-31
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/677 , H01L21/205 , C23C16/44
CPC classification number: C23C16/4584 , C23C16/45519 , C23C16/45551 , C23C16/54 , H01L21/67742
Abstract: 在此提供一种用于处理多个基板的基板处理系统，且该基板处理系统大体上包括至少一个基板处理平台以及至少一个基板储备平台。该基板处理平台包括旋转轨道系统，该旋转轨道系统能够支撑多个基板支撑组件，且能够连续地旋转该等基板支撑组件，每一基板支撑组件上搭载基板。每一基板定位在配置于旋转轨道系统上的基板支撑组件上，且透过至少一个喷头站与至少一个缓冲站受处理，该至少一个喷头站与至少一个缓冲站定位在该基板处理平台的该旋转轨道系统顶上。配置在该等基板支撑组件上的多个基板进出该基板处理平台而受处理。该基板储备平台包括至少一个双基板处理站，每一双基板处理站包括两个基板支撑组件，以在该等基板支撑组件上支撑两个基板。
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公开(公告)号：CN104054158A
公开(公告)日：2014-09-17
申请号：CN201380005684.8
申请日：2013-01-31
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/205
CPC classification number: C23C16/54 , B05C13/00 , C23C16/45551
Abstract: 本发明提供一种用于处理多个基板的基板处理系统，且该基板处理系统大体包括至少一处理平台及至少一分段平台。每一基板定位于安置于基板支撑组件上的基板载具上。各自经配置以于其上载运基板的多个基板载具定位于基板支撑组件的表面上。处理平台及分段平台各自包括一单独的基板支撑组件，该基板支撑组件可通过一单独的旋转轨道机构旋转。每一旋转轨道机构能够支撑该基板支撑组件，且使由基板载具载运且安置于基板支撑组件上的多个基板连续旋转。每一基板因此经由至少一喷头站及至少一缓冲站而被处理，该至少一喷头站及该至少一缓冲站定位于处理平台的旋转轨道机构上方一距离处。每一基板可于处理平台与分段平台之间转移，且可转移进及转移出该基板处理系统。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN112088069B
公开(公告)日：2024-03-19
申请号：CN201980030585.2
申请日：2019-04-04
Applicant: 应用材料公司
IPC: B24B37/22 , B24B37/24 , B29C64/112 , B33Y10/00 , B33Y70/10
Abstract: 在一个实施方式中，提供了一种形成多孔抛光垫的方法。所述方法包含用3D打印机沉积多个复合层以达到目标厚度。沉积多个复合层包含将可固化树脂前驱物组成物的一个或多个液滴分配到支撑件上。沉积多个复合层进一步包含将孔隙度形成组成物的一个或多个液滴分配到支撑件上，其中孔隙度形成组成物的至少一种成分是可移除的，以在多孔抛光垫中形成孔。
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公开(公告)号：CN111633554B
公开(公告)日：2021-12-03
申请号：CN202010531179.9
申请日：2015-10-16
Applicant: 应用材料公司
Inventor： R·巴贾杰 , D·莱德菲尔德 , M·C·奥里拉利 , B·福 , A·J·康纳 , J·G·方 , M·科尔内霍 , A·乔卡里汉 , M·F·雅玛木拉 , R·卡基雷迪 , A·库马 , V·哈里哈兰 , G·E·蒙柯 , F·C·雷德克 , N·B·帕蒂班德拉 , H·T·恩古 , R·达文波特 , A·辛哈
Abstract: 本公开的实施例是关于具有可调谐化学特性、材料特性及结构特性的高级研磨垫，及制造所述研磨垫的新方法。根据本公开的一或多个实施例，已发现具有改善特性的研磨垫可由诸如三维(3D)打印工艺的积层制造工艺来产生。因此，本公开的实施例可提供具有离散特征及几何形状、由至少两种不同材料形成的高级研磨垫，所述不同材料包括官能性聚合物、官能性寡聚物、反应性稀释剂及固化剂。举例而言，该高级研磨垫可通过自动化依序沉积至少一种树脂前体组成物，随后以至少一个固化步骤而由多个聚合物层形成，其中各层可表示至少一种聚合物组成物和/或不同组成物的区域。
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公开(公告)号：CN111300261A
公开(公告)日：2020-06-19
申请号：CN202010106777.1
申请日：2014-10-22
Applicant: 应用材料公司
IPC: B24B37/22 , B24B37/24 , B29C64/20 , B29C64/209 , B29C64/393 , B29C64/314 , B33Y30/00 , B33Y40/10 , B33Y50/02
Abstract: 一种制造抛光垫的抛光层的方法包括以下步骤：确定将嵌入在所述抛光层的聚合物母体内的颗粒的期望的分布。利用3D打印机相继地沉积所述聚合物母体的多个层，所述聚合物母体的所述多个层中的每一个层通过从喷嘴喷出聚合物母体前体来沉积。根据所述期望的分布、利用所述3D打印机来相继地沉积所述颗粒的多个层。使聚合物母体前体凝固成具有以所述期望的分布嵌入的颗粒的聚合物母体。
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公开(公告)号：CN107267962B
公开(公告)日：2020-01-10
申请号：CN201710525409.9
申请日：2013-01-31
Applicant: 应用材料公司
IPC: C23C16/455 , C23C16/458 , C23C16/54
Abstract: 提供一种用于处理多个基板的基板处理系统及方法，且该基板处理系统大体上包括至少一个基板处理平台以及至少一个基板储备平台。该基板处理平台包括旋转轨道系统，该旋转轨道系统能够支撑多个基板支撑组件，且能够连续地旋转该等基板支撑组件，每一基板支撑组件上搭载基板。每一基板定位在配置于旋转轨道系统上的基板支撑组件上，且透过至少一个喷头站与至少一个缓冲站受处理，该至少一个喷头站与至少一个缓冲站定位在该基板处理平台的该旋转轨道系统顶上。配置在该等基板支撑组件上的多个基板进出该基板处理平台而受处理。该基板储备平台包括至少一个双基板处理站，每一双基板处理站包括两个基板支撑组件，以在该等基板支撑组件上支撑两个基板。
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公开(公告)号：CN110238752A
公开(公告)日：2019-09-17
申请号：CN201910517080.0
申请日：2015-10-01
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 本公开涉及抛光制品。抛光制品制造系统包含：进料段和卷取段，所述卷取段包含供应辊，所述供应辊具有抛光制品，所述抛光制品设置在所述供应辊上并用于化学机械抛光工艺；打印段，所述打印段包含设置在所述进料段与所述卷取段之间的多个打印头；以及固化段，所述固化段设置在所述进料段与所述卷取段之间，所述固化段包括热固化装置和电磁固化装置中的一者或两者。
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