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公开(公告)号：CN102804354A
公开(公告)日：2012-11-28
申请号：CN201180012580.0
申请日：2011-03-04
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 卡泽拉·R·纳伦德瑞纳斯 , 阿施施·布特那格尔 , 丹尼尔·L·马丁 , 罗伯特·T·海拉哈拉 , 甘歌德哈尔·舍拉凡特
Abstract: 一种气体喷嘴测量设备，包含：可控气体源，用以提供恒定压力或恒定流速的气体流动，使其横跨具有气体喷嘴的气体板；以及感应器板，其尺寸覆盖包含该气体板的前表面的至少一部分的区域。该感应器板包含气体流动感应器，这些气体流动感应器被配置在与该气体板的个别气体喷嘴的位置相对应的位置处，使得各个气体流动感应器能够测量流经面对该气体流动感应器的该个别气体喷嘴的气体流的压力、流速、密度或速度，并且产生可指示或显示流经该个别气体喷嘴的该气体流的压力、流速、密度或速度的信号。
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公开(公告)号：CN105706351A
公开(公告)日：2016-06-22
申请号：CN201480061349.4
申请日：2014-11-21
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 戈文达·瑞泽 , 蔡振雄 , 罗伯特·T·海拉哈拉 , 凯瑟拉·拉马亚·纳伦德纳斯 , 曼朱纳塔·科普帕 , 罗斯·马歇尔
IPC: H02N13/00
CPC classification number: H01L21/6875 , H01L21/6831 , Y10T428/24298 , Y10T428/24314
Abstract: 具体实施方式涉及静电卡盘表面，所述静电卡盘表面具有最小接触面积特征。更具体地，本发明的具体实施方式提供用于提供颗粒生成减少和基板和卡紧设备的磨损减少的静电卡盘组件，所述静电卡盘组件具有凸起伸长的表面特征图案。
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公开(公告)号：CN102804354B
公开(公告)日：2015-07-08
申请号：CN201180012580.0
申请日：2011-03-04
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 卡泽拉·R·纳伦德瑞纳斯 , 阿施施·布特那格尔 , 丹尼尔·L·马丁 , 罗伯特·T·海拉哈拉 , 甘歌德哈尔·舍拉凡特
Abstract: 一种气体喷嘴测量设备，包含：可控气体源，用以提供恒定压力或恒定流速的气体流动，使其横跨具有气体喷嘴的气体板；以及感应器板，其尺寸覆盖包含该气体板的前表面的至少一部分的区域。该感应器板包含气体流动感应器，这些气体流动感应器被配置在与该气体板的个别气体喷嘴的位置相对应的位置处，使得各个气体流动感应器能够测量流经面对该气体流动感应器的该个别气体喷嘴的气体流的压力、流速、密度或速度，并且产生可指示或显示流经该个别气体喷嘴的该气体流的压力、流速、密度或速度的信号。
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公开(公告)号：CN108886013B
公开(公告)日：2023-06-16
申请号：CN201780015690.X
申请日：2017-02-16
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 小温德尔·G·博伊德 , 汤姆·K·崔 , 罗伯特·T·海拉哈拉
IPC: H01L21/683 , H02N13/00 , B23Q3/15
Abstract: 一种用于从基板支撑件对残余电荷进行放电的方法和设备。在一个例子中，提供了基板支撑件，基板支撑件包括本体、设置在本体中的电极、辐射发射器和扩散器。本体具有形成在工件支撑表面中的一个或多个孔，工件支撑表面经构造以在工件支撑表面上接收基板。电极经构造以将基板静电保持到工件支撑表面。辐射发射器设置在形成于工件支撑表面中的一个或多个孔的第一孔中。辐射发射器经构造以从第一孔发射电磁能。扩散器设置在第一孔中并位于辐射发射器上方。
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公开(公告)号：CN107208261A
公开(公告)日：2017-09-26
申请号：CN201680004654.9
申请日：2016-01-06
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 戈文达·瑞泽 , 罗伯特·T·海拉哈拉
CPC classification number: C23C14/50 , C23C14/042 , H01L21/67109 , H01L21/6831 , H01L21/6875 , H01L21/68757 , H02N13/00
Abstract: 于此披露静电卡盘组件和具有所述静电卡盘组件的处理腔室。在一个实施方式中，提供一种静电卡盘组件，静电卡盘组件包括具有外边缘的主体，外边缘连接前侧表面和背侧表面。主体具有设置在主体中的夹持电极。晶片间隔掩模形成在主体的前侧表面上。晶片间隔掩模具有多个细长特征结构。细长特征结构具有从中心到外边缘径向对齐的长轴。晶片间隔掩模具有限定在细长特征结构之间的多个径向对齐的气体通道。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106935541A
公开(公告)日：2017-07-07
申请号：CN201611012176.4
申请日：2014-11-21
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 戈文达·瑞泽 , 蔡振雄 , 罗伯特·T·海拉哈拉 , 凯瑟拉·拉马亚·纳伦德纳斯 , 曼朱纳塔·科普帕 , 罗斯·马歇尔
IPC: H01L21/683 , H01L21/687
Abstract: 具体实施方式涉及静电卡盘表面，所述静电卡盘表面具有最小接触面积特征。更具体地，本发明的具体实施方式提供用于提供颗粒生成减少和基板和卡紧设备的磨损减少的静电卡盘组件，所述静电卡盘组件具有凸起伸长的表面特征图案。
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公开(公告)号：CN104871305A
公开(公告)日：2015-08-26
申请号：CN201380065251.1
申请日：2013-11-14
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 戈文达·瑞泽 , 丹尼尔·马丁 , 罗伯特·T·海拉哈拉 , 阿西斯·巴哈特纳瓜 , 波柏纳·瓦桑特 , 普拉什安斯·饶 , 卡泽拉·R·纳伦德瑞纳斯
IPC: H01L21/683
CPC classification number: H01L21/67103 , H01L21/68792
Abstract: 提供一种用于基板支撑件加热器及相关腔室部件的设备，所述基板支撑件加热器及相关腔室部件具有减少的能量损失。在一个实施方式中，提供一种基板支撑件加热器。所述基板支撑件加热器包括：加热器主体，具有接收基板的第一表面以及与所述第一表面相对的第二表面；加热元件，被配置在加热器主体中且介于第一表面与第二表面之间；以及热阻挡层，被设置在加热器主体的第二表面上，其中热阻挡层包括第一层与第二层，所述第二层设置在所述第一层上。
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公开(公告)号：CN114686834A
公开(公告)日：2022-07-01
申请号：CN202210254455.0
申请日：2016-01-06
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 戈文达·瑞泽 , 罗伯特·T·海拉哈拉
IPC: C23C14/50 , H01L21/683 , H02N13/00
Abstract: 于此披露静电卡盘组件和具有所述静电卡盘组件的处理腔室。在一个实施方式中，提供一种静电卡盘组件，静电卡盘组件包括具有外边缘的主体，外边缘连接前侧表面和背侧表面。主体具有设置在主体中的夹持电极。晶片间隔掩模形成在主体的前侧表面上。晶片间隔掩模具有多个细长特征结构。细长特征结构具有从中心到外边缘径向对齐的长轴。晶片间隔掩模具有限定在细长特征结构之间的多个径向对齐的气体通道。
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公开(公告)号：CN106935541B
公开(公告)日：2020-09-29
申请号：CN201611012176.4
申请日：2014-11-21
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 戈文达·瑞泽 , 蔡振雄 , 罗伯特·T·海拉哈拉 , 凯瑟拉·拉马亚·纳伦德纳斯 , 曼朱纳塔·科普帕 , 罗斯·马歇尔
IPC: H01L21/683 , H01L21/687
Abstract: 具体实施方式涉及静电卡盘表面，所述静电卡盘表面具有最小接触面积特征。更具体地，本发明的具体实施方式提供用于提供颗粒生成减少和基板和卡紧设备的磨损减少的静电卡盘组件，所述静电卡盘组件具有凸起伸长的表面特征图案。
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公开(公告)号：CN104871305B
公开(公告)日：2019-07-23
申请号：CN201380065251.1
申请日：2013-11-14
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 戈文达·瑞泽 , 丹尼尔·马丁 , 罗伯特·T·海拉哈拉 , 阿西斯·巴哈特纳瓜 , 波柏纳·瓦桑特 , 普拉什安斯·饶 , 卡泽拉·R·纳伦德瑞纳斯
IPC: H01L21/683
CPC classification number: H01L21/67103 , H01L21/68792
Abstract: 提供一种用于基板支撑件加热器及相关腔室部件的设备，所述基板支撑件加热器及相关腔室部件具有减少的能量损失。在一个实施方式中，提供一种基板支撑件加热器。所述基板支撑件加热器包括：加热器主体，具有接收基板的第一表面以及与所述第一表面相对的第二表面；加热元件，被配置在加热器主体中且介于第一表面与第二表面之间；以及热阻挡层，被设置在加热器主体的第二表面上，其中热阻挡层包括第一层与第二层，所述第二层设置在所述第一层上。
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