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公开(公告)号：CN103108481B
公开(公告)日：2016-03-30
申请号：CN201210505346.8
申请日：2012-11-30
申请人： 中国科学院微电子研究所
摘要： 本发明公开了一种集光系统防污染保护装置，用于一种集光系统中，所述集光系统包括：一激光源，一真空腔，一集光镜，所述集光系统防污染保护装置包括：一供气管路，用于传输压力气体；至少一通气孔，位于所述供气管路上，用于喷射所述压力气体；至少一气源，与所述供气管路连接，用于给所述供气管路提供压力气体；其中，所述通气孔与所述通过气路连通，实现通过所述压力气体将所述真空腔中的污染物吹离所述集光镜。本发明能够在激光源和集光镜之间通入背离集光镜内表面的气流，进而实现通过气流将光源中的污染物吹离集光镜，从而防止集光镜被污染物污染，达到延长集光镜使用寿面的目的。
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公开(公告)号：CN103268058A
公开(公告)日：2013-08-28
申请号：CN201310172932.X
申请日：2013-05-10
申请人： 中国科学院微电子研究所
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 本发明公开了一种用于EUV真空环境中的电子学装置，位于一真空腔中，所述真空腔用于提供EUV光存在环境，所述电子学装置包括：一电子学系统，所述电子学系统位于所述真空腔内，且所述电子学系统用于实现EUV光刻系统的电子学功能；一密封壳体，所述密封壳体位于真空腔内，且所述密封壳体用于密封所述电子学系统，阻挡所述电子学系统所形成的污染物进入所述真空腔中。该装置能够有效的避免电子学系统产生的污染物进入EUV真空腔中，减少了对EUV真空环境的污染，保证了EUV光的传输效率；通过温控器和导热件对密封壳体内的电子学系统的控温作用，保证电子学系统的正常工作。
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公开(公告)号：CN103108481A
公开(公告)日：2013-05-15
申请号：CN201210505346.8
申请日：2012-11-30
申请人： 中国科学院微电子研究所
摘要： 本发明公开了一种集光系统防污染保护装置，用于一种集光系统中，所述集光系统包括：一激光源，一真空腔，一集光镜，所述集光系统防污染保护装置包括：一供气管路，用于传输压力气体；至少一通气孔，位于所述供气管路上，用于喷射所述压力气体；至少一气源，与所述供气管路连接，用于给所述供气管路提供压力气体；其中，所述通气孔与所述通过气路连通，实现通过所述压力气体将所述真空腔中的污染物吹离所述集光镜。本发明能够在激光源和集光镜之间通入背离集光镜内表面的气流，进而实现通过气流将光源中的污染物吹离集光镜，从而防止集光镜被污染物污染，达到延长集光镜使用寿命的目的。
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公开(公告)号：CN110941075B
公开(公告)日：2022-07-05
申请号：CN201911212108.6
申请日：2019-11-28
申请人： 中国科学院微电子研究所
摘要： 一种反射式光学系统及其装调测试方法，该反射式光学系统包括镜筒，其中，镜筒顶部设有主镜；镜筒底部设有次镜，次镜上设有进光孔和出光孔；镜筒侧壁上设有便于三坐标探针伸入的探针孔；镜筒上设有法兰面，作为三坐标测量的基准面。本发明提出的一体化装配结合三坐标测量的装调方法，测量更加直接，能够提高系统装配精度以及系统可靠性、稳定性。
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公开(公告)号：CN110941075A
公开(公告)日：2020-03-31
申请号：CN201911212108.6
申请日：2019-11-28
申请人： 中国科学院微电子研究所
摘要： 一种反射式光学系统及其装调测试方法，该反射式光学系统包括镜筒，其中，镜筒顶部设有主镜；镜筒底部设有次镜，次镜上设有进光孔和出光孔；镜筒侧壁上设有便于三坐标探针伸入的探针孔；镜筒上设有法兰面，作为三坐标测量的基准面。本发明提出的一体化装配结合三坐标测量的装调方法，测量更加直接，能够提高系统装配精度以及系统可靠性、稳定性。
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公开(公告)号：CN110908249A
公开(公告)日：2020-03-24
申请号：CN201911212715.2
申请日：2019-11-29
申请人： 中国科学院微电子研究所
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 一种用于EUV真空环境中的光传输装置及光刻机，用于EUV真空环境中的光传输装置包括：光纤连接器，设置通孔；通光介质，设置于所述光纤连接器的通孔内；两光纤束，分别连接于所述光纤连接器的两侧，且两所述光纤束分别与所述通光介质的中心对准，实现分段的光纤束之间的光的传输。本发明设计两段光纤束来解决整根光纤束不利于装配、维护以及存在断纤的风险的问题；通过光纤连接器以及光纤连接器上设置的通光介质实现两段光纤束的导通，连接方式可靠，并且应用于EUV光刻机中，解决了真空腔内外光传输的问题，提高了光纤束与光刻机的连接可靠性，降低了维修风险。
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公开(公告)号：CN103487593A
公开(公告)日：2014-01-01
申请号：CN201310430575.2
申请日：2013-09-18
申请人： 中国科学院微电子研究所
摘要： 本发明提供一种具有原位标定功能的气体分析装置。所述装置包括：取样室，与待测腔室通过第一阀门相连，用于引入待测腔室的样品气体；分析室，与取样室通过第二阀门相连，分析室上设有真空规管，用于监测分析室的真空度；气体分析器，设于分析室内，用于对待分析气体进行分析测试；标定模块，用于向气体分析器提供标准气体，对气体分析装置进行定量标定。本发明还提供一种气体分析方法。本发明通过标定模块对气体分析装置进行定期标定，通过加热器进行烘烤除气，并通过吹扫放气模块进行气体吹扫及保护气充入，保持系统持续具备良好的测试本底，保证测试准确性，可实现十亿分之一量级的气体浓度测试，尤其适用于对EUV真空环境进行气体分析检测。
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公开(公告)号：CN103486974A
公开(公告)日：2014-01-01
申请号：CN201310436198.3
申请日：2013-09-23
申请人： 中国科学院微电子研究所
IPC分类号： G01B11/06
摘要： 本发明公开了一种光谱椭偏测量装置及方法，属于光学测量技术领域，本发明包括：光源，用于为膜层的厚度变化量的测量提供测量光束；光谱偏振消光器，用于接收测量光束，并输出含有第一厚度变化量的第一偏振消光光束和第二厚度变化量的第二偏振消光光束；光谱消光探测器，用于接收第一偏振消光光束和第二偏振消光光束，并根据第一偏振消光光束和第二偏振消光光束来分别实现对膜层的第一厚度变化量和第二厚度变化量的测量；光学多路复用器，用于提供光源与光谱偏振消光器之间的光学多路复用、以及光谱偏振消光器与光谱消光探测器之间的光学多路复用。本发明通过采用光学多路复用技术，实现测量效率高、自动化水平高地测量多处位置的膜层厚度变化量。
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公开(公告)号：CN113359261B
公开(公告)日：2023-02-28
申请号：CN202110519753.3
申请日：2021-05-12
申请人： 中国科学院微电子研究所
IPC分类号： G02B7/00
摘要： 本公开提供一种真空兼容的平面光学元件调整装置，包括：平面光学元件，包括相互垂直的光学面、侧面和底面；第一调节支架，与平面光学元件连接，能够在所述光学面所在平面内移动所述平面光学元件；第二调节支架，与所述第一调节支架连接，能够在所述侧面所在平面内移动所述平面光学元件。实现了光学元件空间直角坐标系的三个标准方向平移及绕标准方向旋转的调节；实现增加调节支架的数量，即可进一步增加光学元件的调节维度；结构通透，能够在真空环境下的使用。
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公开(公告)号：CN111059208A
公开(公告)日：2020-04-24
申请号：CN201911211537.1
申请日：2019-11-29
申请人： 中国科学院微电子研究所
摘要： 本发明提供了一种振动隔离装置，包括：真空腔体(1)、真空腔体(1)内设有主基板(2)，真空腔体(1)的一内壁与主基板(2)之间设有至少一个隔振系统(3)；隔振系统(3)包括：永磁体(31)、设置有线圈(32)的线圈架(33)、主弹簧(34)、隔板(35)以及隔板弹簧(36)；永磁体(31)的一端连接主基板(2)，线圈架(33)一端固定在隔板(35)上，永磁体(31)的部分或全部置于线圈架(33)内部，线圈架(33)与永磁体(31)之间的相对位置可调；主基板(2)、主弹簧(34)、隔板(35)、隔板弹簧(36)以及真空腔体(1)依次连接。
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