公开(公告)号：CN106575619B

公开(公告)日：2020-07-24

申请号：CN201580041606.2

申请日：2015-07-30

Applicant: 应用材料公司

Inventor： K·贝拉 ,  K·韦洛尔 ,  A·康斯坦特 ,  J·纽曼 ,  J·伯拉尼克 ,  J·舒浩勒 ,  W·威弗 ,  R·沃派特 ,  B·莱尔顿

IPC: H01L21/324 ,  H01L21/683

Abstract: 本文中提供了多基板热管理设备的实施例。在一些实施例中，多基板热管理设备包括：多个板，所述多个板竖直地布置在彼此上方；多个通道，所述多个通道延伸穿过所述多个板中的每一个；供应歧管，所述供应歧管包括供应通道，所述供应通道在第一位置耦接到所述多个板；以及返回歧管，所述返回歧管包括返回通道，所述返回通道在第二位置通过多个支腿耦接到所述多个板，其中所述供应通道和所述返回通道被流体耦接到所述多个通道，以使传热流体流过所述多个板。

公开(公告)号：CN106575619A

公开(公告)日：2017-04-19

申请号：CN201580041606.2

申请日：2015-07-30

Applicant: 应用材料公司

Inventor： K·贝拉 ,  K·韦洛尔 ,  A·康斯坦特 ,  J·纽曼 ,  J·伯拉尼克 ,  J·舒浩勒 ,  W·威弗 ,  R·沃派特 ,  B·莱尔顿

IPC: H01L21/324 ,  H01L21/683

Abstract: 本文中提供了多基板热管理设备的实施例。在一些实施例中，多基板热管理设备包括：多个板，所述多个板竖直地布置在彼此上方；多个通道，所述多个通道延伸穿过所述多个板中的每一个；供应歧管，所述供应歧管包括供应通道，所述供应通道在第一位置耦接到所述多个板；以及返回歧管，所述返回歧管包括返回通道，所述返回通道在第二位置通过多个支腿耦接到所述多个板，其中所述供应通道和所述返回通道被流体耦接到所述多个通道，以使传热流体流过所述多个板。

公开(公告)号：CN101438387B

公开(公告)日：2012-07-04

申请号：CN200780016128.5

申请日：2007-06-15

Applicant: 应用材料公司

Inventor： A·韦伯 ,  A·布莱劳弗 ,  J·约德伏斯基 ,  N·梅里 ,  A·康斯坦特 ,  E·奎尔斯 ,  M·R·赖斯 ,  G·J·罗森 ,  V·沙哈

IPC: H01L21/20 ,  C23C16/00

CPC classification number: C23C16/54 ,  C23C16/4583 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/67742 ,  H01L21/67757 ,  H01L21/67769 ,  Y10S414/14

Abstract: 用于ALD或CVD制程的批式处理平台具有高产量和最小占据面积。在一实施例中，处理平台包含一大气传送区、至少一个具有缓冲室与架台的批式处理室、和一置于传送区内的传送机械装置，其中传送机械装置具有至少一个含有多个基板搬运叶片的基板传送臂。平台可包括二个批式处理室，二者之间配有维修道，供进入传送机械装置与沉积站进行维修之用。在另一实施例中，处理平台包含至少一个批式处理室、一用来传送基板于FOUP与处理匣之间的基板传送机械装置、和一含有匣搬运机械装置的匣传送区。匣搬运机械装置可为线性促动器或旋转桌。