公开(公告)号：CN116897417A

公开(公告)日：2023-10-17

申请号：CN202280018050.5

申请日：2022-01-21

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 胡积玓 ,  柴坦尼亚·安贾内亚鲁·普拉萨德 ,  姚东明 ,  塞缪尔·C·豪厄尔斯 ,  维伦·K·内斯托洛夫

IPC: H01L21/67

Abstract: 提供用于光学监控基板处理腔室的各个灯的方法、系统及设备。在一个方面中，对各个灯进行监控，以确定是否需要更换一个或多个灯。一种方法包括使用耦接至管道镜的一个或多个相机来捕获基板处理腔室内的一个或多个灯的多个图像。分析多个图像以识别与每个灯相关联的图像参考区域中的平均光像素强度的变化。该方法包括基于平均光像素强度变化的检测来产生警报。

公开(公告)号：CN118176573A

公开(公告)日：2024-06-11

申请号：CN202280073189.X

申请日：2022-10-18

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 克里斯托弗·S·奥尔森 ,  卡蒂克·布彭德拉·仙 ,  柴坦尼亚·安贾内亚鲁·普拉萨德 ,  维希瓦·库马尔·帕迪 ,  阿尼尔·库马尔·博德普迪 ,  埃里卡·汉森

IPC: H01L21/67

Abstract: 本公开内容关于一种用于处理腔室的气体注入模块。处理腔室包括：腔室主体；可旋转的基板支撑件，其设置在腔室主体的处理容积内部，基板支撑件被配置成具有旋转自旋速率；形成于腔室主体中的入口端口；及耦接到入口端口的注入模块。注入模块包括：主体；耦接到主体的一个或多个气体入口；形成在主体的供应面中的多个喷嘴，供应面被配置成面向腔室主体的内部，并且从注入模块离开的气体被配置成具有流速；处理腔室还包括控制器，控制器被配置成操作处理腔室使得流速与旋转自旋速率的比率在约1/3和3之间。

公开(公告)号：CN117581346A

公开(公告)日：2024-02-20

申请号：CN202280046066.7

申请日：2022-06-28

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 柴坦尼亚·安贾内亚鲁·普拉萨德 ,  克里斯托弗·肖恩·奥尔森 ,  劳拉·哈夫雷查克 ,  艾丽卡·加布里埃尔·汉森 ,  丹尼尔·C·格洛弗 ,  纳曼·阿普瓦 ,  杨宗翰

IPC: H01L21/67

Abstract: 在本文中提供了用于与快速热处理(RTP)系统一起使用的气体分配模块及其使用方法的实施方式。在一些实施方式中，用于与RTP腔室一起使用的气体分配模块包含：流体耦接至混合器的第一载气管线和第一液体管线，所述混合器具有一个或多个控制阀，且被配置为将来自第一载气管线的载气和来自第一液体管线的液体以期望的比例混合以形成第一混合物；汽化器，所述汽化器耦接至混合器且被配置为在中空内部容积中接收第一混合物，所述汽化器具有被配置为使第一混合物汽化的加热器；以及第一气体输送管线，所述第一气体输送管线设置在汽化器与RTP腔室之间以将汽化的第一混合物输送至RTP腔室。