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公开(公告)号:CN114787980A
公开(公告)日:2022-07-22
申请号:CN202080081335.4
申请日:2020-10-22
Applicant: 应用材料公司
Inventor: 胡积玓 , 沃尔夫冈·R·阿德霍尔德 , 姚东明
IPC: H01L21/67 , H01L21/687 , G01J5/00 , G01J5/08
Abstract: 一种用于测量在处理腔室内部的组件的温度的设备。该设备可包括:光管,定位在灯辐射滤光窗与该组件之间,该光管具有带有斜面的第一端部并具有远离该第一端部的第二端部,该斜面被构造成将从该组件所发射的红外辐射重新导向穿过该光管;光学组件,被构造成对来自于该光管的第二端部的红外辐射进行准直、滤光及聚焦;光学探测器,被构造成接收来自该光学组件的输出并产生代表该红外辐射的至少一个信号;温度电路,将该至少一个信号变换为温度值;以及控制器,被构造成接收该温度值并基于该温度值对处理腔室的其他处理参数作出调整。
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公开(公告)号:CN116897417A
公开(公告)日:2023-10-17
申请号:CN202280018050.5
申请日:2022-01-21
Applicant: 应用材料公司
Inventor: 胡积玓 , 柴坦尼亚·安贾内亚鲁·普拉萨德 , 姚东明 , 塞缪尔·C·豪厄尔斯 , 维伦·K·内斯托洛夫
IPC: H01L21/67
Abstract: 提供用于光学监控基板处理腔室的各个灯的方法、系统及设备。在一个方面中,对各个灯进行监控,以确定是否需要更换一个或多个灯。一种方法包括使用耦接至管道镜的一个或多个相机来捕获基板处理腔室内的一个或多个灯的多个图像。分析多个图像以识别与每个灯相关联的图像参考区域中的平均光像素强度的变化。该方法包括基于平均光像素强度变化的检测来产生警报。
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公开(公告)号:CN112840444A
公开(公告)日:2021-05-25
申请号:CN201980062765.9
申请日:2019-09-24
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 本文描述的实施方式大致上关于原位计量系统,该原位计量系统能够持续提供到达设置于处理腔室内的基板的不中断的光学途径。在一个实施方式中,提供一种用于基板处理腔室的计量系统。该计量系统包括:传感器观察管件,耦接至基板处理腔室的石英圆顶;凸缘,从该传感器观察管件的外表面径向延伸;以及视口窗,设置在该凸缘上,该视口窗具有针对光学传感器选择的多个光谱范围,该光学传感器设置在该视口窗上或邻近该视口窗。
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