公开(公告)号：CN102160167B

公开(公告)日：2013-12-04

申请号：CN200980136614.X

申请日：2009-08-06

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 史蒂文·V·桑森尼 ,  蔡振雄 ,  夏姆胡·N·罗伊 ,  卡尔·M·布朗 ,  维杰·D·帕克 ,  哈里·K·庞内坎蒂

IPC: H01L21/687 ,  B23Q3/15 ,  H02N13/00 ,  H01L21/68

CPC classification number: H01L21/6833 ,  H01J37/32431 ,  H01L21/67103 ,  H01L21/67109 ,  H01L21/6831 ,  H01L21/68785 ,  H01L2924/0002 ,  H02N13/00 ,  H01L2924/00

Abstract: 本发明的实施方式提供具有成本效益的静电吸盘组件，所述静电吸盘组件能够在超高真空环境中在宽温度范围内操作，同时使静电吸盘组件内部的热机械应力最小化。在一个实施方式中，所述静电吸盘组件包含介电主体，所述介电主体具有夹持电极，所述夹持电极包含金属基质复合材料，所述材料的热膨胀系数(CTE)与所述介电主体的CTE匹配。

公开(公告)号：CN102157425B

公开(公告)日：2013-06-26

申请号：CN201110025125.6

申请日：2007-01-17

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 珍妮弗·蒂勒 ,  艾伦·K·劳 ,  马克·O’唐奈·施韦特 ,  史蒂文·V·桑森尼 ,  基恩·A·米勒 ,  克里斯托弗·博伊特诺特

IPC: H01L21/683 ,  C23C16/458 ,  C23C16/00 ,  C23F4/00 ,  H01L21/67 ,  H01L21/20 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/00 ,  C23C14/50 ,  C23C14/00

CPC classification number: C23C14/564 ,  H01J37/32623 ,  H01J37/32642 ,  H01L21/68735

Abstract: 本发明提供一种用于在衬底处理腔室中使用的衬底支架的环组件，所述衬底支架包括环形壁架和内周界侧壁。在一个方案中，环组件包括(i)L形绝缘环，L形绝缘环包括水平臂和垂直臂，所述水平臂设置在支架的环形壁架上，所述垂直壁邻接支架的内周界侧壁，以及(ii)沉积环，所述沉积环包括环形带，所述环形带具有与沉积环的水平臂交迭的重叠壁架。在另一方案中，沉积环包括电介质环形带和托架及紧固件，所述电介质环形带围绕支架的环形壁架并与支架的环形壁架交迭。