一种红外热辐射光源发光特性的测量方法和装置

    公开(公告)号:CN111595439B

    公开(公告)日:2024-10-11

    申请号:CN202010595707.7

    申请日:2020-06-28

    IPC分类号: G01J1/42 G01J1/02

    摘要: 本发明涉及红外热辐射光源测量技术领域,具体涉及一种红外热辐射光源发光特性的测量方法和装置。该方法包括:利用光电探测器获取红外辐射光源在设定角度的实时光功率;判断红外辐射光源的光功率的增长趋势是否符合一次函数关系;若是,则控制红外辐射光源在水平面内分别以第一路径和第二路径绕设定位置转动;获取第一测量光功率阵列和第二测量光功率阵列;获取红外热辐射光源的光强分布。本发明巧妙地构建了第一路径和第二路径,利用红外热辐射光源在准热平衡状态后输出的光功率与时间呈线性关系的特性,通过叠加,将红外热辐射光源转换为了辐射功率恒定的辐射源,从而低成本高效准确地测量出了红外热辐射光源发光特性。

    一种光刻标记分布式仿真计算的方法、设备和程序

    公开(公告)号:CN118348744A

    公开(公告)日:2024-07-16

    申请号:CN202410438916.9

    申请日:2024-04-12

    IPC分类号: G03F7/20 G06F30/20

    摘要: 本说明书实施例提供了一种光刻标记分布式仿真计算的方法、设备和程序,其中,方法包括根据用户设定的光刻标记仿真参数生成仿真任务;调度器根据调度策略将所述仿真任务发送至任务队列;计算节点根据预设的光刻标记模型计算模块运行光刻标记仿真算法,对应所述任务队列中的所述仿真任务,获得仿真结果;将仿真结果进行排序融合,并根据用户ID及对应的任务ID进行反馈仿真结果,根据仿真结果选出最优化的标记设计参数和测量设备参数,以解决传统计算机硬件系统无法满足光刻标记仿真算力不足的技术问题。

    一种一体化阵列式反射曲面的检焦分光器件

    公开(公告)号:CN118311782A

    公开(公告)日:2024-07-09

    申请号:CN202410285133.1

    申请日:2024-03-13

    摘要: 本公开提供了一种一体化阵列式反射曲面的检焦分光器件,包括:器件主体,包括相对设置的第一表面和第二表面;第一表面包括沿第一方向依次排列的多个入射区,每个入射区表面均设置有闪耀光栅、第一检测区和第二检测区;第二表面包括沿第一方向依次排列的多个反射区,每个反射区均具有反射曲面并镀有反射膜。本公开的一体化器件结构相比透射式光学系统,减少了光学元件的设置,缩短光线传播路径,降低能量损耗,提升能量利用率和测量信号的信噪比,使测量精度得到提升。利用阵列式的反射曲面设计实现待测样本表面的多个区域的测量,减小单个光斑尺寸,增加探测器单元数量,提高检焦系统测量分辨率和测量精度。

    光学系统主光轴的调试方法

    公开(公告)号:CN114397762B

    公开(公告)日:2023-11-10

    申请号:CN202210000823.9

    申请日:2022-01-04

    IPC分类号: G02B27/62 G01M11/02

    摘要: 本公开提供一种光学系统主光轴的调试方法,用于不包含测试板的光学系统,包括:使用辅助小孔辅助调节自准直仪出射光束的方向并使之与光学平台平行;调节第一转向光学元件,使其出射光束的方向与自准直仪出射光束的方向垂直;调节第二转向光学元件,使其出射光束的方向与第一转向光学元件出射光束的方向垂直且与光学平台平行;安装待测光学系统的外壳至第一转向光学元件和第二转向光学元件之间,安装第一反射元件至主光轴靠近第二转向光学元件的一端;调节外壳两侧的调节机构,直至经第一反射元件反射的光斑与自准直仪出射的光斑重合,确定待测光学系统的主光轴的位置。本公开还提供一种用于包含测试板的光学系统主光轴的调试方法。

    一种振动隔离装置
    6.
    发明授权

    公开(公告)号:CN111059208B

    公开(公告)日:2022-03-25

    申请号:CN201911211537.1

    申请日:2019-11-29

    IPC分类号: F16F15/03 F16F15/04 G03F7/20

    摘要: 本发明提供了一种振动隔离装置,包括:真空腔体(1)、真空腔体(1)内设有主基板(2),真空腔体(1)的一内壁与主基板(2)之间设有至少一个隔振系统(3);隔振系统(3)包括:永磁体(31)、设置有线圈(32)的线圈架(33)、主弹簧(34)、隔板(35)以及隔板弹簧(36);永磁体(31)的一端连接主基板(2),线圈架(33)一端固定在隔板(35)上,永磁体(31)的部分或全部置于线圈架(33)内部,线圈架(33)与永磁体(31)之间的相对位置可调;主基板(2)、主弹簧(34)、隔板(35)、隔板弹簧(36)以及真空腔体(1)依次连接。

    用于EUV真空环境中的光传输装置及光刻机

    公开(公告)号:CN110908249B

    公开(公告)日:2022-02-11

    申请号:CN201911212715.2

    申请日:2019-11-29

    IPC分类号: G03F7/20

    摘要: 一种用于EUV真空环境中的光传输装置及光刻机,用于EUV真空环境中的光传输装置包括:光纤连接器,设置通孔;通光介质,设置于所述光纤连接器的通孔内;两光纤束,分别连接于所述光纤连接器的两侧,且两所述光纤束分别与所述通光介质的中心对准,实现分段的光纤束之间的光的传输。本发明设计两段光纤束来解决整根光纤束不利于装配、维护以及存在断纤的风险的问题;通过光纤连接器以及光纤连接器上设置的通光介质实现两段光纤束的导通,连接方式可靠,并且应用于EUV光刻机中,解决了真空腔内外光传输的问题,提高了光纤束与光刻机的连接可靠性,降低了维修风险。

    对准信号数字化同步解调方法及装置

    公开(公告)号:CN111077743B

    公开(公告)日:2021-10-01

    申请号:CN201911212041.6

    申请日:2019-11-28

    IPC分类号: G03F9/00

    摘要: 本发明公开了一种对准信号数字化同步解调方法及装置,该方法包括:对对准调幅信号进行数字化采样,得到对准调幅数字信号;在数字信号处理器中对该对准调幅数字信号和两个正交化本地参考信号分别进行混频处理,得到两个上、下边带信号;该两个上、下边带信号分别在两个带宽相同的数字低通滤波器中进行滤波,得到两个正交化下边带信号;该两个下边带信号经数字化解调算法进行解调计算,得到对准标记位置基频信号。本发明提供的该对准信号数字化同步解调方法及装置,具有电路结构简单、数字化程度高、计算速度快、无需采用调制信号作为参考信号以及无需进行相位补偿等优点,能够完成对准调制信号的数字化高精度解调。

    高稳定偏振保持合束装置及方法

    公开(公告)号:CN110927880B

    公开(公告)日:2021-06-18

    申请号:CN201911212132.X

    申请日:2019-11-28

    IPC分类号: G02B6/26

    摘要: 一种偏振保持合束装置,所述合束装置包括若干光源、N个单模保偏光纤、N个光纤准直器、光纤耦合器和合束棱镜;其中,若干光源分别发出不同波长的线偏振光,分别耦合入N个单模保偏光纤中传输,并经过N个光纤准直器后输出不同波长的线偏振准直光束并进入合束棱镜,经合束棱镜合束后,通过光纤耦合器耦合入单模保偏光纤中,再经过光纤准直器后输出包含不同波长的一束偏振准直光。本发明的高稳定偏振保持合束装置及方法,可将多束不同波长的线偏振光合成一束含不同波长的同轴输出光束,且多个波长光束的偏振态保持高度一致。

    干涉成像系统
    10.
    发明授权

    公开(公告)号:CN110307781B

    公开(公告)日:2021-05-25

    申请号:CN201910452746.9

    申请日:2019-05-28

    IPC分类号: G01B9/06 G01B9/02

    摘要: 本申请公开了一种干涉成像系统,包括依次连接的光场离散部件、离散光场干涉部件以及图像重构部件。该光场离散部件包括至少一个线性微镜阵列,该线性微镜阵列包括多个微镜,多个微镜按照预设干涉基线设计方案两两配对构成微镜对,每个微镜对中两个微镜的间距为干涉基线长度,所述预设干涉基线设计方案,涵盖了长度为最短干涉基线长度整数倍数的全部干涉基线,因此,采用本方案中的干涉基线设计方案的干涉成像系统扩大了频域空间的覆盖面积,从而减少了频域信息的丢失,提高了重构图像的质量。