一种光刻标记分布式仿真计算的方法、设备和程序

    公开(公告)号:CN118348744A

    公开(公告)日:2024-07-16

    申请号:CN202410438916.9

    申请日:2024-04-12

    IPC分类号: G03F7/20 G06F30/20

    摘要: 本说明书实施例提供了一种光刻标记分布式仿真计算的方法、设备和程序,其中,方法包括根据用户设定的光刻标记仿真参数生成仿真任务;调度器根据调度策略将所述仿真任务发送至任务队列;计算节点根据预设的光刻标记模型计算模块运行光刻标记仿真算法,对应所述任务队列中的所述仿真任务,获得仿真结果;将仿真结果进行排序融合,并根据用户ID及对应的任务ID进行反馈仿真结果,根据仿真结果选出最优化的标记设计参数和测量设备参数,以解决传统计算机硬件系统无法满足光刻标记仿真算力不足的技术问题。

    一种套刻标记评价指标的预测方法和装置

    公开(公告)号:CN118940620A

    公开(公告)日:2024-11-12

    申请号:CN202410968182.5

    申请日:2024-07-18

    IPC分类号: G06F30/27 G06F30/10

    摘要: 本公开提供了一种套刻标记评价指标的预测方法和装置。本公开的预测方法包括:构建训练数据集,训练数据集中至少包括:套刻标记的参数信息以及套刻标记的评价指标;以训练数据集中的参数信息作为输入,以训练数据集中的评价指标作为输出,对评价指标预测模型进行训练,得到训练好的评价指标预测模型;以及,将待评价的套刻标记的参数信息输入至评价指标预测模型,得到待评价的套刻标记的评价指标。本公开采用机器学习的方式,通过训练套刻标记的评价指标预测模型来替代复杂的光学衍射模型,使训练的预测模型能够以高精度逼近套刻标记的实际物理模型,以输出精度更高的套刻标记评价指标。

    一种对准标记评价指标的预测方法和装置

    公开(公告)号:CN118862671A

    公开(公告)日:2024-10-29

    申请号:CN202410968183.X

    申请日:2024-07-18

    IPC分类号: G06F30/27 G06F30/10

    摘要: 本申请提供了一种对准标记评价指标的预测方法和装置。本申请的预测方法包括:构建训练数据集,训练数据集中至少包括:对准标记的参数信息以及对准标记的评价指标;以训练数据集中的参数信息作为输入,以训练数据集中的评价指标作为输出,对评价指标预测模型进行训练,得到训练好的评价指标预测模型;以及,将待评价的对准标记的参数信息输入至评价指标预测模型,得到待评价的对准标记的评价指标。本申请采用机器学习的方式,通过训练对准标记的评价指标预测模型来替代复杂的光学衍射模型,使训练的预测模型能够以高精度逼近对准标记的实际物理模型,以输出精度更高的对准标记评价指标。

    光刻标记的设计仿真优化方法、系统、电子设备及存储介质

    公开(公告)号:CN118311834A

    公开(公告)日:2024-07-09

    申请号:CN202410320391.9

    申请日:2024-03-20

    摘要: 本说明书实施例提供了一种光刻标记的设计仿真优化方法、系统、设备及存储介质,其中,方法包括:生成关键指标评价模型;新建或读取光刻标记数据文件;进行光刻标记工艺叠层、光刻标记图案设计及光刻标记测量设备参数设置;进行工艺扰动参数和范围、关键指标评价模型、关键指标优化参数以及计算设备硬件参数设置;通过关键指标评价模型用于将光刻标记设计质量和工艺适应性的多项关键技术指标进行综合评估,生成关键指标评价结果,在满足设定阈值的情况下,保存光刻标记数据文件,生成光刻标记版图文件;针对工艺叠层设计、标记图案设计、测量设备参数的优化流程,利用关键技术指标评价模型的关键指标评价结果对上述设计参数进行全局优化。

    一种红外热辐射光源发光特性的测量方法和装置

    公开(公告)号:CN111595439B

    公开(公告)日:2024-10-11

    申请号:CN202010595707.7

    申请日:2020-06-28

    IPC分类号: G01J1/42 G01J1/02

    摘要: 本发明涉及红外热辐射光源测量技术领域,具体涉及一种红外热辐射光源发光特性的测量方法和装置。该方法包括:利用光电探测器获取红外辐射光源在设定角度的实时光功率;判断红外辐射光源的光功率的增长趋势是否符合一次函数关系;若是,则控制红外辐射光源在水平面内分别以第一路径和第二路径绕设定位置转动;获取第一测量光功率阵列和第二测量光功率阵列;获取红外热辐射光源的光强分布。本发明巧妙地构建了第一路径和第二路径,利用红外热辐射光源在准热平衡状态后输出的光功率与时间呈线性关系的特性,通过叠加,将红外热辐射光源转换为了辐射功率恒定的辐射源,从而低成本高效准确地测量出了红外热辐射光源发光特性。

    一种一体化阵列式反射曲面的检焦分光器件

    公开(公告)号:CN118311782A

    公开(公告)日:2024-07-09

    申请号:CN202410285133.1

    申请日:2024-03-13

    摘要: 本公开提供了一种一体化阵列式反射曲面的检焦分光器件,包括:器件主体,包括相对设置的第一表面和第二表面;第一表面包括沿第一方向依次排列的多个入射区,每个入射区表面均设置有闪耀光栅、第一检测区和第二检测区;第二表面包括沿第一方向依次排列的多个反射区,每个反射区均具有反射曲面并镀有反射膜。本公开的一体化器件结构相比透射式光学系统,减少了光学元件的设置,缩短光线传播路径,降低能量损耗,提升能量利用率和测量信号的信噪比,使测量精度得到提升。利用阵列式的反射曲面设计实现待测样本表面的多个区域的测量,减小单个光斑尺寸,增加探测器单元数量,提高检焦系统测量分辨率和测量精度。

    光学系统主光轴的调试方法

    公开(公告)号:CN114397762B

    公开(公告)日:2023-11-10

    申请号:CN202210000823.9

    申请日:2022-01-04

    IPC分类号: G02B27/62 G01M11/02

    摘要: 本公开提供一种光学系统主光轴的调试方法,用于不包含测试板的光学系统,包括:使用辅助小孔辅助调节自准直仪出射光束的方向并使之与光学平台平行;调节第一转向光学元件,使其出射光束的方向与自准直仪出射光束的方向垂直;调节第二转向光学元件,使其出射光束的方向与第一转向光学元件出射光束的方向垂直且与光学平台平行;安装待测光学系统的外壳至第一转向光学元件和第二转向光学元件之间,安装第一反射元件至主光轴靠近第二转向光学元件的一端;调节外壳两侧的调节机构,直至经第一反射元件反射的光斑与自准直仪出射的光斑重合,确定待测光学系统的主光轴的位置。本公开还提供一种用于包含测试板的光学系统主光轴的调试方法。

    一种振动隔离装置
    9.
    发明授权

    公开(公告)号:CN111059208B

    公开(公告)日:2022-03-25

    申请号:CN201911211537.1

    申请日:2019-11-29

    IPC分类号: F16F15/03 F16F15/04 G03F7/20

    摘要: 本发明提供了一种振动隔离装置,包括:真空腔体(1)、真空腔体(1)内设有主基板(2),真空腔体(1)的一内壁与主基板(2)之间设有至少一个隔振系统(3);隔振系统(3)包括:永磁体(31)、设置有线圈(32)的线圈架(33)、主弹簧(34)、隔板(35)以及隔板弹簧(36);永磁体(31)的一端连接主基板(2),线圈架(33)一端固定在隔板(35)上,永磁体(31)的部分或全部置于线圈架(33)内部,线圈架(33)与永磁体(31)之间的相对位置可调;主基板(2)、主弹簧(34)、隔板(35)、隔板弹簧(36)以及真空腔体(1)依次连接。

    用于EUV真空环境中的光传输装置及光刻机

    公开(公告)号:CN110908249B

    公开(公告)日:2022-02-11

    申请号:CN201911212715.2

    申请日:2019-11-29

    IPC分类号: G03F7/20

    摘要: 一种用于EUV真空环境中的光传输装置及光刻机,用于EUV真空环境中的光传输装置包括:光纤连接器,设置通孔;通光介质,设置于所述光纤连接器的通孔内;两光纤束,分别连接于所述光纤连接器的两侧,且两所述光纤束分别与所述通光介质的中心对准,实现分段的光纤束之间的光的传输。本发明设计两段光纤束来解决整根光纤束不利于装配、维护以及存在断纤的风险的问题;通过光纤连接器以及光纤连接器上设置的通光介质实现两段光纤束的导通,连接方式可靠,并且应用于EUV光刻机中,解决了真空腔内外光传输的问题,提高了光纤束与光刻机的连接可靠性,降低了维修风险。