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公开(公告)号:CN112271145A
公开(公告)日:2021-01-26
申请号:CN202011024207.4
申请日:2020-09-25
Applicant: 华东光电集成器件研究所
IPC: H01L21/67 , H01J37/32 , H01J37/317
Abstract: 本发明提供一种注入机离子源弧室的底板,它包括注入机离子源弧室(3),在注入机离子源弧室(3)内设有底板(1),其特征在于:在底板(1)的上、下表面上分别设有凹槽(2)。本发明结构简单、使用方便,能有效的提高对杂质气体的阻力,进而降低气体流速,能有效暂存弧室电离杂质气体所产生的附着物,减少弧室内部打火(即尖端放电),进而提升底板的使用寿命。
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公开(公告)号:CN115527881A
公开(公告)日:2022-12-27
申请号:CN202211188634.5
申请日:2022-09-28
Applicant: 华东光电集成器件研究所
Abstract: 本发明公开一种晶圆级键合质量检测装置,属于半导体技术领域。它包括光源调节室,光源调节室的顶端设有透明的载片台和可调节的支架,支架上连接带有滤光片的红外摄像头,红外摄像头与监视显示器电性连接,光源调节室内设有一组竖向设置的导向光轴,该组导向光轴上由上到下依次滑动配合连接上调节板和下调节板,上调节板上设有通光孔,通光孔处固定连接匀光板,下调节板上连接光源。本发明通过调整上、下调节板的间距,将光源射出的光线通过匀光板射入到载片台上形成均匀的光照强度,使红外摄像头检测晶圆的成像清晰,同时本装置调节更加方便简单、耗时较少,进一步提高检测效率。
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公开(公告)号:CN118969707A
公开(公告)日:2024-11-15
申请号:CN202410976445.7
申请日:2024-07-20
Applicant: 华东光电集成器件研究所
IPC: H01L21/687
Abstract: 本发明提供一种晶圆传片夹持装置,其特征在于:它包括主板体(1),在主板体(1)上设有第一槽体(5),在第一槽体(5)的一端端部设有斜坡(11),在斜坡(11)一侧的第一槽体(5)槽壁上依次设有平面段(12)和斜面段(15),在主板体(1)上连接有可遮盖一部分第一槽体(5)的盖板(2),在盖板(2)上设有弧形台阶段(22),使得弧形台阶段(22)与第一槽体(5)之间形成晶圆传片的插槽(3)。本发明结构简单,使用方便,在确保了晶圆传片姿态稳定的前提下,提高了离子注入时整个工作效率。
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