-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104081514A
公开(公告)日：2014-10-01
申请号：CN201380007166.X
申请日：2013-01-31
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/677 , H01L21/205 , C23C16/44
CPC classification number: C23C16/4584 , C23C16/45519 , C23C16/45551 , C23C16/54 , H01L21/67742
Abstract: 在此提供一种用于处理多个基板的基板处理系统，且该基板处理系统大体上包括至少一个基板处理平台以及至少一个基板储备平台。该基板处理平台包括旋转轨道系统，该旋转轨道系统能够支撑多个基板支撑组件，且能够连续地旋转该等基板支撑组件，每一基板支撑组件上搭载基板。每一基板定位在配置于旋转轨道系统上的基板支撑组件上，且透过至少一个喷头站与至少一个缓冲站受处理，该至少一个喷头站与至少一个缓冲站定位在该基板处理平台的该旋转轨道系统顶上。配置在该等基板支撑组件上的多个基板进出该基板处理平台而受处理。该基板储备平台包括至少一个双基板处理站，每一双基板处理站包括两个基板支撑组件，以在该等基板支撑组件上支撑两个基板。
-
公开(公告)号：CN107267962B
公开(公告)日：2020-01-10
申请号：CN201710525409.9
申请日：2013-01-31
Applicant: 应用材料公司
IPC: C23C16/455 , C23C16/458 , C23C16/54
Abstract: 提供一种用于处理多个基板的基板处理系统及方法，且该基板处理系统大体上包括至少一个基板处理平台以及至少一个基板储备平台。该基板处理平台包括旋转轨道系统，该旋转轨道系统能够支撑多个基板支撑组件，且能够连续地旋转该等基板支撑组件，每一基板支撑组件上搭载基板。每一基板定位在配置于旋转轨道系统上的基板支撑组件上，且透过至少一个喷头站与至少一个缓冲站受处理，该至少一个喷头站与至少一个缓冲站定位在该基板处理平台的该旋转轨道系统顶上。配置在该等基板支撑组件上的多个基板进出该基板处理平台而受处理。该基板储备平台包括至少一个双基板处理站，每一双基板处理站包括两个基板支撑组件，以在该等基板支撑组件上支撑两个基板。
-
公开(公告)号：CN107267962A
公开(公告)日：2017-10-20
申请号：CN201710525409.9
申请日：2013-01-31
Applicant: 应用材料公司
IPC: C23C16/455 , C23C16/458 , C23C16/54
Abstract: 提供一种用于处理多个基板的基板处理系统及方法，且该基板处理系统大体上包括至少一个基板处理平台以及至少一个基板储备平台。该基板处理平台包括旋转轨道系统，该旋转轨道系统能够支撑多个基板支撑组件，且能够连续地旋转该等基板支撑组件，每一基板支撑组件上搭载基板。每一基板定位在配置于旋转轨道系统上的基板支撑组件上，且透过至少一个喷头站与至少一个缓冲站受处理，该至少一个喷头站与至少一个缓冲站定位在该基板处理平台的该旋转轨道系统顶上。配置在该等基板支撑组件上的多个基板进出该基板处理平台而受处理。该基板储备平台包括至少一个双基板处理站，每一双基板处理站包括两个基板支撑组件，以在该等基板支撑组件上支撑两个基板。
-
公开(公告)号：CN104081514B
公开(公告)日：2017-07-28
申请号：CN201380007166.X
申请日：2013-01-31
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/677 , H01L21/205 , C23C16/44
CPC classification number: C23C16/4584 , C23C16/45519 , C23C16/45551 , C23C16/54 , H01L21/67742
Abstract: 在此提供一种用于处理多个基板的基板处理系统，且该基板处理系统大体上包括至少一个基板处理平台以及至少一个基板储备平台。该基板处理平台包括旋转轨道系统，该旋转轨道系统能够支撑多个基板支撑组件，且能够连续地旋转该等基板支撑组件，每一基板支撑组件上搭载基板。每一基板定位在配置于旋转轨道系统上的基板支撑组件上，且透过至少一个喷头站与至少一个缓冲站受处理，该至少一个喷头站与至少一个缓冲站定位在该基板处理平台的该旋转轨道系统顶上。配置在该等基板支撑组件上的多个基板进出该基板处理平台而受处理。该基板储备平台包括至少一个双基板处理站，每一双基板处理站包括两个基板支撑组件，以在该等基板支撑组件上支撑两个基板。
-
公开(公告)号：CN104054158A
公开(公告)日：2014-09-17
申请号：CN201380005684.8
申请日：2013-01-31
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/205
CPC classification number: C23C16/54 , B05C13/00 , C23C16/45551
Abstract: 本发明提供一种用于处理多个基板的基板处理系统，且该基板处理系统大体包括至少一处理平台及至少一分段平台。每一基板定位于安置于基板支撑组件上的基板载具上。各自经配置以于其上载运基板的多个基板载具定位于基板支撑组件的表面上。处理平台及分段平台各自包括一单独的基板支撑组件，该基板支撑组件可通过一单独的旋转轨道机构旋转。每一旋转轨道机构能够支撑该基板支撑组件，且使由基板载具载运且安置于基板支撑组件上的多个基板连续旋转。每一基板因此经由至少一喷头站及至少一缓冲站而被处理，该至少一喷头站及该至少一缓冲站定位于处理平台的旋转轨道机构上方一距离处。每一基板可于处理平台与分段平台之间转移，且可转移进及转移出该基板处理系统。
-
-
-
-
Search Results
5
records
(took 0.015 seconds)
