公开(公告)号：CN101438387B

公开(公告)日：2012-07-04

申请号：CN200780016128.5

申请日：2007-06-15

Applicant: 应用材料公司

Inventor： A·韦伯 ,  A·布莱劳弗 ,  J·约德伏斯基 ,  N·梅里 ,  A·康斯坦特 ,  E·奎尔斯 ,  M·R·赖斯 ,  G·J·罗森 ,  V·沙哈

IPC: H01L21/20 ,  C23C16/00

CPC classification number: C23C16/54 ,  C23C16/4583 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/67742 ,  H01L21/67757 ,  H01L21/67769 ,  Y10S414/14

Abstract: 用于ALD或CVD制程的批式处理平台具有高产量和最小占据面积。在一实施例中，处理平台包含一大气传送区、至少一个具有缓冲室与架台的批式处理室、和一置于传送区内的传送机械装置，其中传送机械装置具有至少一个含有多个基板搬运叶片的基板传送臂。平台可包括二个批式处理室，二者之间配有维修道，供进入传送机械装置与沉积站进行维修之用。在另一实施例中，处理平台包含至少一个批式处理室、一用来传送基板于FOUP与处理匣之间的基板传送机械装置、和一含有匣搬运机械装置的匣传送区。匣搬运机械装置可为线性促动器或旋转桌。