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公开(公告)号：CN113667969A
公开(公告)日：2021-11-19
申请号：CN202110949253.3
申请日：2021-08-18
Applicant: 南京信息工程大学
Abstract: 本发明涉及材料表面处理技术领域，尤其是一种调控金属表面润湿性的复合方法，现提出如下方案，其包括对金属基体的表面进行加工得到表面具有凹凸不平的沟槽结构的第一基体，再对第一基体进行氧化处理得到第二基体，利用疏水修饰剂对第二基体进行修饰改性。本发明提出了一种模板模压的处理方式，利用机械压印和化学侵蚀复合工艺方法调控金属表面微结构和润湿性，通过在金属基片表面压印微结构以改善其表面粗糙度；再经氧化和修饰改性可调控压印铜板表面的润湿性能，这种方法制备的铜板，润滑性和力学性能等得到显著提升，同时其制备方法简单，易实现规模化制备。
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公开(公告)号：CN113293350A
公开(公告)日：2021-08-24
申请号：CN202110582236.0
申请日：2021-05-26
Applicant: 南京信息工程大学
Abstract: 本发明公开了一种钛合金表面改性方法，将预处理好的钛合金制件悬挂在等离子冶金炉的石墨源极靶材中，在石墨源极靶材上插入所渗金属/合金棒(铬、钼、钨等单元和多元合金)，形成复合靶材结构；启动辉光电极处理技术，调节复合靶材结构电压在550‑950V，氩氮比例3∶3‑3∶0，使石墨源极靶材和钛合金制件升温至500～1000℃，对钛合金制件表面进行轰击，处理结束后降温，即得到表面改性的钛合金制件。本发明以高熔点金属元素与碳/氮元素为溅射靶材源，对钛合金制件进行表面冶金处理，形成高硬耐磨的冶金陶瓷层，金属表面陶瓷层成分与硬度呈梯度分布，改性方法简单，改性层和基层结合紧密，结合强度高。
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公开(公告)号：CN113073300A
公开(公告)日：2021-07-06
申请号：CN202110318909.1
申请日：2021-03-25
Applicant: 南京信息工程大学
Abstract: 本发明公开了一种非金属材料表面渗镀高纯硫化锌薄膜的方法，包括以下步骤：(1)非金属基体清洗后放入氧等离子刻蚀机中进行刻蚀；(2)将刻蚀完成的非金属基体置于磁控溅射装置样品台，利用硫化锌靶材在非金属基体上沉积硫化锌薄膜。该方法将氧等离子刻蚀和磁控溅射技术相结合，先对基体进行活化，然后沉积薄膜，使得制备出的薄膜与基体结合力更强，制备出的薄膜质量好，纯度高，性能稳定，且制备时间短，便于大规模生产。
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公开(公告)号：CN109267010A
公开(公告)日：2019-01-25
申请号：CN201811445726.0
申请日：2018-11-29
Applicant: 南京信息工程大学
CPC classification number: C23C14/083 , C23C14/0036 , C23C14/34
Abstract: 本发明涉及一种钛氧化合物柔性光电腐蚀薄膜及其制备方法，借助双阴极辉光等离子放电作用在不锈钢箔基体表面溅射沉积钛氧化合物薄膜，将基体用丙酮进行超声清洗；之后将预处理好的基体放入等离子体炉内的试样台上完成样品表面钛氧化合物薄膜的制备。本发明以高纯金属元素为靶材，为了提高元素反应的供应量和供应效率，在基片和靶材周围形成双层辉光等离子放电，成膜仅需要10-30min。本发明得到的薄膜与基体之间发生了互渗，因此基体与薄膜之间的结合强度高。本发明得到的薄膜表面质量高，且制备方法成本低，无污染，工艺流程较为简单，对基体本身的性能几乎无影响，不损伤基体。
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公开(公告)号：CN106756835B
公开(公告)日：2018-11-16
申请号：CN201611253178.2
申请日：2016-12-30
Applicant: 南京信息工程大学
Abstract: 本发明涉及一种石墨烯透明电极薄膜的制备方法，以氧化还原石墨片为石墨烯溅射的靶材元素，借助双阴极辉光等离子放电作用在不同基体表面溅射沉积石墨烯薄膜的方法。本发明中石墨烯在溅射成膜过程中由于两个阴极的等离子同时产生作用，增强了体系的辉光放电成膜效率。因此，所得石墨烯薄膜质量较好，性能较为稳定。本发明对基体的材料及形状具有较大的选择性，可以在不同形状及不同材料的基体上制备石墨烯薄膜，所制备的石墨烯薄膜较为均匀，而且可以大面积量制备。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106756792A
公开(公告)日：2017-05-31
申请号：CN201611253177.8
申请日：2016-12-30
Applicant: 南京信息工程大学
CPC classification number: C23C14/086 , C23C14/0036 , C23C14/021 , C23C14/08 , C23C14/081 , C23C14/3478
Abstract: 本发明涉及一种氧化物透明电极薄膜的制备方法，在石英片上利用双层辉光等离子溅射反应成膜的方法实现低熔点氧化锌透明电极薄膜的制备。本发明以低熔点金属元素为靶材，为了提高元素及氧元素反应的供应量和供应效率，在基片和靶材周围形成双层辉光等离子放电，成膜仅需要10‑30min。本发明通过低熔点金属元素和氧元素的溅射反应形成大面积高质量的氧化物透明薄膜电极，薄膜的厚度在5‑10微米。本发明得到的薄膜表面质量高，具有高度的c轴(002)取向，在可见光波段平均透过率能够达到80％以上，并且薄膜能有效的屏蔽紫外光。该方法所制备的氧化物薄膜表面质量高、工艺可控性好、制备快速、成本低，尤其适合大面积快速制备。
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公开(公告)号：CN113564522A
公开(公告)日：2021-10-29
申请号：CN202110891752.1
申请日：2021-08-04
Applicant: 南京信息工程大学
Abstract: 本发明涉及二氧化钒材料技术领域，尤其是一种二氧化钒薄膜及其制备方法及应用，现提出如下方案，其包括在基体上存在空位缺陷的表面侧制备覆盖在所述表面侧的二氧化钒薄膜。本发明通过在非晶石英基体上形成空位缺陷，利用磁控溅射技术在基体上具有空位缺陷的表面侧制备覆盖在其上的二氧化钒薄膜，进行二氧化钒的生长，这种方法制备的二氧化钒晶体结构会受到缺陷应力的挤压，导致键长、键角发生变化，并通过退火工艺优化二氧化钒薄膜的晶体结构，二氧化钒晶体结构的优化导致二氧化钒相变温度的降低，同时太阳光应用效率得到大幅提升，这种制备方法简单易操作，易于实现规模化制备。
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公开(公告)号：CN112908956A
公开(公告)日：2021-06-04
申请号：CN202110123595.X
申请日：2021-01-29
Applicant: 南京信息工程大学
IPC: H01L23/427
Abstract: 本发明公开了一种金属氧化物/石墨烯复合流体及其制备方法与应用，该复合流体包括质量比为10～1：1的金属氧化物纳米流体和石墨烯纳米流体，该流体的制备方法包括以下步骤：(1)制备金属氧化物纳米流体；(2)制备石墨烯纳米流体；(3)将金属氧化物纳米流体和石墨烯纳米流体在研磨罐中混合对其进行球磨处理；(4)将球磨后的混合流体震荡分散、离心，取上清液即得到金属氧化物/石墨烯复合流体；该复合流体稳定性好，粒子分散性好，能够保证复合流体在20‑30天内不会发生大范围的沉降，导热性能好，热阻约为0.145℃/W，能够作为导热流体应用在真空热管中，制备方法简单。
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公开(公告)号：CN111876764A
公开(公告)日：2020-11-03
申请号：CN202010766597.6
申请日：2020-08-03
Applicant: 南京信息工程大学
Abstract: 为了提高不锈钢表面润滑，同时提高其表面薄膜的结合能力，本发明提出一种利用酸溶液对金属材料表面氧化处理的方法，对不锈钢网表面进行羟基修饰，以改善其表面性能。本发明采用等离子清洗不锈钢表面对其进行清洁与活化，使表面一些凸起的杂质被刻蚀掉，降低整个表面的粗糙度，提升基体的耐磨性能；氧离子刻蚀后，还使得网格结构在酸洗前期表面易获得一种氧化层，有助于酸溶液处理之前有效防护基体金属的电化学腐蚀并改变其表面粗糙度。
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公开(公告)号：CN111321384A
公开(公告)日：2020-06-23
申请号：CN202010315678.4
申请日：2020-04-21
Applicant: 南京信息工程大学
Abstract: 为了提高成膜摩擦、硬度等问题，本发明提出一种以氧等离子刻蚀为预处理，用磁控溅射实现一种在镍基合金上制备二氧化锆薄膜的方法。本发明的在镍基合金上制备二氧化锆薄膜的方法，该方法制备薄膜性能好，尤其是经过等离子刻蚀后力学性能等到提升，表面粗糙度降低，同时制备方法简单，可以实现大规模制备。本发明靶材是锆靶，在经过氧等离子刻蚀过的镍合金基体上进行磁控溅射。其主要过程是先将镍合金基片用氧等离子刻蚀的方法降低表面粗糙度，并使表面富含氧元素，再将处理好的基片放到磁控溅射炉中的式样台上完成样品表面的二氧化锆薄膜的制备。
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